本发明专利技术公开了一种连续式晶体硅高效应力释放设备，涉及晶体硅的应力释放技术领域，用于解决现有技术中在对晶体硅释放应力时，硅棒两端的硅渣容易掉入加热炉内而不便清理以及硅棒在炉内移动时容易错位和断裂的问题，本发明专利技术包括依次设置的进料输送机构、上料机构、加热炉、接料机构、水箱、滚轴箱体，所述滚轴箱体内安装有多个下滚筒；所述加热炉内安装有多个上滚筒，所述上滚筒上安装有多个移料托架，所述移料托架的顶面设有可让硅棒沿加热炉长度方向放置的多组放置组件；所述加热炉的前端和后端均安装有竖直换料机构。本发明专利技术通过上述技术方案使得硅棒两端的硅渣基本上不会掉落到加热炉内，从而更容易对掉落的硅渣进行清理。从而更容易对掉落的硅渣进行清理。从而更容易对掉落的硅渣进行清理。
【技术实现步骤摘要】
一种连续式晶体硅高效应力释放设备
[0001]本专利技术涉及晶体硅的应力释放
，更具体的是涉及一种连续式晶体硅高效应力释放设备
技术介绍
[0002]目前国内多晶硅、单晶硅行业大多采用简单的人工破碎，人工破碎存在许多弊端，例如产品质量不稳定，易产生非硅，生产效率低，占用面积大，人工成本高、防护用品消耗大，随着机械破碎技术的成熟，从而取代人工破碎，机械破碎虽然效率高，占用人工少，但晶体硅未进行应力释放时，采用机械破碎会产生较大的硅粉料占比，通常是传统人工破碎的3倍，造成硅料的损耗，所以急需一种能对晶体硅破碎前进行应力释放的设备。
[0003]现有技术中对晶体硅破碎前进行应力释放的设备包括上料机构、真空箱、加热炉、后段转运室、第一水箱和输送机构，上料机构用于将待破碎的多晶硅从上料台送入真空箱内；输送机构用于将多晶硅从真空箱送入加热炉内，且用于将加热炉内的多晶硅送入第一水箱；真空箱上与上料机构靠近的位置设置有上料门，真空箱上与加热炉连接的位置设置有可开闭的前段炉门，上料门打开则允许上料机构上料，前段炉门打开则允许输送机构将多晶硅送入加热炉内，上料门和前段炉门关闭则真空箱形成密封空间；加热炉用于对多晶硅进行加热，加热炉上与后段转运室连接的位置设置有后段炉门，前段炉门和后段炉门关闭则加热炉形成封闭空间；第一水箱用于盛放冷却水，且位于后段转运室的下方，该设备通过步进输送机构将晶体硅送入加热炉内加热后，再通过冷却水进行快速冷却，这样即可释放晶体硅的应力。
[0004]但是，由于上述设备通过步进输送机构将晶体硅送入加热炉内，如此硅棒只能横着放,加热过程中硅棒两端的硅渣会掉在炉子里，这样不便于清理掉入加热炉内的硅渣，同时硅棒在炉内反复上下移动容易错位和断裂。因此，我们迫切的需要一种在释放晶体硅应力的同时，可以减少掉入加热炉内硅渣的连续式晶体硅高效应力释放设备。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于：为了解决现有技术中在对晶体硅释放应力时，硅棒两端的硅渣容易掉入加热炉内而不便清理以及硅棒在炉内移动时容易错位和断裂的问题，本专利技术提供一种连续式晶体硅高效应力释放设备，通过设置上滚筒和下滚筒，并通过竖直换料机构将移料托架从上滚筒搬运到下滚筒或将移料托架从下滚筒搬运到上滚筒，而硅棒可以沿加热炉的长度方向安装在移料托架上，这样硅棒两端的硅渣就基本上不会掉落到加热炉内，从而更容易对掉落的硅渣进行清理；由于将硅棒放置在放置组件上，所以硅棒在炉内随着移料托架移动时不容易错位和断裂。
[0006]本专利技术为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
[0007]一种连续式晶体硅高效应力释放设备，包括依次设置的进料输送机构、上料机构、加热炉、接料机构、水箱和出料输送机构，所述加热炉的底面安装有滚轴箱体，所述滚轴箱
体内沿其长度方向通过轴承安装有多个下滚筒，多个所述下滚筒间安装有动力机构；所述加热炉内沿其长度方向通过轴承安装有多个上滚筒，所述上滚筒上安装有多个移料托架，所述移料托架的顶面设有可让硅棒沿加热炉长度方向放置的多组放置组件，所述加热炉内沿其长度方向还安装有位于上滚筒上方的多个加热管；所述加热炉的前端和后端均安装有竖直换料机构，所述滚轴箱体的前端安装有推料机构。
[0008]放置组件的优选结构为：所述放置组件包括安装在移料托架前部且相对设置的两个前硅块和安装在移料托架后部且相对设置的两个后硅块，两个所述前硅块和两个所述后硅块间均留有放置间隙；所述移料托架的前端和后端均设有导渣斜面，相邻两个所述移料托架的导渣斜面间构成积渣槽，所述加热炉的末端下部设有收集槽。
[0009]上料机构的优选结构为：所述移料托架的顶面沿其宽度方向开有位于前硅块和后硅块间的让位槽，所述上料机构包括旋转座，所述旋转座上安装有旋转组件，所述旋转组件上安装有竖直柱，所述竖直柱上沿其高度方向安装有竖直滑动组件，所述竖直滑动组件上安装有竖直滑台，所述竖直滑台上安装有水平滑动组件，所述水平滑动组件上安装有进料滑板，所述进料滑板的端部安装有可以位于让位槽内的进料叉。
[0010]优选的，所述旋转组件包括安装在旋转座顶面的旋转柱和固定齿轮，所述竖直柱安装在旋转柱上，所述固定齿轮位于旋转柱内，所述旋转柱上安装有旋转电机，所述旋转电机的电机轴上安装有与固定齿轮啮合的旋转齿轮；所述竖直滑动组件包括安装在旋转柱外侧且沿其高度方向设置的多个竖直滑轨，所述旋转柱的顶面安装有竖直电机，所述竖直电机的电机轴上安装有位于竖直方向的竖直丝杆，所述竖直丝杆的下端通过轴承与旋转柱的下部连接，所述竖直丝杆上通过竖直螺母与竖直滑台连接，所述竖直滑台上安装有与竖直滑轨连接的竖直滑块；所述水平滑动组件包括安装在竖直滑台顶面的多个水平滑块，所述进料滑板的底面沿其长度方向安装有多个水平滑轨，所述水平滑轨与水平滑块连接，所述进料滑板的底面沿其长度方向安装有齿条，所述竖直滑台上安装有水平电机，所述水平电机的电机轴上安装有与齿条啮合的水平齿轮。
[0011]竖直换料机构的优选结构为：所述竖直换料机构包括安装在加热炉上的多个滚轴架，所述滚轴架上通过导轴法兰安装有提升轴，所述提升轴上安装有支撑座，所述支撑座上安装有提升架，所述提升架的下端安装有多个位于水平方向的提升滚筒，所述提升滚筒可进入相邻两个所述下滚筒间，所述加热炉上还安装有与提升轴连接的提升组件。
[0012]优选的，所述提升组件包括连接在加热炉顶面的安装板，所述安装板上安装有提升气缸，所述提升气缸的活塞杆上铰接有活塞支架，所述活塞支架上安装有与提升轴上部连接的连接架。
[0013]优选的，所述加热炉的顶面安装有多个限位座，所述限位座上安装两个限位辊，所述提升轴穿过两个限位辊间且与限位辊接触。
[0014]接料机构的优选结构为：所述接料机构包括安装在水箱上的入水单元和旋转单元，所述入水单元包括安装在水箱上且沿水箱长度方向设置的水平入水滑轨和入水齿条，所述水平入水滑轨上安装有水平入水滑块，所述水平入水滑块上安装有入水滑柱，所述入水滑柱上安装有入水滑台，所述入水滑台上安装有取料臂，所述取料臂上安装有取料叉，所述入水滑柱的上端安装有竖直入水电机，所述竖直入水电机的电机轴上安装有入水丝杆，所述入水丝杆的下端通过入水螺母与入水滑台连接，所述入水滑台上安装有竖直入水滑
块，所述入水滑柱上沿其高度方向安装有与竖直入水滑块连接的竖直入水滑轨，所述竖直入水滑柱上还安装有水平入水电机，所述水平入水电机的电机轴上安装有与入水齿条啮合的入水齿轮。
[0015]优选的，所述旋转单元包括安装在水箱上的旋转气缸，所述旋转气缸连接有旋转轴，所述旋转轴上连接有旋转套，所述旋转套上安装有旋转架，所述旋转架上沿其高度方向安装有旋转滑轨，所述旋转滑轨上安装有旋转滑块，所述旋转滑块上安装有旋转挂板，所述旋转挂板上安装有旋转臂，所述旋转臂上安装有旋转叉，所述取料叉可位于旋转叉内，所述旋转架的上端安装有竖直气缸，所述竖直气缸的活塞杆与旋转臂连接。
[0016]推料机构的优选结构为：所述推料机构包括安装在滚轴箱体前端本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种连续式晶体硅高效应力释放设备，包括依次设置的进料输送机构(1)、上料机构(3)、加热炉(5)、接料机构、水箱(9)和出料输送机构(7)，其特征在于：所述加热炉(5)的底面安装有滚轴箱体(6)，所述滚轴箱体(6)内沿其长度方向通过轴承安装有多个下滚筒(13)，多个所述下滚筒(13)间安装有动力机构(14)；所述加热炉(5)内沿其长度方向通过轴承安装有多个上滚筒(12)，所述上滚筒(12)上安装有多个移料托架(11)，所述移料托架(11)的顶面设有可让硅棒沿加热炉(5)长度方向放置的多组放置组件，所述加热炉(5)内沿其长度方向还安装有位于上滚筒(12)上方的多个加热管；所述加热炉(5)的前端和后端均安装有竖直换料机构(4)，所述滚轴箱体(6)的前端安装有推料机构(2)。2.根据权利要求1所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述放置组件包括安装在移料托架(11)前部且相对设置的两个前硅块(15)和安装在移料托架(11)后部且相对设置的两个后硅块(17)，两个所述前硅块(15)和两个所述后硅块(17)间均留有放置间隙(16)；所述移料托架(11)的前端和后端均设有导渣斜面(112)，相邻两个所述移料托架(11)的导渣斜面(112)间构成积渣槽(113)，所述加热炉(5)的末端下部设有收集槽(51)。3.根据权利要求2所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述移料托架(11)的顶面沿其宽度方向开有位于前硅块(15)和后硅块(17)间的让位槽(111)，所述上料机构(3)包括旋转座(31)，所述旋转座(31)上安装有旋转组件，所述旋转组件上安装有竖直柱(32)，所述竖直柱(32)上沿其高度方向安装有竖直滑动组件，所述竖直滑动组件上安装有竖直滑台(310)，所述竖直滑台(310)上安装有水平滑动组件，所述水平滑动组件上安装有进料滑板(37)，所述进料滑板(37)的端部安装有可以位于让位槽(111)内的进料叉(36)。4.根据权利要求3所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述旋转组件包括安装在旋转座(31)顶面的旋转柱(312)和固定齿轮(315)，所述竖直柱(32)安装在旋转柱(312)上，所述固定齿轮(315)位于旋转柱(312)内，所述旋转柱(312)上安装有旋转电机(314)，所述旋转电机(314)的电机轴上安装有与固定齿轮(315)啮合的旋转齿轮(316)；所述竖直滑动组件包括安装在旋转柱(312)外侧且沿其高度方向设置的多个竖直滑轨(311)，所述旋转柱(312)的顶面安装有竖直电机(39)，所述竖直电机(39)的电机轴上安装有位于竖直方向的竖直丝杆(38)，所述竖直丝杆(38)的下端通过轴承与旋转柱(312)的下部连接，所述竖直丝杆(38)上通过竖直螺母与竖直滑台(310)连接，所述竖直滑台(310)上安装有与竖直滑轨(311)连接的竖直滑块；所述水平滑动组件包括安装在竖直滑台(310)顶面的多个水平滑块，所述进料滑板(37)的底面沿其长度方向安装有多个水平滑轨(313)，所述水平滑轨(313)与水平滑块连接，所述进料滑板(37)的底面沿其长度方向安装有齿条(35)，所述竖直滑台(310)上安装有水平电机(33)，所述水平电机(33)的电机轴上安装有与齿条(35)啮合的水平齿轮(34)。5.根据权利要求1所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述竖直换料机构...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴利德，
申请(专利权)人：吴利德，
类型：发明
国别省市：
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