【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及—种根据权利要求1的前序部分的用于将粘接在柔软薄膜上的部件分开的方法。这种方法尤其在处理半导体芯片时用于以迅速的顺序从晶片薄膜上取下多个芯片,并放置在一个底座上。其上设置有电子电路的半导体芯片在此事先从被称为晶片的硅圆盘上通过锯割分开。该晶片最迟为锯割处理而粘接于被张紧在一个框架上的晶片薄膜上,其中所述附着必须明显足够高,以避免锯割处理时破裂或者芯片分开,与此相反,在从薄膜上分开单个的芯片时该附着应该尽可能小,以避免对芯片施加过大的机械力作用。已经公知这样的方法和装置,其中所述分开处理通过可顶着薄膜加压的冲头或者挺杆来支持。根据另一种分开方法,薄膜被吸附在具有多个凹陷的支持底座上,使得在部件上的附着面积能够极大地减小,并由此减小所需要的分开力。例如这种方法在US 4 778 326或者在US 6 202 292中已作说明。最后通过US 6 561 743公开了一种上述类型的方法,其中在薄膜的平面中横向移动一个台阶。在此,所述薄膜同时被吸附在该台阶的一个较深平面上,使得在推移该台阶时薄膜被连续地从部件取下。US 2003/0075271描述了一种用于将半导体元件分开的方法和装置,其中一个分开工具具有多个彼此同心设置的环绕的接触元件,该接触元件可像望远镜一样被抽出一系列,其中抬起半导体元件,并使薄膜逐步地分开。按照JP 2001-196443,所述分开工具具有一种角锥形构造的吸附面。该吸附面由一个平坦的支架面包围。JP 63-228638描述了一种分开工具,其中一个具有比电子部件较小面积的挺杆从下方对薄膜加压。用于抓取所述部件的保持装置制造 ...
【技术保护点】
用于使被粘接在柔软薄膜(2)上的部件(1)、特别是粘接在晶片薄膜上的半导体芯片分开的方法,其中,该部件在其背离薄膜的表面(3)上用一个保持工具(4)在一个平坦的保持面上被抓住,并从薄膜抬起,其中,薄膜(2)在部件(1)的区域内如此放置在一个分开工具(5)上,使其位于一个支持平面(11)上并在该支持平面内通过至少一个支持元件(6)进行支持,并且其中薄膜借助于负压既顶着支持元件(6)又部分地被吸附到支持平面(11)之下,并且其中还给至少一个控制元件(10)提供一个控制表面,该控制表面在部件从薄膜升起前在保持负压的情况下平面平行于支持平面(11)地进行运动,其特征在于,薄膜在至少一个平坦的表面部分(8)处位于控制表面上,并且该部件首先由保持工具抓取,并且在直到在所述分开的每一次序中的抬起之前或者在保持面和表面部分之间、或者在保持面和支持元件(6)之间被夹持。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】CH 2004-5-19 869/041.用于使被粘接在柔软薄膜(2)上的部件(1)、特别是粘接在晶片薄膜上的半导体芯片分开的方法,其中,该部件在其背离薄膜的表面(3)上用一个保持工具(4)在一个平坦的保持面上被抓住,并从薄膜抬起,其中,薄膜(2)在部件(1)的区域内如此放置在一个分开工具(5)上,使其位于一个支持平面(11)上并在该支持平面内通过至少一个支持元件(6)进行支持,并且其中薄膜借助于负压既顶着支持元件(6)又部分地被吸附到支持平面(11)之下,并且其中还给至少一个控制元件(10)提供一个控制表面,该控制表面在部件从薄膜升起前在保持负压的情况下平面平行于支持平面(11)地进行运动,其特征在于,薄膜在至少一个平坦的表面部分(8)处位于控制表面上,并且该部件首先由保持工具抓取,并且在直到在所述分开的每一次序中的抬起之前或者在保持面和表面部分之间、或者在保持面和支持元件(6)之间被夹持。2.根据权利要求1的方法,其特征在于,表面部分(8)从支持平面(11)被后拉到一个分开位置(X)中,而保持工具使部件(1)受到保持,并接着将该部件从尚由支持元件(6)保持着的与薄膜的连接中分开。3.根据权利要求1的方法,其特征在于,表面部分(8)首先从支持平面(11)与保持工具同时超出支持平面向前移动,并且又重新撤回到支持平面中,接着把表面部分(8)从支持平面后拉到分开位置(X)中,而保持工具(4)保持住部件(1),并最后将该部件从尚由支持元件(6)保持着的与薄膜的连接中分开。4.根据权利要求1到3之一的方法,其特征在于,多个彼此间隔距离的表面部分同时这样运动,使得至少在两个表面部分之间设置一个支持元件。5.根据权利要求1到4之一的方法,其特征在于,薄膜(2)在支持元件(6)上的支持以点状和/或线状进行。6.根据权利要求1到5之一的方法,其特征在于,部件至少在分开过程开始时通过表面部分在其面积的至少50%上得到支持。7.根据权利要求1到6之一的方法,其特征在于,表面部分用加热装置(40)进行加热。8.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:乔基姆特林克斯,安德烈亚斯马特,沃尔夫冈赫布斯特,
申请(专利权)人:库利克和索法模压焊接有限责任公司,
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]
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