湿式清洁工艺的监测设备及其监控方法技术

一湿式清洁工艺的监测设备，用于具有至少一清洁刷手臂及一流体提供单元的一湿式清洁机台，当该手臂清洁晶片时，流体提供单元提供一流体于晶片，监测设备至少包含：手臂位置感测器连接于清洁刷手臂，当清洁刷手臂清洁该物件时，手臂位置感测器被启动，及至少一流量感测单元连接于流体提供单元，当该感测器被启动时，流量感测单元被启动，以监测流体提供单元，其中，流量感测单元至少包含：发射端、接收端及浮动元件，接收端对应发射端设置，且可接收由发射端发射出的信号，浮动元件设在发射端与接收端之间，且浮动元件可相对应流体的流量变化改变位置，当流量不足时，浮动元件阻隔由发射端发射出的信号，使接收端接收不到由发射端发射出的信号。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种监测设备及其监控方法特别涉及一种用于湿式清洁工艺中，感测流量的装置及其方法。
技术介绍
现有的半导体机台清洁晶片时，是利用清洁手臂控制清洁刷毛来进行清洁晶片的动作，并利用流量感测器(flow-meter)控制清洁水的流量，但半导体机台进行清洁晶片的过程中，并未设计任何警告的系统，当清洁水的流量过少或是缺水时，半导体机台清洁晶片的动作还是持续进行，造成晶片表面的干刷，使晶片整片报废而提高制造成本；且如果线上品管未在清洁完成后，发现晶片表面的颗粒或缺陷已超过安全范围，便将晶片送入后续工艺步骤，则更是整批报废，不但耗费时间人力成本，且浪费工艺所需的材料。综观以上所述，现有的半导体机台清洁晶片时，至少存在以下缺点一、现有的半导体机台清洁晶片时，并未设计任何警告的系统来监测清洁水的流量，造成线上自动化生产品管的严重的缺陷。二、现有的半导体机台清洁晶片的方式，必须在清洁晶片完成之后，加上一晶片检测的动作，以确定晶片表面的颗粒或缺陷在安全范围内，进而增加生产所需的步骤，降低产能。三、现有的半导体机台清洁晶片的方式，容易造成晶片的耗损，进而增加制造成本，影响公司的市场竞争力及占有率。四、现有的半导体机台清洁晶片的方式，容易忽略晶片表面的颗粒或缺陷已超过安全范围，在后续工艺步骤完成后，才发现良率降低或是整批报废，不但耗费时间人力成本，且浪费材料成本，进而增加制造材料的成本，降低市场竞争力。
技术实现思路
有鉴于现有技术的缺失，本专利技术的目的在于提供一种，可有效监测半导体机台进行清洁晶片时的状态，当半导体机台的清洁水的流量异常时便会发出警告信号，以确保半导体机台的清洁水流量正常，并维持线上自动化生产流畅。本专利技术的另一目的在于提供一种，使半导体机台在清洁晶片完成之后，无须增加晶片检测的动作，即可确保晶片表面的清洁度，以达增加产能的目的。本专利技术的再一目的在于提供一种，以确保晶片清洁时的良率，降低晶片的耗损量，进而降低制造成本，增加公司的市场竞争力及占有率。本专利技术的又一目的在于提供一种，可确保晶片进行后续工艺前的表面清洁状态，以提高后段工艺的良率，避免不良品的产生，以降低时间人力成本以及材料成本，提高市场竞争力。为达上述目的，本专利技术的湿式清洁工艺的监测设备的一较佳实施例中，主要是应用于具有至少一清洁刷手臂及至少一流体提供单元的一湿式清洁机台中，且当清洁刷手臂进行清洁物件(晶片)时，流体提供单元也同时提供一流体于物件(晶片)，而监测设备至少包含有一手臂位置感测器连接于该清洁刷手臂，且当清洁刷手臂进行清洁该物件时，手臂位置感测器同时被启动，以及至少一流量感测单元连接于流体提供单元，当手臂位置感测器被启动时，流量感测单元同时被启动，以监测流体提供单元，其中，流量感测单元至少包含一发射端、一接收端及一浮动元件，其中接收端是相对应发射端设置，且可接收由发射端发射出的信号，而浮动元件是设在发射端与接收端之间，且浮动元件可相对应流体的流量变化而改变位置，当流体的流量不足时，浮动元件会阻隔由发射端发射出的信号，使接收端接收不到由发射端发射出的信号。通常手臂位置感测器及流量感测单元，可以采用红外线感测、激光感测或其它常用的感测方法，来进行感测的动作。本专利技术的湿式清洁工艺的监控方法的一较佳实施例中，应用于具有至少一清洁刷手臂及至少一流体提供单元的湿式清洁机台中，而本专利技术的监控方法至少包含下列步骤提供一流量感测单元于清洁机台中，并连结于流体提供单元，其中流量感测单元至少包含一发射端、一接收端及一浮动元件，其中接收端是相对应发射端设置，且可接收由发射端发射出的信号，而浮动元件是设在发射端与接收端之间，且浮动元件可相对应流体的流量变化而改变位置；进行该湿式清洁工艺，利用清洁刷手臂清洁一物件(晶片)，并且同时流体提供单元也提供一流体于物件；于进行该清洁工艺时，同时启动流量感测单元以进行该流体的流量监控；其中当流体的流量不足时，流量感测单元的接收端无法接收由发射端发射的信号，流量感测单元则发出一警告信息。其中，当流量感测单元的接收端无法接收由发射端发射的信号时，更包括停止清洁机台的动作。附图说明图1是为本专利技术的湿式清洁工艺的监测设备较佳实施例示意图。图2A是为本专利技术的监测设备的流量感测单元检测流体流量正常的较佳图2B是为本专利技术的监测设备的流量感测单元检测流体流量异常的较佳图3是为本专利技术的湿式清洁工艺的监测设备较佳实施例电路示意图。图4是为本专利技术的湿式清洁工艺的监控方法较佳实施流程示意图。附图符号说明100湿式清洁设备 101清洁刷手臂102晶片 103a、103b流体提供单元104检测器 105手臂位置感测器106a、106b流量感测单元105a、202发射端 105b、203接收端200浮动元件 201信号400提供流量感测单元于清洁机台中401进行湿式清洁工艺402检测湿式清洁工艺的流体流量是否不足403流量感测单元发出一警告信号，并停止清洁机台的动作404清洁机台继续湿式清洁工艺 具体实施例方式为了能对本专利技术的特征、目的及功能有更进一步的认知与了解，兹配合附图细说明如后。如图1所示，其是为本专利技术的湿式清洁工艺的监测设备较佳实施例示意图，湿式清洁设备100，是于一清洁工艺中提供流体(图中未示)于一待清洁物件(通常此处所指的物件是为晶片102)的表面，而本专利技术的监测设备主要是应用于具有至少一清洁刷手臂101及流体提供单元103a、103b的湿式清洁设备100中，且当清洁刷手臂101进行清洁晶片102时，流体提供单元103a、103b也同时提供流体于晶片102上，而监测设备至少包含有一手臂位置感测器105连接于清洁刷手臂101，且当清洁刷手臂101进行清洁晶片102时，手臂位置感测器105同时被启动，当手臂位置感测器105被启动时，分别连接于流体提供单元103a、103b的流量感测单元106a、106b亦同时被启动，进行监测流体提供单元103a、103b所提供的流体流量是否正常，当流量感测单元106a或106b任何一个检测出由流体提供单元103a或103b喷出的流体流量异常时，流量感测单元106a或106b便会发出信号通知检测器104，使湿式清洁设备100停止作动。通常手臂位置感测器105是由发射端105a及接收端105b所组成，而手臂位置感测器105一般都是采用红外线感测、激光感测或其它常用的感测方法，来进行感测清洁刷手臂101是否进行清洁的动作。图2A是为本专利技术的监测设备的流量感测单元检测流体流量正常的较佳实施例示意图，图2B是为本专利技术的监测设备的流量感测单元检测流体流量异常的较佳实施例示意图。如图2A所示，流量感测单元106a至少包含一发射端202、一接收端203及一浮动元件200，其中接收端203是相对应发射端202设置，且可接收由发射端202发射出的信号201，而浮动元件200是设在发射端202与接收端203之间，且浮动元件200可相对应流体的流量变化而改变位置，故当流体流量正常时，浮动元件200并不会阻隔由发射端202发射出的信号201。如图2B所示，当流体流量异常时，浮动元件200便会阻隔由发射端202发射出的信号201，使接收端203接收不到由发射端202发射出的信号201，此时流量感测单元106本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种湿式清洁工艺的监测设备，是应用于具有至少一清洁刷手臂及至少一流体提供单元的一湿式清洁机台中，且当该清洁刷手臂进行清洁一物件时，该流体提供单元也同时提供一流体于该物件，而该监测设备至少包含：一手臂位置感测器连接于该清洁刷手臂，且当 该清洁刷手臂进行清洁该物件时，该手臂位置感测器同时被启动；至少一流量感测单元连接于该流体提供单元，当该手臂位置感测器被启动时，该流量感测单元同时被启动，以监测该流体提供单元，其中，该流量感测单元至少包含：一发射端；一 接收端，其是相对应该发射端设置，且可接收由该发射端发射出的信号；以及一浮动元件，其是设在该发射端与该接收端之间，且该浮动元件可相对应该流体的流量变化而改变位置，当该流体的流量不足时，该浮动元件会阻隔由该发射端发射出的信号，使该接收端 接收不到由该发射端发射出的信号。

【技术特征摘要】
1.一种湿式清洁工艺的监测设备，是应用于具有至少一清洁刷手臂及至少一流体提供单元的一湿式清洁机台中，且当该清洁刷手臂进行清洁一物件时，该流体提供单元也同时提供一流体于该物件，而该监测设备至少包含一手臂位置感测器连接于该清洁刷手臂，且当该清洁刷手臂进行清洁该物件时，该手臂位置感测器同时被启动；至少一流量感测单元连接于该流体提供单元，当该手臂位置感测器被启动时，该流量感测单元同时被启动，以监测该流体提供单元，其中，该流量感测单元至少包含一发射端；一接收端，其是相对应该发射端设置，且可接收由该发射端发射出的信号；以及一浮动元件，其是设在该发射端与该接收端之间，且该浮动元件可相对应该流体的流量变化而改变位置，当该流体的流量不足时，该浮动元件会阻隔由该发射端发射出的信号，使该接收端接收不到由该发射端发射出的信号。2.如权利要求1所述的湿式清洁工艺的监测设备，其中，该手臂位置感测器是用红外线感测。3.如权利要求1所述的湿式清洁工艺的监测设备，其中，该手臂位置感测器是用激光感测。4.如权利要求1所述的湿式清洁工艺的监测设备，其中，该流量感测单元是用红外线感测。5.如权利要求1所述的湿式清洁工艺的监测设备，其中，该流量感测单元是用激光感测。6.一种湿式清洁工艺的监控方法，应用于具有至少一清洁刷手臂及至少一流体提供单元的一湿式清洁机台中，而该监控方法至少包含提供一流量感测单元于该清洁机台中，并连结于该流体提供单元，其中该流量感测单元至少包含一发射端；一接收端，其是相对应该发射端设置，且可接收由该发射端发射出的信号；以及一浮动元件，其是...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴牧融，陈冠名，任建国，古金山，陈其瓒，
申请(专利权)人：力晶半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]