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本实用新型公开了一种硅片双面抛光设备，包括固定圆台、旋转圆台、支撑柱、两组抛光机构以及两组真空吸取机构，所述固定圆台内设置有升降液压油缸，所述升降液压油缸的活塞杆顶端固定有所述支撑柱，所述支撑柱内设置有旋转电机，所述旋转电机的输出轴顶端设置...
该专利属于永清县良晶半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过永清县良晶半导体设备有限公司授权不得商用。

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