基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种基板处理装置以及基板处理方法，通过从基板表面良好地排除冲洗液，能够抑制或者防止产生基板表面上的条状的颗粒。该基板处理装置具有基板倾斜机构，所述基板倾斜机构使保持基板的基板保持机构上的基板倾斜。在向基板上供给冲洗液而形成液块之后，通过基板倾斜机构，使基板倾斜微小角度。这样，液块不发生破裂，并且在基板的上表面上不残留微小液滴而向下方落下。此后，基板返回水平姿势，使基板干燥。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种，用于处理代表半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED (Field Emission Display:场致发光显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基 板、光掩模用基板等的各种被处理基板。
技术介绍
在半導体装置的制造工序中，进行向作为被处理基板的半导体晶片(以 下仅称作晶片)的表面供给处理液(药液或者纯水)的处理。尤其是在 用于清洗晶片的基板清洗装置中，供给用于对晶片的表面进行清洗处理的药 液，此后供给纯水从而进行冲洗处理。因为在进行该冲洗处理之后的晶片的 表面上附着有纯水，所以为了除去该纯水，进行使晶片高速旋转而将晶片表 面的纯水甩掉的干燥处理。为进行该干燥处理而使用的典型的基板干燥装置具备旋转卡盘，其在将晶片保持为水平的状态下旋转；旋转驱动机构，其用于使该旋转卡盘高速旋转。通过该结构，利用伴随于旋转而使纯水运动的离心力甩掉纯水，实现 基板的干燥。专利文献1: JP特开平10-41270号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，例如在形成有所谓的Low-k膜(称为由介电常数小于氧化硅的材 料构成的绝缘膜)的晶片等中，晶片表面呈疏水性。因此，向晶片表面供给 纯水从而进行冲洗处理，若使旋转卡盘高速旋转，则晶片上的纯水的膜破裂 而成为多个微小液滴，该多个微小液滴在晶片表面呈放射状移动。由此，在 晶片表面上放射状地形成条状的颗粒。该条状的颗粒是一种水印，与通常意义的颗粒(晶片表面的异物)不同。 但是，用于计算晶片表面的颗粒数的颗粒计数器将这样的条状的颗粒不与通 常的颗粒相区别也计数在内。因此，出现抑制或者防止产生条状的颗粒的课题。而本专利技术的目的是提供一种，通过从基 板表面良好地排除冲洗液，抑制或者防止产生基板表面上的条状的颗粒。 用于解决问题的手段本专利技术的第一方面的基板处理装置，包含基板保持机构(1、 101)， 其以使基板(W)的一侧表面朝向上方的姿势保持基板(W);冲洗液供给 机构(15、 17、 112、 120)，其用于向在该基板保持机构上保持着的基板的 所述一侧表面(上表面)供给冲洗液；基板倾斜机构(25、 102)，其用于 使在所述基板保持机构上保持的基板从所述一侧表面沿着水平面的水平姿 势倾斜为所述一方表面相对水平面以规定角度倾斜的倾斜姿势；基板干燥装 置(2、 103)，其用于使在所述基板保持机构上保持着的基板的表面干燥。 另外，括号内的英文字母和数字表示后述的实施方式中的对应的结构要素。 以下，关于该项是相同的。根据该结构，在供给冲洗液之后通过基板倾斜机构使基板倾斜，从而能 够抑制在从基板表面排除冲洗液的过程中在基板表面上残留冲洗液的微小 液滴的情况。而且，能够通过基板干燥装置干燥基板的表面。由此，能够良 好地排除基板的表面以及整个端面区域的冲洗液。尤其，若使基板表面上的冲洗液以液块的状态向下方移动并排除，则进 一步使微小液滴不残留在基板表面上，在冲洗液呈大的液块的状态下从基板 表面排除。由此，能够在抑制或者防止产生条状的颗粒的同时，排除基板表 面的冲洗液。在此，所谓液块是在基板表面上在规定的区域内扩展的大致膜状的 液体的块。另外，最优选液块在冲洗液排除过程中呈单一状态，但是在冲洗 液排除的过程中也可以破裂为几个。g卩，在基板表面中，在至少排除了冲洗 液的区域(存在有冲洗液的液块的区域上侧的区域)中不残留微小液滴的范 围内，液块可以变为多个。处理对象的基板的表面可以是疏水性的基板也可以是亲水性的基板，但是尤其是对在表面上容易残留微小液滴的疏水性的基板更有效。作为冲洗液除了纯水以外，也有使用碳酸水、电解离子水、富氢水、磁化水等功能水、或者稀释浓度(例如lppm左右)的氨水等的情况。优选所述基板倾斜机构以使在所述基板的一侧表面上移动的所述液块的后缘以每秒3~20毫米的速度移动的方式使基板倾斜。根据该结构，通过以使在基板上冲洗液所形成的液块的后缘(液块的最上侧的边缘部)以每秒3~20毫米的速度移动的方式使基板倾斜，由此能够可靠地防止在基板表面残留微小液滴。由此，能够更有效地抑制条状的颗粒。 所述基板处理装置优选还包含抵接构件(5)，所述抵接构件在通过所述基板倾斜机构使基板倾斜时，与所述倾斜姿势的基板的下方一侧端面相抵接。根据该结构，通过与基板的下方一侧端面相抵接的抵接构件，能够引导 从基板流落的冲洗液。即，冲洗液沿抵接构件流下。由此，能够从基板表面 高效地排除冲洗液。另外，该抵接构件与基板抵接的时机可以是使基板倾斜 的期间(以下称为基板倾斜期间)中的任意时刻。例如，与基板的抵接可以 只在基板倾斜期间的初期进行，也可以只在基板倾斜期间的后期进行，也可 以在基板倾斜期间中 一直进行。所述抵接构件可以是基板保持机构所具备的基板夹持构件，也可以是与 这样的基板夹持构件分开设置的构件。另外，所述抵接构件可以是1个，也 可以是多个。最优选在使基板倾斜时与最低位置的基板端面相抵接。所述基板处理装置优选还包含控制装置(40、 110)，所述控制装置控 制所述冲洗液供给机构以及所述基板倾斜机构，使通过所述基板保持机构而 保持为水平的基板的所述一侧表面的一部分或者整个区域，由从所述冲洗液 供给机构供给的冲洗液的液膜覆盖，此后，通过所述基板倾斜机构使所述基 板倾斜。由此，形成在基板的上表面上覆盖基板的表面一部分或者整个区域 的冲洗液。尤其是，在冲洗液的液膜形成在整个区域上的情况下，基板表面 不与氧接触，另外，能够在该大的液膜的状态下转移至冲洗液的排除工序， 所以能够良好地从基板的上表面排除冲洗液。另外，在具备使保持在基板保 持机构上的基板旋转的基板旋转装置(2)的情况下，优选在基板处于停止 状态或者低速旋转状态下，在基板表面上覆盖冲洗液的液膜。优选所述控制装置还控制所述基板干燥装置，在通过所述基板倾斜机构 使所述基板倾斜从而将冲洗液从所述一侧表面排除之后，通过所述基板干燥 装置使基板上的液体成分干燥。通过该结构，在使基板倾斜从而将冲洗液从 基板的上表面排除之后，因为基板的表面被干燥，所以能够抑制或者防止在 基板的上表面上微小液滴发生移动。由此，能够抑制产生条状的颗粒。所述基板干燥装置可以包含基板旋转装置(2)，所述基板旋转装置使 在所述基板保持机构上保持着的基板旋转。此时，所述控制装置在使基板干 燥时，可以通过所述基板旋转装置使所述基板旋转，从而将在该基板的端面 上残留的液滴甩掉。通过该结构，在使基板倾斜并从基板的上表面排除冲洗 液之后，使基板旋转而甩掉其端面的微小液滴，所以能够抑制或者防止在基 板的上表面上微小液滴发生移动。由此，能够抑制产生条状的颗粒。所述控制装置可以在通过所述基板倾斜机构使所述基板倾斜从而使冲 洗液从所述一侧表面排除之后，通过所述基板倾斜机构使基板从倾斜姿势恢 复至水平姿势，此后，通过所述基板旋转装置使基板旋转，从而使在该基板 的端面上残留的液滴甩掉。通过该结构，因为在基板返回水平姿势以后通过基板旋转装置使基板旋 转，从而甩掉基板端面的液滴，所以能够防止从基板端面甩掉的液滴向基板 处理装置的斜上方飞散。另外，在使用能够保持并旋转基板的基板保持机构 作为基板旋转装置的情况下，在使基板倾斜时，不需要使基板保持机构自身 倾斜，可以只使基板倾本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，包含：　基板保持机构，其以使基板的一侧表面朝向上方的姿势保持基板；　冲洗液供给机构，其用于向该基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面供给冲洗液；　基板倾斜机构，其用于使所述基板保持机构所保持的基板从所述一侧表面沿着水平面的水平姿势倾斜为所述一侧表面相对水平面以规定角度倾斜的倾斜姿势；　基板干燥装置，其用于使所述基板保持机构所保持的基板的表面干燥。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板处理装置，其特征在于，包含基板保持机构，其以使基板的一侧表面朝向上方的姿势保持基板；冲洗液供给机构，其用于向该基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面供给冲洗液；基板倾斜机构，其用于使所述基板保持机构所保持的基板从所述一侧表面沿着水平面的水平姿势倾斜为所述一侧表面相对水平面以规定角度倾斜的倾斜姿势；基板干燥装置，其用于使所述基板保持机构所保持的基板的表面干燥。2..如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板倾斜机构以使该一侧表面上的冲洗液在该一侧表面上呈液块的状态不变而向下方移动并将其排除的方式使基板倾斜。3. 如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板倾斜机 构以使在所述基板的一侧表面上移动的所述液块的后缘以每秒3~20毫米的 速度移动的方式使基板倾斜。4. 如权利要求1至3中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于， 还包含有抵接构件，所述抵接构件在通过所述基板倾斜机构而使基板倾斜 时，与所述倾斜姿势的基板的下方一侧端面相抵接。5. 如权利要求1至4中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于， 还包含有控制装置，所述控制装置控制所述冲洗液供给机构以及所述基板倾 斜机构，将通过所述基板保持机构而保持为水平的基板的所述一侧表面的一 部分或者整个区域，用由所述冲洗液供给机构供给的冲洗液的液膜覆盖，此 后，通过所述基板倾斜机构使所述基板倾斜。6. 如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制装置还 控制所述基板干燥装置，在通过所述基板倾斜机构使所述基板倾斜从而使冲 洗液从所述一侧表面排除之后，通过所述基板干燥装置使基板上的液体成分 干燥。7. 如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板干燥装 置包含基板旋转装置，所述基板旋转装置使所述基板保持机构所保持的基板 旋转， 所述控制装置在使基板干燥时，通过所述基板旋转装置使所述基板旋 转，从而将在该基板的端面上残留的液滴甩掉。8. 如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制装置在 通过所述基板倾斜机构使所述基板倾斜从而使冲洗液从所述一侧表面排除 之后，通过所述基板倾斜机构使基板从倾斜姿势恢复至水平姿势，此后，通 过所述基板旋转装置使基板旋转，将在该基板的端面上残留的液滴甩掉。9. 如权利要求1至6中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于， 所述基板干燥装置包含有红外线产生装置，所述红外线产生装置用于向所述 基板保持机构所保持的基板照射红外线。10. 如权利要求5至9中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于， 还包含有惰性气体供给机构，所述惰性气体供给机构用于向所述基板保持机 构所保持的基板的所述一侧表面供给惰性气体，所述控制装置还控制所述惰性气体供给机构，在使基板倾斜而将冲洗液 从该一侧表面排除时，在所述基板的一侧表面上向至少冲洗液被排除的区域 供给来自所述惰性气体供给装置的惰性气体。11. 如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，还包含遮断 构件，其具有能够与所述基板保持机构所保持的基板的所述一侧表面接近而配置的基板相对面；遮断构件移动机构，其使该遮断构件与所述基板保持机 构所保持的基板的所述一侧表面接近或者相背离；所述控制装置还控制所述 遮断构件移动机构，在将来自所述惰性气体供给装置的惰性气体供给至所述 基板的一侧表面上时，控制所述遮断构件移动机构，使得所述遮断构件的基 板相对面配置在与所述基板的一侧表面相接近的规定位置上。12. 如权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，还包含有遮断 构件倾斜机构，所述遮断构件倾斜机构在通过所述基板倾斜机构使基板倾斜 时，使所述遮断构件倾斜，以使所述基板相对面按照该基板的倾斜而倾斜。13. 如权利要求1至12中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，. 还包含有冲洗液补给机构，所述冲洗液补给机构向通过所述基板倾斜机构而 成为倾斜姿势的基板的所述一侧表面上的冲洗液中重新供给冲洗液。14. 一种基板处理装置，其特征在于，包含 基板保持机构，其能够将基板保持为近似水平；冲洗液供给机构，其用于向该基板保持机构所保持的基板的上表面上供给...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒木浩之，德利宪太郎，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]