一种硅片双面抛光设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅片双面抛光设备，包括固定圆台、旋转圆台、支撑柱、两组抛光机构以及两组真空吸取机构，所述固定圆台内设置有升降液压油缸，所述升降液压油缸的活塞杆顶端固定有所述支撑柱，所述支撑柱内设置有旋转电机，所述旋转电机的输出轴顶端设置有旋转圆台，其中一组所述抛光机构和一组所述真空吸取机构设置于所述旋转圆台内，另一组抛光机构和另一组所述真空吸取机构设置于所述固定圆台内，所述抛光机构包括抛光衬垫、抛光电机、中空连杆和抛光液储存箱，所述真空吸取机构包括真空吸盘和真空气泵。本实用新型专利技术采用上述结构的一种硅片双面抛光设备，在一台机器内先后完成硅片的两面抛光，提高抛光效率。提高抛光效率。提高抛光效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片双面抛光设备


[0001]本技术涉及硅片加工设备领域，尤其是涉及一种硅片双面抛光设备。

技术介绍

[0002]单晶硅硅片是半导体行业常用的电子元件。硅片的加工流程一般为：单晶生长
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切断
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外径滚磨
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平边或V型槽处理
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切片
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倒角
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研磨腐蚀
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抛光
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清洗
‑ꢀ
包装。其中硅片抛光的目的是得到非常平整、光滑、无任何损伤的硅表面。抛光的过程类似与磨片的过程，但这个过程兼有化学反应和机械效果。抛光时采用特制的抛光衬垫和抛光液对硅片进行化学和机械的抛光，硅片的抛光面旋转，与抛光衬垫相接触。现有的硅片抛光设备往往只能对硅片的单面进行抛光，抛光效率较低。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种硅片双面抛光设备，在一台机器内先后完成硅片的两面抛光，提高抛光效率。
[0004]为实现上述目的，本技术提供了一种硅片双面抛光设备，包括固定圆台、旋转圆台、支撑柱、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片双面抛光设备，其特征在于：包括固定圆台、旋转圆台、支撑柱、两组抛光机构以及两组真空吸取机构，所述固定圆台内设置有升降液压油缸，所述升降液压油缸的活塞杆顶端固定有所述支撑柱，所述支撑柱内设置有旋转电机，所述旋转电机的输出轴顶端设置有旋转圆台，其中一组所述抛光机构和一组所述真空吸取机构设置于所述旋转圆台内，另一组抛光机构和另一组所述真空吸取机构设置于所述固定圆台内，所述抛光机构包括抛光衬垫、抛光电机、中空连杆和抛光液储存箱，所述真空吸取机构包括真空吸盘和真空气泵。2.根据权利要求1所述的一种硅片双面抛光设备，其特征在于：其中一组所述抛光机构的所述抛光液储存箱设置于所述旋转圆台内，所述中空连杆设置于所述旋转圆台下方并与所述旋转圆台转动连接，所述中空连杆的底端与所述抛光衬垫固定连接，所述中空连杆的中部设置有皮带轮，所述皮带轮上设置有传动皮带，所述中空连杆通过所述传动皮带与设置在所述旋转圆台侧面的所述抛光电机联动，所述抛光液储存箱通过抛光液管路与所述抛光衬垫相连通，所述抛光液管路穿过所述中空连杆进入所述抛光衬垫内。3.根据权利要求2所述的一种硅片双面抛光设备，其特征在于：另一组所述抛光机构的所述抛光液储存箱设置于所述固定圆台内，另一所述中空连杆设置于所述固定圆台上方并与所述固定圆台转动连接，所述中空连杆的顶端与另一所述抛光衬垫固定连接，所述中空连杆的中部设置有另一所述皮带轮，所述皮带轮上设...

【专利技术属性】
技术研发人员：万关良，
申请(专利权)人：永清县良晶半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：