集成电路的布图设计装置、布图设计方法制造方法及图纸

技术编号:3208017 阅读:219 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种布图设计方法,用于组合包含元件单元的单元块来进行半导体集成电路的布图,其特征在于,该方法包括:    接受作为元件单元的生成对象的元件类型的输入,参照预先存储和保持了每个元件类型的元件的基本结构的基本结构数据库,取得所述输入的元件类型的元件的基本结构的步骤;    进行用于变更元件的基本结构的参数设定的步骤;以及    根据所述参数,变更所述取得的元件的基本结构并对元件单元进行布图的步骤。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于进行元件布图的布图设计装置、布图设计方法及布图设计程序。
技术介绍
在半导体集成电路的布图设计中,通过将包含在该半导体集成电路中的半导体元件作为元件单元来形成,根据电路图形成包含该元件单元的单元块,从而进行半导体集成电路的布图。图16表示典型的半导体集成电路的设计流程图。在步骤S100的系统设计步骤中,确定电路规格、工艺及芯片尺寸等系统的基本设想。在步骤S102的电路设计步骤中,确定具体的电路结构、各种常数。在步骤S104的单元块布图设计步骤中,在用于电路的每个元件中进行元件单元的布图,然后,将这些元件单元组合,进行单元块的布图。在步骤S106的整体布图设计中,通过适当配置单元块来进行集成电路整体的布图。在步骤S108的掩模生成步骤中,根据集成电路的布图,形成对应于工艺的掩模。在步骤S110的制造步骤中,使用掩模执行实际的工艺,制造半导体集成元件。在上述单元块布图设计步骤S104中,布图设计者参照电路设计步骤S102中获得的电路图,同时使用CAD等图面输入支持装置,通过输入构成元件的电极、绝缘层、掺杂区域等的坐标,进行元件单元的布图。此时,为了减轻布图设计者的负本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种布图设计方法,用于组合包含元件单元的单元块来进行半导体集成电路的布图,其特征在于,该方法包括接受作为元件单元的生成对象的元件类型的输入,参照预先存储和保持了每个元件类型的元件的基本结构的基本结构数据库,取得所述输入的元件类型的元件的基本结构的步骤;进行用于变更元件的基本结构的参数设定的步骤;以及根据所述参数,变更所述取得的元件的基本结构并对元件单元进行布图的步骤。2.一种布图设计装置,用于组合包含元件单元的单元块来进行半导体集成电路的布图,其特征在于,该布图设计装置包括基本结构取得部件,接受作为元件单元的生成对象的元件类型的输入,参照预先存储和保持了每个元件类型的元件的基本结构的基本结构数据库,取得在所述元...

【专利技术属性】
技术研发人员:岛村哲夫鹿仓康弘
申请(专利权)人:三洋电机株式会社
类型:发明
国别省市:

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