一种方便安装的光刻胶供应装置制造方法及图纸

技术编号:31131808 阅读:32 留言:0更新日期:2021-12-01 20:26
本实用新型专利技术公开了一种方便安装的光刻胶供应装置,包括垂直设置的提升架和安装于提升架上的原料供应容器,提升架的底部固定于地面且表面纵向开设有导向槽,导向槽内活动设置有滑块,滑块的中部穿插有螺杆,螺杆的下端与导向槽内壁活动连接且上端设置有驱动电机,驱动电机的动力输出端与螺杆相连接,滑块的外侧固定有对接板,对接板的两侧对称开设有两组卡口,卡口的外侧连通有锁紧口,锁紧口处安装有锁紧片,两组锁紧口内均穿插有挂杆,挂杆的外端固定连接有外环,外环固定于原料供应容器的外壁上。本实用新型专利技术对容器设计有可提升的设计方式,一方面可以有效的节约设备安装的空间,另一方面减小原料滞留在外接管道内,影响下料效果。效果。效果。

【技术实现步骤摘要】
一种方便安装的光刻胶供应装置


[0001]本技术涉及光刻胶
,具体为一种方便安装的光刻胶供应装置。

技术介绍

[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来,而未曝光被溶解,该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同,又分为紫外光刻胶(包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X

射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂,品种规格较多,在电子工业集成电路的制造中,对所使用光刻胶有严格的要求,光刻胶在生产的过程中需要持续的原本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种方便安装的光刻胶供应装置,其特征在于:包括垂直设置的提升架(1)和安装于提升架(1)上的原料供应容器(2),所述提升架(1)的底部固定于地面且表面纵向开设有导向槽(3),所述导向槽(3)内活动设置有滑块(4),所述滑块(4)的中部穿插有螺杆(5),所述螺杆(5)的下端与导向槽(3)内壁活动连接且上端设置有驱动电机(6),所述驱动电机(6)的动力输出端与螺杆(5)相连接,所述滑块(4)的外侧固定有对接板(7),所述对接板(7)的两侧对称开设有两组卡口(8),所述卡口(8)的外侧连通有锁紧口(9),所述锁紧口(9)处安装有锁紧片,两组所述卡口(8)内均穿插有挂杆(10),所述挂杆(10)的外端固定连接有外环(11),所述外环(11)固定于原料供应容器(2)的外壁上,所述原料供应容器(2)的下沿开设有安装口(12),所述安装口(12)内开设有排液口(13),所述排液口(13)处活动设置有排液管(14)。2.根据权利要求1所述的一种方...

【专利技术属性】
技术研发人员:程小飞傅姿孙俊鹏花荣
申请(专利权)人:上海函泰电子科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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