【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基板处理装置，对设在基板上的抗蚀剂膜进行处理，其特征在于，该基板处理装置具备：保持上述基板的旋转台；以及喷嘴体，与被该旋转台保持的基板相对置地配置，混合硫酸和过氧化氢水并供给到上述基板；上述喷嘴体具备：本体部，沿上述基板的半径方向较长；第一药液供给机构，向该本体部供给上述硫酸和过氧化氢水；以及第二药液供给机构，混合由该第一药液供给机构向上述本体部供给的硫酸和过氧化氢水，从上述本体部向上述基板的几乎整个半径方向供给。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：小林信雄，樋口晃一，黑川祯明，荒井隆史，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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