本发明专利技术公开一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，包括反应炉，反应炉为反向石英双炉管设计，反应炉的上端开设有石英分隔板，石英分隔板将反应炉的内外双石英管分为内通道和外通道，内通道上设置有第一进气口和第二进气口，外通道上设置有出气口，反应炉的顶端设置有进料口，进料口上方设置有多层石墨基座，多层石墨基座通过升降机构进入进料口进行反应，反应炉的外管壁上由上而下分别设置有第一线圈和第二线圈，第一线圈和第二线圈用于为反应炉加热，本发明专利技术利用反向的反应炉管以及多层石墨基座，并用线圈式的感应加热方式，可以大大节省径向空间，精确控制石墨基座的温度，指导晶体生长方向，大大提高反应温度控制精度，提高产品整体质量。品整体质量。品整体质量。
【技术实现步骤摘要】
氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置
[0001]本专利技术涉及EUV光学材料玻璃制备
，尤其涉及一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置。
技术介绍
[0002]迄今为止，在光刻中，通常使用曝光装置将精细电路图案转移到晶片上以产生集成电路。与集成电路的高集成度和高功能性一起，集成电路的微型化已经成为发展需要，并且需要曝光装置以在深焦深中以高分辨率在晶片上形成电路图案的图像，在这些情况下，使用EUV光(极紫外光)中波长为13nm的光作为曝光光源的光刻技术为最优的选择，因为它可以应用于特征尺寸为50nm或更小的印刷。EUV光刻(以下称作“EUVL”)的成像原理与常规光刻相同，其程度使得掩模图案通过光学投影系统被转移。然而，在EUV光的能量区域中，没有材料允许光通过。因此，不能使用折射光学系统，并且在所有情况下都要求光学系统是反射光学系统。
[0003]TiO2
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SiO2已知玻璃是具有比石英玻璃小的热膨胀系数(CTE)的非常低的热膨胀系数材料，因此，TiO2
‑
SiO2玻璃有望作为EUVL用曝光装置的光学材料使用，然而，现有技术在TiO2
‑
SiO2玻璃的固化工艺上存在着工作效率差，控温效果差以及反应炉管实用性低等问题，这些问题均亟待解决。
技术实现思路
[0004]针对上述问题，本专利技术提出一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，主要解决
技术介绍
中的问题。
[0005]本专利技术提出一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，包括反应炉，所述反应炉为反向炉管设计，所述反应炉的上端开设有石英分隔板，所述石英分隔板将所述反应炉的双石英管内外分为内通道和外通道，所述内通道上设置有第一进气口和第二进气口，所述外通道上设置有出气口，所述反应炉的顶端设置有进料口，所述进料口上方设置有多层石墨基座，所述多层石墨基座通过升降机构进入所述进料口进行反应，所述反应炉的外管壁上由上而下分别设置有第一线圈和第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈用于为所述反应炉加热。
[0006]进一步改进在于，所述第一进气口用于通入氮气，所述第二进气口用于通入氩气或是氦气，所述出气口连接真空管道，气体经由所述内通道进入所述反应炉，经由所述外通道排出所述反应炉。
[0007]进一步改进在于，所述第一线圈为直流线圈，所述第一线圈通过电阻加热保持温度小于1100℃。
[0008]进一步改进在于，所述第二线圈为直流+射频线圈，所述第二线圈通过电阻+电磁加热保持温度小于1700℃。
[0009]进一步改进在于，所述多层石墨基座包括基座本体，所述基座本体包括多层基座，
每个基座表面上均设置有石英基材，所述石英基材中心设置有凹槽，所述凹槽用于填充氧化钛掺杂旋涂玻璃，所述基座本体的上方设置有石墨悬挂器，所述石墨悬挂器通过与所述升降机构连接实现所述多层石墨基座的上下升降。
[0010]进一步改进在于，所述多层石墨基座上还设置有旋转机构，所述旋转机构用于旋转所述多层石墨基座，使其受热均匀。
[0011]进一步改进在于，所述多层石墨基座整体采用石墨制成。
[0012]进一步改进在于，所述石英双炉管和所述石英分隔板为一体成型设计。
[0013]进一步改进在于，所述石英双炉管和所述石英分隔板为两个相互独立的结构。
[0014]进一步改进在于，第一线圈和所述第二线圈单独均可为由上至下渐变多区加热线圈数，端视由上到下的温度梯度要求决定。
[0015]与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：
[0016]本专利技术设计一种用于氧化钛掺杂旋涂玻璃的固化装置，利用反向的反应炉管以及多层石墨基座，并用线圈式的感应加热方式，可以大大节省径向空间，精确控制石墨基座的温度，指导晶体生长方向，大大提高反应温度控制精度，提高产品整体质量。
附图说明
[0017]图1为本专利技术一实施方式的整体结构示意图；
[0018]图2为本专利技术一实施方式的多层石墨基座结构示意图；
[0019]图3为本专利技术一实施方式的反应炉气体流向示意图；
[0020]其中：1、双石英管反应炉；2、石英分隔板；3、多层石墨基座；31、石墨悬挂器；32、基座表面；33、基座本体；34、石英基材；35、氧化钛掺杂旋涂玻璃；4、第一进气口；5、第二进气口；6、出气口；7、第一线圈；8、第二线圈。
具体实施方式
[0021]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0022]参照图1、图2和图3，一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，包括反应炉1，所述反应炉1为反向炉管设计，所述反应炉1的上端开设有石英分隔板2，所述石英分隔板2将所述反应炉1的双石英管内外分为内通道和外通道，所述内通道上设置有第一进气口4和第二进气口5，所述外通道上设置有出气口6，所述反应炉1的顶端设置有进料口，所述进料口上方设置有多层石墨基座3，所述多层石墨基座3通过升降机构进入所述进料口进行反应，所述反应炉1的外管壁上由上而下分别设置有第一线圈7和第二线圈8，所述第一线圈7和所述第二线圈8用于为所述反应炉1加热。
[0023]作为本专利技术一优选实施方案，所述第一进气口4用于通入氮气，所述第二进气口5用于通入氩气或是氦气，所述出气口6连接真空管道，气体经由所述内通道进入所述反应炉1，经由所述外通道排出所述反应炉1。
[0024]作为本专利技术一优选实施方案，所述第一线圈7为直流线圈，所述第一线圈7通过电
阻加热保持温度小于1100℃。
[0025]作为本专利技术一优选实施方案，所述第二线圈8为直流+射频线圈，所述第二线圈8通过电阻+电磁加热保持温度小于1700℃。
[0026]作为本专利技术一优选实施方案，所述多层石墨基座3包括基座本体33，所述基座本体33包括多层基座，每个基座表面32上均设置有石英基材34，所述石英基材34中心设置有凹槽，所述凹槽用于填充氧化钛掺杂旋涂玻璃35，所述基座本体33的上方设置有石墨悬挂器31，所述石墨悬挂器31通过与所述升降机构连接实现所述多层石墨基座3的上下升降。
[0027]作为本专利技术一优选实施方案，所述多层石墨基座3上还设置有旋转机构，所述旋转机构用于旋转所述多层石墨基座3，使其受热均匀。
[0028]作为本专利技术一优选实施方案，所述多层石墨基座3整体采用石墨制成。
[0029]作为本专利技术一优选实施方案，所述石英双炉管和所述石英分隔板2为一体成型设计。
[0030]作为本专利技术一优选实施方案，所述石英双炉管和所述石英分隔板2为两个相互独立的结构。
[0031]作为本专利技术一优选实施方案，第一线圈7和所述第二线圈8单独均可为由上至下渐变多区加热线圈数，端视由上到下的温度梯度要求决定，石英分隔板与石英内炉管可为一体成本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，其特征在于，包括反应炉(1)，所述反应炉(1)为反向石英双炉管设计，所述反应炉(1)的上端开设有石英分隔板(2)，所述石英分隔板(2)将所述反应炉(1)的双石英管内外分为内通道和外通道，所述内通道上设置有第一进气口(4)和第二进气口(5)，所述外通道上设置有出气口(6)，所述反应炉(1)的顶端设置有进料口，所述进料口上方设置有多层石墨基座(3)，所述多层石墨基座(3)通过升降机构进入所述进料口进行反应，所述反应炉(1)的外管壁上由上而下分别设置有第一线圈(7)和第二线圈(8)，所述第一线圈(7)和所述第二线圈(8)用于为所述反应炉(1)加热。2.根据权利要求1所述的一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，其特征在于，所述第一进气口(4)用于通入氮气，所述第二进气口(5)用于通入氩气或是氦气，所述出气口(6)连接真空管道，气体经由所述内通道进入所述反应炉(1)，经由所述外通道排出所述反应炉(1)。3.根据权利要求1所述的一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，其特征在于，所述第一线圈(7)为直流线圈，所述第一线圈(7)通过电阻加热保持温度小于1100℃。4.根据权利要求1所述的一种氧化钛掺杂旋涂玻璃固化装置，其特征在于，所述第二线圈(8)为直流+射频线圈，所述第二线圈(8)通过电阻+电磁加热保持温度...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈维恕，
申请(专利权)人：达高工业技术研究院广州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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