【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于大面积玻璃衬底的支撑部件。特别是，本专利技术涉及在高温处理期间用于支撑大面积玻璃衬底的支撑部件。
技术介绍
迄今为止已经在大玻璃衬底或板上制成薄膜晶体管，用于监视器、平板显示器、太阳能电池、个人数字辅助系统(PDA)、移动电话等。晶体管是通过在真空室中依次沉积包括非晶硅、掺杂和非掺杂氧化硅、氮化硅等的各种膜形成的。用于晶体管的薄膜例如可以通过化学汽相沉积(CVD)来沉积。沉积之后，很多用于晶体管制造的膜将被热处理。CVD是温度较高的工艺，其要求衬底承受的温度在300℃-400℃的数量级。可以预想更高温度的工艺，如高于500℃。已经发现在玻璃衬底上制造集成电路时可广泛使用CVD膜处理。然而，由于玻璃是易碎的和在快速加热到高温时容易弯曲或破裂的介电材料，因此必须小心调整大面积衬底的加热速度，以便避免热应力和导致损坏。目前系统都存在在处理之前对玻璃衬底进行预处理和进行后热处理操作。常规的加热腔室具有用于加热一个或多个玻璃衬底的一个或多个加热架。玻璃通常被支撑在间隔器上的搁板上，以便提高热均匀性和产量。为了是成本最低，常规间隔器通常由容易机械加工的金属...
【技术保护点】
一种衬底支撑部件，包括： 具有基部和上部的主体；和 适于接触和支撑其上衬底的上部的表面，其中该表面适于使摩擦最小和减少与支撑在其上的衬底的化学反应。
【技术特征摘要】
US 2001-5-22 60/293,009;US 2001-9-24 09/963,0201.一种衬底支撑部件，包括具有基部和上部的主体；和适于接触和支撑其上衬底的上部的表面，其中该表面适于使摩擦最小和减少与支撑在其上的衬底的化学反应。2.一种用于支撑玻璃衬底的设备，包括具有第一侧的支撑元件；和设置在支撑元件上的多个支撑部件，至少一个支撑部件包括耦合到支撑元件的第一侧的基底结构部件；和适于以与支撑元件的第一侧隔开的方式支撑玻璃衬底的圆形顶部。3.根据权利要求2的设备，其中圆形顶部具有4微英寸的粗糙度或更高的平滑度。4.根据权利要求2的设备，其中圆形顶部还包括半球形、锥形、椭圆形或抛物线形的端部。5.根据权利要求2的设备，还包括耦合到支撑元件的第一侧的多个安装杆，每个安装杆耦合到相应的支撑部件。6.根据权利要求5的设备，其中基底结构部件是中空的并接收安装杆的至少一部分。7.根据权利要求2的设备，其中多个支撑部件，还包括沿着支撑元件的至少一部分周边设置的第一组支撑部件；和至少第二组支撑部件，它们包括设置在第一组内部的至少一个支撑部件。8.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件由非金属材料构成。9.根据权利要求8的设备，其中至少一个支撑部件由石英或蓝宝石构成。10.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件由不锈钢或镍合金构成。11.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件还包括涂层。12.根据权利要求11的设备，其中涂层是氮化层。13.根据权利要求12的设备，其中圆形顶部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。14.根据权利要求11的设备，其中涂层具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。15.根据权利要求2的设备，其中至少一个支撑部件是搁板。16.一种用于支撑玻璃衬底的设备，包括具有第一侧的搁板；设置在搁板上的多个支撑部件，至少一个支撑部件包括耦合到搁板的第一侧的基底结构部件；适于以与搁板第一侧隔开的方式支撑玻璃衬底的顶部；和设置在顶部的至少尖端上的涂层。17.根据权利要求16的设备，其中顶部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。18.根据权利要求16的设备，其中顶部还包括半球形、锥形、椭圆形或抛物线形的端部。19.根据权利要求16的设备，其中顶部还包括平的中心部分。20.根据权利要求16的设备，还包括耦合到搁板的第一侧的多个安装杆，每个安装杆耦合到相应的支撑部件。21.根据权利要求20的设备，其中基底结构部件是中空的并接收安装杆的至少...
【专利技术属性】
技术研发人员：WA巴格利，EM拉米雷，SC沃尔加斯特，
申请(专利权)人：应用材料有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。