【技术实现步骤摘要】
一种显影液供应系统
[0001]本技术涉及光刻
，具体为一种显影液供应系统。
技术介绍
[0002]半导体光刻技术通常包括在半导体晶片的顶层表面上涂布光阻，将光阻曝光形成图案；将曝光后的光阻曝光后烘烤，以使高分子为主的物质产生裂解；将裂解的高分子光阻移到显影槽，去除曝光的高分子，曝光的高分子可溶于显影液。如此，可在晶片的顶层表面得到图案化的光阻层。
[0003]然而，现有的显影液供应系统在使用的过程中存在以下的问题：由于显影液在管道内的情况无法探知，导致使用较为不便。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种显影液供应系统，解决了因显影液在管道内的情况无法探知导致的使用较为不便的技术问题，提高了显影的安全性，满足实际使用需求。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：包括存储罐和显影机台，所述存储罐的一侧设置有进气管，所述存储罐的一侧设置有缓冲罐，所述缓冲罐的一侧设置有过滤机构，所述过滤机构与缓冲罐之间设置有除泡器，所述过...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显影液供应系统，其特征在于：包括存储罐（2）和显影机台（7），所述存储罐（2）的一侧设置有进气管（1），所述存储罐（2）的一侧设置有缓冲罐（3），所述缓冲罐（3）的一侧设置有过滤机构（5），所述过滤机构（5）与缓冲罐（3）之间设置有除泡器（4），所述过滤机构（5）的一侧设置有控制装置（6），所述控制装置（6）包括控制阀（12）和两个对称分布的感应器（10），所述感应器（10）的一侧上设置有警示灯（11），所述显影机台（7）在靠近控制装置（6）的一侧内设置有喷嘴（8）。2.根据权利要求1所述的一种显影液供应系统，其特征在于：所述存储罐（2）、缓冲罐（3...
【专利技术属性】
技术研发人员：程小飞，傅姿，孙俊鹏，花荣，
申请(专利权)人：上海函泰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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