外围曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术的外围曝光装置具有下列部件：ＸＹ支承台（２），支承涂敷有抗蚀剂的印刷电路板（１）；支承ＸＹ支承台（２）的旋转工作台（３）；对印刷电路板（１）的外围进行曝光的外围曝光用光源（４）；保持外围曝光用光源（４）的滑动件（５）；检测外围曝光用光源（４）发射光强度的照度计（６）；向外围曝光用光源（４）提供驱动电流的直流电源（７）；以及控制外围曝光用光源（４）的温度的温度控制机构（８）。本发明专利技术的外围曝光装置在实现小型化、简单化的同时，能大幅度减小对曝光对象的不良影响，而且不会无谓地消耗电力，并且对曝光对象的外围区域进行曝光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于对液晶用玻璃印刷电路板、半导体晶片、感光胶片等曝光对象的外围规定位置进行曝光的外围曝光装置。
技术介绍
以往，已经有了用于对液晶用玻璃印刷电路板、半导体晶片、感光胶片等曝光对象的外围规定位置进行曝光的外围曝光装置，并在实际中应用。在液晶显示面板，或者半导体晶片等印刷电路板上形成布线图形的过程中，首先要在印刷电路板的整个面上涂敷抗蚀剂，用光刻法形成所希望的图形，并制作成布线图形，但是，一般都要在印刷电路板外围部制作几个毫米的带状空白，确定遮蔽图形的曝光位置。因此，如果在光刻工序中，使用阳性抗蚀剂，则在显像处理后，在印刷电路板外围部残留着尚未曝光的呈带状的抗蚀剂。这种残留下来的抗蚀剂，不仅是不需要的，而且在以后的制造工序中会成为粉尘，其作为降低生产能力的一个主要原因，而成为大问题。因此，必须对印刷电路板外围部上的不需要的抗蚀剂区域进行曝光和显像而去除。考虑到这个问题，一直以来，作为公知的方形印刷电路板的外围曝光装置，例如，有在日本特开平11-154639号公报，日本特开平5-190448号公报中所记载的装置。在日本特开平11-154639号公报，日本特开平5-1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种外围曝光装置，其特征在于，对应于曝光对象（１）的外围规定位置，配置了含有发射紫外光的发光二极管（４ａ）的外围曝光用光源（４）。

【技术特征摘要】
JP 2005-3-28 JP2005-0907361.一种外围曝光装置，其特征在于，对应于曝光对象(1)的外围规定位置，配置了含有发射紫外光的发光二极管(4a)的外围曝光用光源(4)。2.如权利要求1所述的外围曝光装置，其特征在于，外围曝光用光源(4)含有以保持规定的相对关系的状态排列的多个发光二极管(4a)。3.如权利要求1所述的外围曝光装置，其特征在于，外围曝光用光源(4)包含多个排列成矩阵状的发光二极管(4a)。4.如权利要求1～3任一项所述的外围曝光装置，其特征在于，还包括下列装置冷却水产生装置(8a)，提供用于冷却发...

【专利技术属性】
技术研发人员：田尾正则，谷川央树，常吉豪，
申请(专利权)人：东丽工程株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]