【技术实现步骤摘要】
本专利技术通常涉及通过补偿方法获得改进的图像的技术。本专利技术尤其涉及一种在一个空间光调制器(SLM)中补偿缺陷像素的方法，这种方法用于光学平版印刷术。本专利技术还涉及一种用于以图案装饰一个工件的装置，这一装置包括这样一种方法和一种用于检测缺陷像素的方法。
技术介绍
平版印刷制造可用于集成电路、掩模、光栅、平板显示器、微机械或微光学器件、以及包装设备，例如引线框和MCM。平版印刷制造可能涉及一种把一个主模从一个计算机控制的光栅映像到一个工件上的光学系统。一个合适的工件可以包括一个对电磁辐射，例如可见或不可见光，敏感的层。与本专利技术的专利技术者和申请者相同的WO 9945435中描述了这样一个系统的一个实例。所述计算机控制的光栅可以为一个空间光调制器(SLM)，其包括基于格栅效应、干涉效应、或机械元件(例如遮光器)的可移动反光微镜一或二维数组或矩阵、透射LCD晶体一或二维数组或矩阵、或其它类似可编程一或二维数组。通常，可以按不同种方式把这些计算机控制的光栅用于图像的形成。这些光栅，例如SLM，包括许多调制元素或像素，在某些情况下，为百万或更多像素。例如，与空间光调制器相关的一个问题是，在一个给定的SLM中一个或多个像素可能是有缺陷的，即它们不能按人们的意图响应一个控制信号。计算机控制的光栅中的这些缺陷像素，在它们用于光学成像时，可能会限制分辨率和有效精度。例如，工件上印刷图案的制作，就其线宽和精度而言，可能会受到限制。因此，这一
中，存在着对一种有效和精确发现与补偿SLM中缺陷像素的方法的需求。
技术实现思路
从以上所描述的背景来看，对SLM中缺陷像...
【技术保护点】
一种在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个ＳＬＭ的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器（ＳＬＭ）中具有一个已知位置的缺陷像素的影响的方法，包括下列动作： －提供一个用于发射电磁辐射的源， －通过所述辐射照射至少一个拥有多个调制元素（像素）的所述ＳＬＭ， －在一个书写工序中把所述调制器上的一个图像投射在所述工件上， －在至少另一个书写工序中对缺陷像素进行补偿。
【技术特征摘要】
US 2001-11-28 09/995,5261.一种在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器(SLM)中具有一个已知位置的缺陷像素的影响的方法，包括下列动作-提供一个用于发射电磁辐射的源，-通过所述辐射照射至少一个拥有多个调制元素(像素)的所述SLM，-在一个书写工序中把所述调制器上的一个图像投射在所述工件上，-在至少另一个书写工序中对缺陷像素进行补偿。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述电磁辐射为一个脉冲激光源。3.根据权利要求1所述的方法，其中，使用一个针对每一缺陷像素的单一补偿像素对所述至少一个缺陷像素进行补偿。4.根据权利要求1所述的方法，其中，使用多个针对每一缺陷像素的补偿像素对所述至少一个缺陷像素进行补偿。5.根据权利要求1所述的方法，其中，在不同的书写工序中，使用等价的辐射剂量对所述至少一个SLM进行照射。6.根据权利要求1所述的方法，其中，在不同的书写工序中，使用不同的辐射强度对所述至少一个SLM进行照射。7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个SLM为一个透射空间光调制器。8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个SLM为一个反射空间光调制器。9.根据权利要求1所述的方法，其中，按模拟方式操作所述至少一个SLM中的像素。10.一种在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器(SLM)中具有一个已知位置的缺陷像素的影响的方法，包括下列动作-提供一个发射电磁辐射的源，-通过所述辐射照射拥有多个调制元素(像素)的所述至少一个SLM，-把所述至少一个SLM的一个图像投射在检测器设置上，以测量辐射剂量，-在所述至少一个SLM中使用最邻近像素至少之一对所述缺陷像素进行补偿。11.根据权利要求10所述的方法，其中，通过把一个意图像素值减去一个实际像素值，除以用于补偿的最邻近像素的个数，所得到的一个值分配给所述最邻近像素至少之一的每一个，进行所述补偿。12.一种在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器(SLM)中缺陷像素的影响的方法，包括下列动作-按一个预确定状态在所述至少一个SLM中设置像素，-通过一个辐射源照射所述至少一个SLM，-把所述至少一个SLM的图像投射在一个测量设备上，-测量像素的剂量，-标识缺陷像素，-在至少一个书写工序中，通过除所述缺陷像素之外的所述至少一个SLM中的像素对所述缺陷像素进行补偿。13.一种在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器(SLM)中具有一个已知位置的缺陷像素的影响的方法，包括下列动作-提供一个用于发射电磁辐射的源，-通过所述辐射照射拥有多个调制元素(像素)的所述至少一个SLM，-在一个第一书写工序中使用所述至少一个SLM中的一个第一像素集合把所述调制器的一个图像投射在所述工件上，-使用至少一个前书写工序中的至少一个补偿像素对至少一个相继书写工序中的至少一个缺陷像素进行预补偿，-在至少一个第二书写工序中使用所述至少一个SLM中的至少一个第二像素集合把所述调制器的一个所述图像投射在所述工件上。14.根据权利要求13所述的方法，还包括这样的一个动作-使用至少一个相继书写工序中的至少一个补偿像素对至少一个前书写步骤中的至少一个缺陷像素进行后补偿。15.一种在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器(SLM)中具有一个已知位置的缺陷像素的影响的方法，包括下列动作-提供一个用于发射电磁辐射的源，-通过所述辐射照射拥有多个调制元素(像素)的所述至少一个SLM，-在一个第一书写工序中使用所述至少一个SLM中的一个第一像素集合把所述调制器的一个图像投射在所述工件上，-使用至少一个相继书写工序中的至少一个补偿像素对至少一个前书写工序中的至少一个缺陷像素进行后补偿，-在至少一个第二书写工序中使用所述至少一个SLM中的至少一个第二像素集合把所述调制器的一个所述图像投射在所述工件上。16.根据权利要求15所述的方法，还包括这样的一个动作-使用至少一个前书写工序中的至少一个补偿像素对至少一个相继书写步骤中的至少一个缺陷像素进行预补偿。17.根据权利要求13或15所述的方法，其中，所述电磁辐射为一个脉冲激光源。18.根据权利要求13或15所述的方法，还包括下列动作-把所述第一像素集合中的至少一个像素包括在所述至少第二像素集合中。19.根据权利要求13或15所述的方法，其中，使用一个针对每一缺陷像素的单一补偿像素对所述至少一个缺陷像素进行补偿。20.根据权利要求13或15所述的方法，其中，使用多个针对每一缺陷像素的补偿像素对所述至少一个缺陷像素进行补偿。21.根据权利要求13或15所述的方法，其中，在不同的书写工序中，使用相同的辐射剂量对所述至少一个SLM进行照射。22.根据权利要求13或15所述的方法，其中，在不同的书写工序中，使用不同的辐射剂量对所述至少一个SLM进行照射。23.根据权利要求13或15所述的方法，其中，所述至少一个SLM为一个透射空间光调制器。24.根据权利要求13或15所述的方法，其中，所述至少一个SLM为一个反射空间光调制器。25.根据权利要求13或15所述的方法，其中，按模拟方式操作所述至少一个SLM中的像素。26.根据权利要求13或15所述的方法，其中，把所述第一书写工序中的所述像素的一个图像相对所述第二书写工序中的所述像素的所述图像在所述至少一个SLM中位移一或多个像素。27.根据权利要求13或15所述的方法，其中，把所述第一书写工序中的所述像素的一个图像相对所述第二书写工序中的所述像素的所述图像在所述工件上位移一个像素的至少一部分。28.根据权利要求13或15所述的方法，其中，所述第一像素集合属于一个第一SLM，所述第二像素集合属于一个第二SLM。29.根据权利要求28所述的方法，其中，同时照射所述第一和第二SLM。30.根据权利要求29所述的方法，其中，使用不同的辐射强度照射所述第一和第二SLM。31.一种在覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个空间光调制器(SLM)中具有一个已知位置的缺陷像素的影响的方法，包括下列动作-破裂和绘制将被印刷的图案，-计算针对至少一个SLM像素的曝光值，-定位坏像素，-判断所述坏像素是否位于一个关键位置，-提供一个用于发射电磁辐射的源，-通过所述辐射照射拥有多个调制元素(像素)的所述至少一个SLM。-补偿在关键位置的怀像素32.一种在至少部分地覆盖有对电磁辐射敏感的一个层的工件上创建所述至少一个SLM的一个图案时，用于补偿至少一个在至少一个...
【专利技术属性】
技术研发人员：托布乔尔恩桑兹特罗姆，
申请(专利权)人：麦克罗尼克激光系统公司，
类型：发明
国别省市：SE[瑞典]
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