【技术实现步骤摘要】
一种高精度、稳定型晶圆旋转冲洗甩干设备
[0001]本技术属于晶圆加工
,特别涉及一种高精度、稳定型晶圆旋转冲洗甩干设备。
技术介绍
[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。
[0003]加工后的晶圆通常需要对其表面清洗。现有的晶圆冲洗甩干设备往往采用外置编码器,通过读取齿盘的刻度,反馈腔体的旋转方向,转速。帮助制动系统将腔体停止在预定位置,而其在使用的过程中,容易存在以下问题:
[0004]1,编码器容易受到外界环境干扰。油污,电磁场等影响工作精度;
[0005]2,编码器安装需要定制非标支架。非标产品成本比较高;
[0006]3,配做齿盘,和安装齿盘的涨套等。这些都是非标定制,成本比较高;
[0007]4,非标件安装对工人技术水平的要求比较高。会增加人力成本。和维修难度。
[0008]与此同时,现有的晶圆冲洗甩干设备 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高精度、稳定型晶圆旋转冲洗甩干设备,其特征在于:包括:基座(1)、腔体支座(2)、一组腔体支架(3)、腔体(4)和伺服电机(5),所述腔体支座(2)设于基座(1)上,所述腔体(4)设于腔体支座(2)的上方,且所述腔体支架(3)一侧与腔体支座(2)连接,另一侧与腔体(4)连接,所述伺服电机(5)设于腔体(4)的一侧,并通过一组电机连接架(51)与腔体支座(2)连接。2.根据权利要求1所述的高精度、稳定型晶圆旋转冲洗甩干设备,其特征在于:还包括喷水装置(6)、加热装置(7)和静电消除器(8),所述喷水装置(6)通过安装座与腔体(4)连接,且所述喷水装置(6)与水管(9)连接,所述加热装置(7)两端与腔体(4)连接,所述静电消除器(8)设于腔体(4)的表面。3.根据权利要求2所述的高精度、稳定型晶圆旋转冲洗甩干设备,其特征在于:所述喷水装置(6)靠近水管(9)的一侧设有第一气动阀(62),且所述喷水装置(6)通过一组PFA接头与第一气动阀(62)连接,所述水管(9)远离喷水装置(6)的一端设有一组分支管道(63);所述加热装置(7)的一端设有过滤器(71)和第三气动阀(72)。4.根据权利要求3所述的高精度、稳定型晶圆旋转冲洗甩干设备,其特征在于:所述分支管道(63)包括第一分支管道和第二分支管道,所述第一分支管道上设有压力传感器(631),所述第二分支管道上设有第二气动阀(632),所述第二气动阀(632)通过固定架与腔体(4)连接,且位于第二气动阀(632)的下方设有分气块(633),所述分气块(633)的一侧设有压力传感器(631)。5.根据权利要求1所述的高精度、稳定型晶圆旋转冲洗甩干设备,其特征在于:还包括电磁阀(10),所述电磁阀(10)通过电磁阀安装支架(11)与腔体(4)连接;所述电磁阀安装支架(11)包括支撑箱架(111)和辅助支架(112)...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈双宇,涂辉,
申请(专利权)人:谷微半导体科技江苏有限公司,
类型:新型
国别省市:
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