供液系统及供液方法技术方案

本发明专利技术实施例提供一种供液系统及供液方法，供液系统包括：混合槽，混合槽至少连接第一注入管道、第二注入管道和补充管道；第一注入管道以及第二注入管道分别用于向混合槽中注入第一液体和第二液体，以形成混合液体；参数获取模块，用于获取混合液体中第一液体的浓度；处理模块，基于获取的第一液体的浓度以及预设第一液体浓度，控制补充管道向混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，向混合槽中注入具有第二流量的第二液体，以使混合液体中的第一液体的浓度接近于预设第一液体浓度。通过额外设置的补充管道稳定第一液体与第二液体的供给量，使形成的混合溶液中第一液体的浓度的稳定性较高。的稳定性较高。的稳定性较高。

【技术实现步骤摘要】
供液系统及供液方法


[0001]本专利技术涉及半导体领域，特别涉及一种供液系统及供液方法。

技术介绍

[0002]目前，单片式湿式清洗刻蚀机采用刻蚀材料主要为稀释的氢氟酸(DHF)，且单片式湿式清洗刻蚀机在制程中会使用较长时间的DHF，因此DHF的浓度波动会严重影响晶圆的蚀刻量，从而直接影响产品的良率。
[0003]随着半导体工艺制程的进步，线宽越来越小，对单片式湿式清洗刻蚀机所需DHF的浓度的稳定性要求越来越高。而单片式湿式清洗刻蚀机所需DHF来源于49％浓度的氢氟酸(49％HF)与去离子水(DIW)的混合。
[0004]然而专利技术人发现，现有技术中，由于厂务端主系统压力波动，导致难以稳定49％HF与DIW的供给量，从而导致混合形成的DHF的浓度存在较大的波动，从而影响产品的良率。

技术实现思路

[0005]本专利技术实施例提供一种供液系统及供液方法，通过额外设置的补充管道稳定第一液体与第二液体的供给量，使形成的混合溶液中第一液体的浓度的稳定性较高。
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供了一种供液系统，包括：混合槽，混合槽至少连接第一注入管道、第二注入管道和补充管道；第一注入管道以及第二注入管道分别用于向混合槽中注入第一液体和第二液体，以形成混合液体；参数获取模块，用于获取混合液体中第一液体的浓度；处理模块，基于获取的第一液体的浓度以及预设第一液体浓度，控制补充管道向混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，向混合槽中注入具有第二流量的第二液体，以使混合液体中的第一液体的浓度接近于预设第一液体浓度。
[0007]与现有技术相比，第一注入管道向混合槽内注入第一液体，第二注入管道向混合槽内注入第二液体，第一液体与第二液体在混合槽中进行混合得到混合溶液，通过参数获取模块获取混合溶液中第一液体的浓度并与预设第一液体浓度进行比较，根据比较结果，通过补充管道补充第一液体或第二液体，即对混合槽中的混合液体中第一液体的浓度进行实时微调，从而使得混合形成的混合液体的浓度具有较高的稳定性。
[0008]另外，补充管道包括第三注入管道和第四注入管道；其中，控制补充管道向混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，向混合槽中注入具有第二流量的第二液体，包括：控制第三注入管道向混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，控制第四注入管道向混合槽中注入具有第二流量的第二液体。
[0009]另外，参数获取模块至少包括流量计和浓度计的其中一种。
[0010]另外，流量计包括：第一流量计，第一流量计设置在第一注入管道上，用于获取第一注入管道向混合槽注入第一液体的第三流量；第二流量计，第二流量计设置在第二注入管道上，用于获取第二注入管道向混合槽注入第二液体的第四流量；参数获取模块还包括：参数计算单元，基于第三流量和第四流量，计算混合液体中第一液体的浓度或混合液体中
第二液体的浓度。通过注入管道上的流量计，获取注入混合槽的第一液体流量和第二液体流量，再通过参数计算单元进行计算，可以准确获取混合液体中第一液体的浓度或第二液体的浓度。
[0011]另外，浓度计设置在混合槽中，用于获取混合液体中第一液体的浓度或混合液体中第二液体的浓度。通过浓度计直接进行浓度的获取，避免了数据的计算。
[0012]另外，第一限流阀门，安装在第三注入管道上，用于调节允许通过的第一液体的流量；第二限流阀门，安装在第四注入管道上，用于调节允许通过的第二液体的流量；第三限流阀门，安装在第一注入管道上，用于调节允许通过的第一液体的流量；第四限流阀门，安装在第二注入管道上，用于调节允许通过的第二液体的流量。
[0013]另外，第一限流阀门允许通过的流量范围为0.5L/min～4L/min；第二限流阀门允许通过的流量范围为0～15ml/min；第三限流阀门允许通过的流量范围为15L/min～25L/min；第四限流阀门允许通过的流量范围为20ml/min～250ml/min。
[0014]另外，第一限流阀门、第二限流阀门、第三限流阀门和第四限流阀门包括针阀或电机针反馈阀。
[0015]另外，与混合槽连接的第五注入管道和第六注入管道；第五注入管道用于向混合槽中注入第三液体，以形成混合液体；参数获取模块，还用于获取混合液体中第三液体的浓度；处理模块，还基于获取的第三液体的浓度以及预设第三液体浓度，控制第六注入管道向混合槽中注入具有第五流量的第三液体，以使第二混合液体中的第三液体的浓度接近于预设第三液体浓度。应用于多种成分的液体混合装置。
[0016]另外，第三注入管道的管径小于第一注入管道的管径，第四注入管道的管径小于第二注入管道的管径。第三注入管道和第四注入管道作为补充管道，液体的流量较小，采用管径较小的管道制成，解决制造成本。
[0017]本专利技术实施例还提供了一种供液方法，包括：获取混合液体中第一液体的浓度和预设第一液体浓度；基于获取的第一液体的浓度以及预设第一液体浓度，控制补充管道向混合槽中注入具有第一流量的第一液体或第二液体，以使混合液体中的第一液体的浓度接近于预设第一液体浓度。
[0018]相比于现有技术而言，根据比较结果，通过补充管道补充第一液体或第二液体，即对混合槽中的混合液体中第一液体的浓度或第二液体的浓度进行微调，从而使得混合形成的混合液体的浓度具有较高的稳定性。
附图说明
[0019]一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。
[0020]图1至图6为本专利技术第一实施例提供的供液系统的结构示意图；
[0021]图7为本专利技术第二实施例提供的供液系统的结构示意图；
[0022]图8为本专利技术第三实施例提供的供液系统的结构示意图；
[0023]图9为本专利技术第四实施例提供的供液系统的结构示意图。
具体实施方式
[0024]目前，对单片式湿式清洗刻蚀机的刻蚀材料进行补给的过程中，难以稳定49％HF与DIW的供给量，从而导致混合形成的DHF的浓度存在较大的波动，从而影响产品的良率。
[0025]本申请通过额外设置的补充管道稳定第一液体与第二液体的供给量，使形成的混合溶液中第一液体的浓度的稳定性较高。
[0026]为解决上述问题，本专利技术第一实施例提供了一种供液系统，包括：混合槽，混合槽至少连接第一注入管道、第二注入管道和补充管道；第一注入管道以及第二注入管道分别用于向混合槽中注入第一液体和第二液体，以形成混合液体；参数获取模块，用于获取混合液体中第一液体的浓度；处理模块，基于获取的第一液体的浓度以及预设第一液体浓度，控制补充管道向混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，向混合槽中注入具有第二流量的第二液体，以使混合液体中的第一液体的浓度接近于预设第一液体浓度。
[0027]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的各实施例进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本专利技术各实施例中，为了使读者更好地理解本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种供液系统，其特征在于，包括：混合槽，所述混合槽至少连接第一注入管道、第二注入管道和补充管道；所述第一注入管道以及所述第二注入管道分别用于向所述混合槽中注入第一液体和第二液体，以形成混合液体；参数获取模块，用于获取所述混合液体中所述第一液体的浓度；处理模块，基于获取的所述第一液体的浓度以及预设第一液体浓度，控制所述补充管道向所述混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，向所述混合槽中注入具有第二流量的第二液体，以使所述混合液体中的所述第一液体的浓度接近于所述预设第一液体浓度。2.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，所述补充管道包括第三注入管道和第四注入管道；其中，所述控制所述补充管道向所述混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，向所述混合槽中注入具有第二流量的第二液体，包括：控制所述第三注入管道向所述混合槽中注入具有第一流量的第一液体，或，控制所述第四注入管道向所述混合槽中注入具有第二流量的第二液体。3.根据权利要求1所述的供液系统，其特征在于，所述参数获取模块至少包括流量计和浓度计的其中一种。4.根据权利要求3所述的供液系统，其特征在于，所述流量计包括：第一流量计，所述第一流量计设置在所述第一注入管道上，用于获取所述第一注入管道向所述混合槽注入所述第一液体的第三流量；第二流量计，所述第二流量计设置在所述第二注入管道上，用于获取所述第二注入管道向所述混合槽注入所述第二液体的第四流量；所述参数获取模块还包括：参数计算单元，基于所述第三流量和所述第四流量，计算所述混合液体中所述第一液体的浓度或所述混合液体中所述第二液体的浓度。5.根据权利要求3所述的供液系统，其特征在于，所述浓度计设置在所述混合槽中，用于获取所述混合液体中所述第一液体的浓度或所述混合液体中所述第二液体的浓度。6.根据权利要求2所述的供液系统，其特征在于，包括：第一限流阀门，安装在所述第三注入管道上，用于调节允许通过的所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋国彪，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：