【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及场发射器件的生产工艺，尤其是隔离子及场致发射显示器 件的制造方法。
技术介绍
场致电子发射也称冷阴极电子发射,是靠强的外加电场来降低物体的 表面势垒，发射体内的大量电子由于隧道效应穿透表面势垒逸出形成场致 电子发射。而且它没有时间延迟、功耗低，因而场致发射是一种非常有效的电子发射方式。在LCD、 PDP等平板显示日渐替代CRT的市场之时，作 为发光原理类似CRT,性能更加优异，批量生产的成本比目前平板更低的 场发射显示器件现在越来越多的受到人们的关注。但场发射器件的制造还存在着一些难以解决的问题，如隔离子的制作 就是其中较为重要而且还制作复杂的一项。普通的场致发射显示器件，阴 极板上有场致发射器、栅极、阴极，带有荧光粉和黑条的阳极板，以及使 阴、阳极板均匀隔开的多个隔离子，使阴、阳极板间维持真空并沿周边密 封的封接材料，阴极为场发射器提供电流，栅极引导电子发射并被吸引到 阳极荧光粉轰击发光。这种结构的FED (field emission display场致发 射显示器件)，其隔离子的放置需要在电极完成的情况下使用隔离子对准 设备放置或使用对准粘结...
【技术保护点】
一种隔离子的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：ａ、清洁制作阴极电极的平板玻璃；ｂ、在玻璃上涂覆一层感光胶，并进行刻蚀，形成隔离子并剥离剩余的感光胶；ｃ、在此结构上再涂覆一层感光胶，通过掩模版进行第二次曝光，经过曝光 刻蚀后，剥离剩余的感光胶。
【技术特征摘要】
1、一种隔离子的制造方法，其特征在于，包括如下步骤a、清洁制作阴极电极的平板玻璃；b、在玻璃上涂覆一层感光胶，并进行刻蚀，形成隔离子并剥离剩余的感光胶；c、在此结构上再涂覆一层感光胶，通过掩模版进行第二次曝光，经过曝光刻蚀后，剥离剩余的感光胶。2、 如权利要求1所述的隔离子的制造方法，其特征在于 步骤a中采用超声波、纯水、或二流体清洗方法。3、 如权利要求1所述的隔离子的制造方法，其特征在于步骤b中使用玻璃刻蚀液进行刻蚀，且光刻胶不受玻璃刻蚀液影响。4、 如权利要求1所述的隔离子的制造方法，其特征在于 步骤b中刻蚀前通过曝光去除多余的...
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