【技术实现步骤摘要】
半导体结构的形成方法及半导体结构
[0001]本申请涉及半导体结构制造领域,特别涉及一种半导体结构的形成方法及半导体结构。
技术介绍
[0002]动态随机存取存储器(Dynamic Random Access Memory,DRAM)的发展追求高速度、高集成密度和低功耗等;随着技术的进步,半导体器件结构尺寸逐渐微缩,尤其是在关键尺寸小于15nm的DRAM制造过程中,图形化需要形成的图案间距减小,图案的制作难度增大,且容易发生短路/断路问题。
技术实现思路
[0003]本申请实施例提供一种半导体结构的形成方法及半导体结构,基于多次图形化形成预设图案,从而增大单次图形化所需形成的图形的间距,避免图形化形成的图案发生短路/断路的问题。
[0004]本申请实施例具体提供了一种半导体结构的形成方法,包括:提供包括阵列区和核心区的衬底,衬底表面覆盖有导电层;依次形成覆盖导电层表面的第一中间层和第一牺牲层;在第一牺牲层表面形成具有第一图案和第二图案的第一图形层,第一图案位于核心区,第二图案位于阵列区,包括在第一方向延伸且在垂直于第一方向上间隔排布的横条;基于第一图形层,图形化第一牺牲层和第一中间层,将第一图案和第二图案转移至第一中间层中;形成填充且覆盖第一图案和第二图案间隙的第二牺牲层,并在第二牺牲层表面依次覆盖第二中间层和第三牺牲层;在第三牺牲层表面形成具有第三图案和第四图案的第二图形层,第三图案位于核心区,且与第一图案的位置不同,第四图案位于阵列区,包括在第二方向延伸且在垂直于第二方向上间隔排布的横条, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体结构的形成方法,其特征在于,包括:提供包括阵列区和核心区的衬底,所述衬底表面覆盖有导电层;依次形成覆盖所述导电层表面的第一中间层和第一牺牲层;在所述第一牺牲层表面形成具有第一图案和第二图案的第一图形层,所述第一图案位于所述核心区,所述第二图案位于所述阵列区,包括在第一方向延伸且在垂直于第一方向上间隔排布的横条;基于所述第一图形层,图形化所述第一牺牲层和所述第一中间层,将所述第一图案和所述第二图案转移至所述第一中间层中;形成填充且覆盖所述第一图案和所述第二图案间隙的第二牺牲层,并在所述第二牺牲层表面依次覆盖第二中间层和第三牺牲层;在所述第三牺牲层表面形成具有第三图案和第四图案的第二图形层,所述第三图案位于所述核心区,且与第一图案的位置不同,所述第四图案位于所述阵列区,包括在第二方向延伸且在垂直于所述第二方向上间隔排布的横条,所述第一方向和第二方向相交;基于所述第二图形层,图形化所述第三牺牲层和所述第二中间层,将所述第三图案和所述第四图案转移至所述第二中间层中;将所述第一图案、所述第二图案、所述第三图案和所述第四图案转移至所述导电层中。2.根据权利要求1所述的半导体结构的形成方法,其特征在于,所述在所述第一牺牲层表面形成具有第一图案和第二图案的第一图形层,基于所述第一图形层,图形化所述第一牺牲层和所述第一中间层,将所述第一图案和所述第二图案转移至所述第一中间层中,包括:在所述第一牺牲层表面形成具有第一图案和第五图案的第一子图形层,所述第五图案位于所述阵列区,包括在第一方向延伸且在垂直于第一方向上间隔排布的横条,且横条之间的间距大于所述第二图案中横条之间的间距;基于所述第一子图形层,图形化所述第一牺牲层,将所述第一图案和所述第五图案转移至所述第一牺牲层中;基于所述第五图案,通过自对准双重成像工艺,形成位于所述阵列区的所述第一中间层中的所述第二图案;基于所述第一图案,图形化所述第一中间层,将所述第一图案转移至所述第一中间层中。3.根据权利要求2所述的半导体结构的形成方法,其特征在于,所述基于所述第五图案,通过自对准双重成像工艺,形成位于所述阵列区的所述第一中间层中的所述第二图案,包括:基于第一沉积材料,在所述第一图案和所述第五图案的表面镀膜,所述第一沉积材料与所述第一中间层的材料相同;形成填充所述第一牺牲层间隙的第一子牺牲层,所述第一子牺牲层还覆盖所述核心区的所述第一图案,所述第一子牺牲层的材料与所述第一牺牲层的材料相同;去除所述阵列区中的所述第一沉积材料,剩余部分的阵列区图案构成所述第二图案;基于所述第二图案,将所述第二图案转移至所述第一中间层中,并去除暴露出的所述第一牺牲层和所述第一子牺牲层,以暴露出位于所述核心区的所述第一沉积材料。
4.根据权利要求1所述的半导体结构的形成方法,其特征在于,所述在所述第三牺牲层表面形成具有第三图案和第四图案的第二图形层,基于所述第二图形层,图形化所述第三牺牲层和所述第二中间层,将所述第三图案和所述第四图案转移至所述第二中间层中,包括:在所述第三牺牲层表面形成具有第三图案和第六图案的第二子图形层,所述第六图案位于所述阵列区,包括在第二方向延伸且垂直于第二方向上间隔排布的横条,且横条之间的间距大于所述第四图案中横条之间的间距;基于所述第二子图形层,图形化所述第三牺牲层,将所述第三图案和所述第六图案转移至所述第三牺牲层中;基于所述第六图案,通过自对准双重成像工艺,形成位于所述阵列区的所述第二中间层中的所述第四图案;基于所述第三图案,图形化所述第二中间层,将所述第三图案转移至所述第二中间层...
【专利技术属性】
技术研发人员:于业笑,
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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