一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法制造方法及图纸

技术编号:30973134 阅读:51 留言:0更新日期:2021-11-25 20:56
本公开提供一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法,该装置包括:传送带,传送带顺着传送方向依次包括搬入段、清洗段和搬出段;用于夹持并移动进入清洗段的晶圆的夹持部件,夹持部件在第一方向上能够往复运动,以夹持并移动晶圆至预定清洗位置,第一方向垂直于传送带的承载面;用于对预定位置处的晶圆表面吹风的吹扫器,吹扫器能够在第一方向和/或第二方向上往复移动,以移入或移出晶圆表面吹扫作业位置,第二方向垂直于第一方向;用于对晶圆表面清洗的喷淋毛刷,喷淋毛刷至少能够在第一方向和/或第二方向上往复移动,以移入或移出晶圆表里清洗作业位置。本公开提供的晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法能够提高清洗干燥效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法


[0001]本专利技术涉及晶圆加工
,尤其涉及一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法。

技术介绍

[0002]半导体硅材料是集成电路产业的主体功能材料,硅片的加工技术已逐步成为电子信息产业发展的重要驱动力。随着硅片直径越来越大与集成电路特征尺寸越来越小,对晶圆表面平坦度及去除速率提出了更高的要求,双面研磨加工是加快表面去除速率,提升晶圆表面平坦度最有效的技术手段之一。对于双面研磨工艺,在加快去除速率的同时,高效充分的清洗干燥过程对于保证晶圆品质意义重大,不可或缺。
[0003]相关技术中所采用的清洗干燥方式为:晶圆经双面研磨后,先使用水管向晶圆两面喷水,再启动毛刷刷洗一段时间,之后再喷水洗涤,最后一次性通过气刀完成干燥。
[0004]该过程洗涤时间长,效率低,且洗涤效果不佳;且气刀为固定位置,其固定的角度、位置、间距等都会影响干燥效果,例如,间距过大时,一次性通过气刀时干燥效果不佳,晶圆表面仍有水渍残留;间距过小,则吹扫时晶圆晃动,通过气刀会划伤晶圆表面,造成晶圆报废。
[0005]由此可见,相关技术中晶圆研磨后的清洗干燥效果不好。

技术实现思路

[0006]本公开实施例提供了一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法,解决了晶圆表面研磨后清洗效果差,残存污渍,干燥不彻底残存水渍等缺陷,污染测试设备,清洗干燥时间长影响产能等问题。
[0007]本公开实施例所提供的技术方案如下:
[0008]本公开实施例提供了一种晶圆清洗干燥装置,包括:
[0009]用于传送晶圆的传送带,所述传送带顺着传送方向依次包括搬入段、清洗段和搬出段;
[0010]用于夹持并移动进入所述清洗段的晶圆的夹持部件,所述夹持部件在第一方向上能够往复运动,以夹持并移动所述晶圆至预定清洗位置,所述第一方向垂直于所述传送带的承载面;
[0011]用于对所述预定位置处的晶圆表面吹风的吹扫器,所述吹扫器至少能够在第一方向和/或第二方向上往复移动,以移入或移出所述晶圆表面吹扫作业位置,所述第二方向垂直于所述第一方向;
[0012]用于对所述预定位置处的晶圆表面清洗的喷淋毛刷,所述喷淋毛刷至少能够在所述第一方向和/或所述第二方向上往复移动,以移入或移出所述晶圆表里清洗作业位置。
[0013]示例性的,所述夹持部件包括至少一个第一定位柱和至少一个第二定位柱,所述第一定位柱和所述第二定位柱分别设于所述晶圆相对两侧,且能够沿所述第二方向相向运
动以夹持晶圆,或者相背运动以释放晶圆;
[0014]所述第一定位柱至少在朝向所述第二定位柱的一侧设有用于卡住晶圆一侧边缘的第一卡槽,所述第二定位柱至少在朝向所述第一定位柱的一侧设有用于卡住晶圆另一侧边缘的第二卡槽。
[0015]示例性的,所述吹扫器包括至少一组吹扫单元,所述吹扫单元包括:
[0016]吹扫风刀,所述吹扫风刀为沿平行于晶圆表面方向延伸的条形风刀,且沿所述条形风刀的延伸方向设置有风口;
[0017]及,旋转轴,所述旋转轴的轴心沿所述第一方向设置,所述旋转轴驱动所述吹扫风刀在平行于所述晶圆表面的方向上旋转,以使所述风口从所述晶圆表面吹扫。
[0018]示例性的,所述风口的吹风方向朝向所述晶圆表面,且所述风口的吹风方向与所述晶圆表面之间呈预定夹角α。
[0019]示例性的,所述预定夹角α为30~45
°

[0020]示例性的,所述旋转轴连接于所述吹扫风刀的一端,所述吹扫风刀的风口延伸长度大于所述晶圆的半径,且当所述吹扫器位于所述吹扫作业位置时,所述旋转轴的轴心偏移所述晶圆的圆心。
[0021]示例性的,所述喷淋毛刷的数量有多个,且分为至少一组毛刷组,同一组所述毛刷组位于所述晶圆的同一侧,且同一组所述毛刷组中包括至少两个喷淋毛刷。
[0022]本公开实施例还提供了一种晶圆清洗干燥方法,采用本公开实施例提供的晶圆清洗干燥装置对晶圆进行清洗干燥处理,所述方法包括:
[0023]将晶圆从上一工序通过所述传送带由所述搬入段传送至所述清洗段;
[0024]通过所述夹持部件夹持,并沿第一方向移动所述清洗段的晶圆,以使所述晶圆脱离所述传送带承载面而移动至预定清洗位置;
[0025]沿第一方向和/或第二方向移动所述吹扫器,使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置,对所述晶圆表面进行第一次吹扫;
[0026]第一次吹扫作业结束,将所述吹扫器移出所述晶圆表面吹扫作业位置;
[0027]在所述第一方向和/或所述第二方向上移动所述喷淋毛刷,使所述喷淋毛刷移入所述晶圆表面清洗作业位置,对所述晶圆表面进行喷淋清洗;
[0028]喷淋清洗作业结束,将所述喷淋毛刷移出所述晶圆表面清洗作业位置;
[0029]沿第一方向和/或第二方向移动所述吹扫器,使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置,对所述晶圆表面进行第二次吹扫,以对晶圆表面干燥处理;
[0030]通过夹持部件将干燥处理后的晶圆放置于所述传送带上,并由所述传送带从所述清洗段传送至所述搬出段,以进行下一道工序。
[0031]示例性的,所述晶圆清洗干燥装置采用如权利要求6所述的晶圆清洗干燥装置,所述方法中,采用所述吹扫器对所述晶体表面进行第一次吹扫和第二次吹扫时,所述吹扫器的旋转轴偏移至所述晶体的圆心一侧,驱动所述吹扫风刀在平行于所述晶圆表面的方向上旋转,以对晶圆表面进行吹扫;其中,
[0032]第一次吹扫时,吹扫气体为温度为15~40℃的干燥惰性气体;
[0033]第二次吹扫时,吹扫气体为温度为40~45℃的干燥惰性气体。
[0034]示例性的,所述方法中,对所述晶圆表面进行喷淋清洗时,具体包括:
[0035]采用碱性溶液作为清洗液进行第一次清洗,其中所述碱性溶液各组分的体积比为:浓度为10%的NH4OH:浓度为15%的H2O2:H2O=(1∶1∶8),清洗时间为10~15S,清洗液的流速控制在2~3L/min;
[0036]采用超纯水作为清洗液进行第二次清洗,清洗时间为15~20S,清洗液的流速控制在20~25L/min。
[0037]示例性的,所述方法中,对所述晶圆表面进行喷淋清洗时,位于所述晶圆同一侧的同一组毛刷组中,至少两个喷淋毛刷清洗晶圆时旋转方向相反。
[0038]本公开实施例所带来的有益效果如下:
[0039]本公开实施例提供的晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法,在对晶圆进行清洗干燥时,可以先使用吹扫器对晶圆表面进行第一次吹扫,以将晶圆表面吸附的污渍除掉,然后再使用喷淋毛刷边喷淋液体边转动刷洗,对晶圆表面进行充分刷洗,之后再次使用吹扫器对晶圆表面进行第二次吹扫,以快速去除水渍,整套流程便捷高效,清洁干燥效果优异。
附图说明
[0040]图1表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置的俯视图,其中晶圆位于传送带的输入段;
[0041]图2表本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洗干燥装置,其特征在于,包括:用于传送晶圆的传送带,所述传送带顺着传送方向依次包括搬入段、清洗段和搬出段;用于夹持并移动进入所述清洗段的晶圆的夹持部件,所述夹持部件在第一方向上能够往复运动,以夹持并移动所述晶圆至预定清洗位置,所述第一方向垂直于所述传送带的承载面;用于对所述预定位置处的晶圆表面吹风的吹扫器,所述吹扫器至少能够在第一方向和/或第二方向上往复移动,以移入或移出所述晶圆表面吹扫作业位置,所述第二方向垂直于所述第一方向;用于对所述预定位置处的晶圆表面清洗的喷淋毛刷,所述喷淋毛刷至少能够在所述第一方向和/或所述第二方向上往复移动,以移入或移出所述晶圆表里清洗作业位置。2.根据权利要求1所述的晶圆清洗干燥装置,其特征在于,所述夹持部件包括至少一个第一定位柱和至少一个第二定位柱,所述第一定位柱和所述第二定位柱分别设于所述晶圆相对两侧,且能够沿所述第二方向相向运动以夹持晶圆,或者相背运动以释放晶圆;所述第一定位柱至少在朝向所述第二定位柱的一侧设有用于卡住晶圆一侧边缘的第一卡槽,所述第二定位柱至少在朝向所述第一定位柱的一侧设有用于卡住晶圆另一侧边缘的第二卡槽。3.根据权利要求2所述的晶圆清洗干燥装置,其特征在于,所述吹扫器包括至少一组吹扫单元,所述吹扫单元包括:吹扫风刀,所述吹扫风刀为沿平行于晶圆表面方向延伸的条形风刀,且沿所述条形风刀的延伸方向设置有风口;及,旋转轴,所述旋转轴的轴心沿所述第一方向设置,所述旋转轴驱动所述吹扫风刀在平行于所述晶圆表面的方向上旋转,以使所述风口从所述晶圆表面吹扫。4.根据权利要求3所述的晶圆清洗干燥装置,其特征在于,所述风口的吹风方向朝向所述晶圆表面,且所述风口的吹风方向与所述晶圆表面之间呈预定夹角α。5.根据权利要求4所述的晶圆清洗干燥装置,其特征在于,所述预定夹角α为30~45
°
。6.根据权利要求3所述的晶圆清洗干燥装置,其特征在于,所述旋转轴连接于所述吹扫风刀的一端,所述吹扫风刀的风口延伸长度大于所述晶圆的半径,且当所述吹扫器位于所述吹扫作业位置时,所述旋转轴的轴心偏移所述晶圆的圆心。7.根据权利要求1所述的晶圆清洗干燥装置,其特征在于,所述喷淋毛刷的数量有多个,且分为至少一组毛刷组,同一组所述毛刷组位于所述晶圆的同一侧,且同一组所述毛刷组中包括至少两个喷淋毛刷。...

【专利技术属性】
技术研发人员:张舸
申请(专利权)人:西安奕斯伟材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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