一种光刻胶生产用废液回收装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光刻胶生产用废液回收装置，包括：过滤仓和储液仓，储液仓内安装有拍液泵，过滤仓安装在储液仓的顶部且过滤仓的底部与储液仓的顶部连通，过滤仓的内部水平安装有过滤板，过滤板包括固定环、安装环、固定杆和内环，内环设置在固定环内部且内环与固定环的对立面上分别安装有固定杆，安装环安装在两个对应的固定杆之间，安装环的内部镶嵌连接有过滤筒。本实用新型专利技术在过滤仓内设置过滤板来对废液进行过滤，过滤板上镶嵌连接了多个过滤筒，通过清理机构来将部分废弃物推送至滤筒内，保持过滤板表面正常使用，同时还对废弃物进行集中收集；过滤筒上安装吊环，通过吊钩即可将其吊起，方便对过滤筒进行清理。方便对过滤筒进行清理。方便对过滤筒进行清理。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶生产用废液回收装置


[0001]本技术涉及光刻胶
，更具体为一种光刻胶生产用废液回收装置。

技术介绍

[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X
‑
射线胶、电子束胶、离子束胶等。
[0003]目前，现有的光刻胶废液回收装置存在如下问题：通过过滤网来对废液进行过滤，过滤后的废弃物附着在过滤网表面，造成网孔堵塞，过滤网拆卸较为繁琐，影响其正常使用。为此，需要设计一个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶生产用废液回收装置，包括：过滤仓（1）和储液仓（2），所述储液仓（2）内安装有拍液泵，其特征在于：所述过滤仓（1）安装在储液仓（2）的顶部且过滤仓（1）的底部与储液仓（2）的顶部连通，所述过滤仓（1）的内部水平安装有过滤板（8），所述过滤板（8）包括固定环（10）、安装环（11）、固定杆（14）和内环（17），所述内环（17）设置在固定环（10）内部且内环（17）与固定环（10）的对立面上分别安装有固定杆（14），所述安装环（11）安装在两个对应的固定杆（14）之间，所述安装环（11）的内部镶嵌连接有过滤筒（9），所述过滤仓（1）的内部且位于过滤板（8）的顶部安装有清理机构。2.根据权利要求1所述的一种光刻胶生产用废液回收装置，其特征在于：所述过滤板（8）的表面安装有过滤网（12），所述安装环（11）的顶面开设有向内凹陷的沉槽（13），所述过滤筒（9）的上端与沉槽（13）镶嵌。3....

【专利技术属性】
技术研发人员：花荣，傅姿，程小飞，
申请(专利权)人：上海函泰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：