确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，该方法适用于曝光多个晶圆，其中，该方法包括如下步骤：ａ．在预先确定的区间内选择不同的透镜组系统装置受热变形修正参数；ｂ．根据选定不同的透镜组系统装置受热变形修正参数获取对应的掩模板放大参数；ｃ．选择随着曝光晶圆个数增加，掩模板放大参数变化最小的透镜组系统装置受热变形修正参数值为较佳透镜组系统装置受热变形修正参数。与现有技术相比，本发明专利技术可以更为精确获得较佳的透镜组系统装置受热变形修正参数。此外，不同类别的晶圆在不同的制程中都可以获取相应的透镜组系统装置受热变形修正参数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶圓曝光工艺，具体地说，涉及确定透镜组系统装置受热变形 修正参数的方法。
技术介绍
啄光机台中的透镜组系统装置是完全封闭的，使用时间过长就会产生热膨 胀效应，曝光的聚焦点会随透镜組系统装置热变形发生漂移，导致光程差发生 偏移，同时，对准也会发生偏移，导致晶圆上的成像发生畸变。目前通常采用曝光机台中设定合适的透镜組系统装置受热变形修正参数提 前弥补变形带来的聚焦点漂移。然而，现有技术中，透镜组系统装置受热变形修正参数通常是根据经验算 法获得的一个固定值，而且应用于各类晶圓曝光过程中。随着工艺的日益完善 和工艺要求的日益精确，固定的透镜组系统装置受热变形修正参数显然不能达 到准确的弥补作用，反而由于其不精确性会导致弥补的过大或过小，更加剧了 聚焦点的漂移。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种新的确定透镜组系统装置受热变形修正参数的 方法，其可以确定更为精确的透镜组系统装置受热变形修正参数。为实现上述目的，本专利技术提供一种，该方法适用于曝光多个晶圆，其中，该方法包括如下步骤a.在预先确 定的区间内选择不同的透镜组系统装置受热变形修正参数；b.根据选定不同的 透镜组系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，该方法适用于曝光多个晶圆，其特征在于，该方法包括如下步骤：ａ．在预先确定的区间内选择不同的透镜组系统装置受热变形修正参数；ｂ．根据选定不同的透镜组系统装置受热变形修正参数获取对应的掩模板放大参数；ｃ．选择随着曝光晶圆个数增加，掩模板放大参数变化最小的透镜组系统装置受热变形修正参数值为较佳透镜组系统装置受热变形修正参数。

【技术特征摘要】
1. 一种确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，该方法适用于曝光多个晶圆，其特征在于，该方法包括如下步骤a.在预先确定的区间内选择不同的透镜组系统装置受热变形修正参数；b.根据选定不同的透镜组系统装置受热变形修正参数获取对应的掩模板放大参数；c.选择随着曝光晶圆个数增加，掩模板放大参数变化最小的透镜组系统装置受热变形修正参数值为较佳透镜组系统装置受热变形修正参数。2、 如权利要求1所述的确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，其特征 在于掩模板放大参数表征透镜组系统装置的变形程度。3、 如权利要求1所述的确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨金坡，刘伟，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]