显影方法与显影设备技术

本发明专利技术公开一种显影设备与一种显影方法，其中显影方法包括下列步骤。首先，提供显影设备与基板，其中显影设备包括传送装置与喷头。然后，通过传送装置使基板往第一方向移动，并令喷头往相反于第一方向的第二方向移动，其中在喷头移动时，喷头所释出之显影液涂布于基板上。基于上述方法，本发明专利技术能够改善显影不均匀的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体制造工艺与设备，且特别涉及一种显影方法与设备。
技术介绍
光刻(photolithography)工艺可以说是整个半导体制造工艺中相当重要的工艺步骤。光刻工艺主要包括光刻胶涂布步骤、曝光步骤与显影步骤等，其中在显影步骤中，主要控制条件包括显影时间、显影液的浓度与温度等。图1为公知的显影方法的示意图。请参照图1，公知的显影方法包括下列步骤。首先，提供显影液供应装置102与基板100，其中显影液供应装置102之一端与管件104连接，而管件104将显影液输入至显影液供应装置102中。此外，显影液供应装置102具有多个喷头(图中未示)，用以释出显影液。将显影液供应装置102由基板100之一侧往基板100之另一侧平行移动，并同时将显影液涂布基板100之所有部位上。然后，移除基板100上的显影液，以完成公知的显影方法。值得注意的是，由于显影液供应装置102由基板100之一侧移动至另一侧需数秒钟，因此显影液涂布于基板100两侧上的时间就有数秒钟的差异，而此数秒钟的差异将造成显影不均匀的问题。然而，在大尺寸基板上进行显影液之涂布时，就容易产生显影不均匀的问题。换言之，此显影不均匀的情况，将随着基板尺寸愈加大型化而愈加严重。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种显影方法，以改善显影不均匀的现象。此外，本专利技术的另一目的在于提供一种显影设备，其对于大尺寸基板具有较佳的显影能力。基于上述目的或其它目的，本专利技术提出一种显影方法，包括下列步骤。首先，提供显影设备与基板，其中显影设备包括传送装置与喷头。然后，通过传送装置使基板往第一方向移动，并令喷头往相反于第一方向之第二方向移动，其中在喷头移动时，喷头所释出之显影液涂布于基板上。依照本专利技术的较佳实施例，上述之显影液的流量例如是介于30L/min至50L/min之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之显影液的浓度例如是介于2.37％至2.39％之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之显影液的温度例如是介于22℃至24℃之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之喷头的移动速率例如是介于2m/min至9m/min之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之基板的移动速率例如是介于2m/min至9m/min之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之方法在涂布显影液之后，还包括移除基板上之显影液。此外，移除显影液的方法例如是清洗工艺。基于上述目的或其它目的，本专利技术提出一种显影设备，其适于对于基板进行显影工艺。此显影设备包括传送装置与喷头，其中传送装置适于使得该基板往第一方向移动。喷头位于传送装置上方，而喷头适于释出显影液。当基板往第一方向移动时，喷头适于往相反于第一方向之第二方向移动，并将显影液涂布于基板上。依照本专利技术的较佳实施例，上述之显影液的流量例如是介于30L/min至50L/min之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之显影液的温度例如是介于22℃至24℃之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之喷头的移动速率例如是介于2m/min至9m/min之间。依照本专利技术的较佳实施例，上述之基板的移动速率例如是介于2m/min至9m/min之间。基于上述说明，本专利技术采用基板与喷头同时移动的方式，因此涂布时间不仅能够缩短，且显影液使用量也可以减少。此外，对于大尺寸基板而言，本专利技术还能改善显影不均匀的现象。为让本专利技术之上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。附图说明图1为公知的显影方法的示意图。图2为依照本专利技术的较佳实施例之显影方法的示意图。主要元件标记说明100、300基板102显影液供应装置104管件200显影设备210传送装置220喷头310光刻胶层具体实施方式图2为依照本专利技术的较佳实施例之显影方法的示意图。请参照图2，本实施例之显影方法包括下列步骤。首先，将基板300置于显影设备200之传送装置210上，而在基板300上已形成已曝光之光刻胶层310。此外，本实施例之传送装置210利用多个滚轮传送基板300，然而传送装置210也可以利用载盘(tray)、机械手或是其它方式传送基板300。另外，显影设备200之喷头220用以释出显影液。值得一提的是，显影设备200亦具有显影液供应装置(图中未示)，以将显影液输送至喷头220。当显影方法开始时，通过传送装置210将基板300往第一方向传送，且同时令喷头220往相反于第一方向之第二方向移动。换言之，喷头220与基板300同时移动，且方向相反。此外，在喷头220移动的过程中，喷头220将显影液涂布于基板300上，以移除光刻胶层310之部分区域。举例而言，对于光刻胶层310之材质为正光刻胶而言，显影液移除光刻胶层310之未曝光的部分。然而，对于光刻胶层310之材质为负光刻胶而言，显影液移除光刻胶层310之曝光的部分。更详细而言，喷头220的移动速率例如是介于2m/min至9m/min之间，而基板310的移动速率例如是介于2m/min至9m/min之间。随着基板310的尺寸规格不同，喷头220的移动速度与基板310的移动速度亦可采取适当的搭配。基本上，喷头220的移动速度通常大于基板310的移动速度，因此喷头220的起始位置也必须做适当的搭配，以避免基板310之部分区域未显影或是造成显影液浪费。此外，显影液的流量例如是介于30L/min至50L/min之间，而显影液的浓度例如是介于2.37％至2.39％之间，较佳为2.38％。显影液的温度；例如是介于22℃至24℃之间，较佳为23℃。对于完成显影液涂布并经过一段反应时间之后的基板300进行清洗工艺或是其它适当的工艺，以移除残存的显影液与反应物。此外，上述之反应时间乃是显影液与光刻胶层310完成反应所需的时间。另外，在显影液涂布的过程中，显影设备200通常会进行抽气，以避免水雾造成显影不良。综上所述，本专利技术之显影方法采用基板与喷头同时移动的方式，不仅能够减少显影液的涂布时间，还能改善显影不均匀的现象。此外，对于大尺寸基板而言，本专利技术还能减少显影液使用量与改善显影不均匀的现象。虽然本专利技术已以较佳实施例公开如上，然其并非用以限定本专利技术，任何所属
的技术人员，在不脱离本专利技术之精神和范围内，当可作些许之更动与改进，因此本专利技术之保护范围当以权利要求所界定者为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影方法，其特征在于包括：提供显影设备与基板，其中该显影设备包括传送装置与喷头；以及通过该传送装置使该基板往第一方向移动，并令该喷头往相反于该第一方向之第二方向移动，其中在该喷头移动时，该喷头所释出之显影液涂布于该基板上 。

【技术特征摘要】
1.一种显影方法，其特征在于包括提供显影设备与基板，其中该显影设备包括传送装置与喷头；以及通过该传送装置使该基板往第一方向移动，并令该喷头往相反于该第一方向之第二方向移动，其中在该喷头移动时，该喷头所释出之显影液涂布于该基板上。2.根据权利要求1所述之显影方法，其特征在于该显影液的流量介于30L/min至50L/min之间。3.根据权利要求1所述之显影方法，其特征在于该显影液的浓度介于2.37％至2.39％之间。4.根据权利要求1所述之显影方法，其特征在于该显影液的温度介于22℃至24℃之间。5.根据权利要求1所述之显影方法，其特征在于该喷头的移动速率介于2m/min至9m/min之间。6.根据权利要求1所述之显影方法，其特征在于该基板的移动速率介于2m/min至9m/min之间。7.根据权利要求1所述之显影方法，其特征在于该涂布该显影液之后...

【专利技术属性】
技术研发人员：詹勋凯，刘大有，
申请(专利权)人：中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]