一种自动研磨装置制造方法及图纸

本申请提供了一种自动研磨装置。所述自动研磨装置包括：样品承载槽和抽吸部；其中，所述样品承载槽具有容纳待研磨样品和冷却液的槽部；所述样品承载槽底部设有一开口；所述抽吸部通过所述开口与所述样品承载槽连接，用于将冷却液抽出/注入所述样品承载槽。本申请的自动研磨装置能够快速、简便地抽出/注入冷却液，以便于后续检测待研磨样品的研磨进程。以便于后续检测待研磨样品的研磨进程。以便于后续检测待研磨样品的研磨进程。

【技术实现步骤摘要】
一种自动研磨装置


[0001]本技术涉及半导体制造领域，具体地说，本技术涉及一种自动研磨装置。

技术介绍

[0002]一般来说，芯片在研发和生产过程中出现错误是不可避免的。随着人们对芯片产品的质量要求越来越高，芯片的失效分析工作也显得越来越重要。然而，对芯片进行失效分析工作前，需要对完整封装的芯片进行开封处理，在去除封装胶体的同时，还要保持芯片功能的完整无损。
[0003]现有技术中，通常采用自动研磨(Auto
‑
polish)装置对封装芯片的正面进行开封处理，然而，受限于其Z轴精度，当研磨到接近于晶片(die)表面时，需要采用光学镜头观察对封装芯片的研磨过程是否完成，以避免过度研磨导致晶片的表面受到损伤。由于研磨过程中，样品承载槽中注有冷却液，而使用中的冷却液的透光性极差，因此，每次进行光学观察前需要将冷却液从样品承载槽中去除，确保能够准确观察到晶片表面。
[0004]然而，现有的研磨装置中，无法快速、简单地去除冷却液，以实现对半导体芯片的开封处理中研磨进程的检测。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本技术的主要目的在于提供一种能够快速、简便地抽出/注入冷却液的自动研磨装置。
[0006]为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：
[0007]一种自动研磨装置，所述自动研磨装置包括：样品承载槽和抽吸部；其中，
[0008]所述样品承载槽具有容纳待研磨样品和冷却液的槽部；所述样品承载槽底部设有一开口；
[0009]所述抽吸部通过所述开口与所述样品承载槽连接，用于将冷却液抽出/注入所述样品承载槽。
[0010]根据本技术的一种实施方式，所述样品承载槽的底部开设有排液槽；所述排液槽与所述开口连通，所述排液槽的底部最低点与所述开口的最低点位于相同的水平面上。
[0011]根据本技术的一种实施方式，所述排液槽沿所述样品承载槽设有开口的一个侧壁开设。
[0012]根据本技术的一种实施方式，所述排液槽沿所述样品承载槽的侧壁开设；所述排液槽在所述样品承载槽底部的投影呈环形。
[0013]根据本技术的一种实施方式，所述排液槽沿所述冷却液抽出/注入方向的截面为三角形或四边形。
[0014]根据本技术的一种实施方式，所述自动研磨装置还包括与所述抽吸部连接的储液箱，所述储液箱用于储存冷却液。
[0015]根据本技术的一种实施方式，所述储液箱和所述样品承载槽的开口之间通过软管连通。
[0016]根据本技术的一种实施方式，所述储液箱的冷却液容量大于所述样品承载槽的冷却液容量。
[0017]根据本技术的一种实施方式，所述自动研磨装置还包括：研磨头；其中，所述研磨头与所述样品承载槽相对设置，用于对待研磨样品进行研磨。
[0018]根据本技术的一种实施方式，所述自动研磨装置还包括：光学测量部；其中，所述光学测量部与所述样品承载槽相对设置，用于检测待研磨样品的研磨进程。
[0019]与现有技术相比，本技术的自动研磨装置的有益效果在于能够快速、简便地抽出/注入冷却液，从而能够实现对待研磨样品研磨进程的检测。
附图说明
[0020]图1为传统研磨装置在工作状态下的剖面结构示意图；
[0021]图2为传统研磨装置在非工作状态下的剖面结构示意图；
[0022]图3为本技术第一种实施方式的自动研磨装置在注入冷却液的条件下的剖面结构示意图；
[0023]图4为本技术第一种实施方式的自动研磨装置在抽出冷却液的条件下的剖面结构示意图；
[0024]图5为本技术第一种实施方式的自动研磨装置的平面简图；
[0025]图6为本技术第二种实施方式的自动研磨装置在注入冷却液的条件下的剖面结构示意图；
[0026]图7为本技术第二种实施方式的自动研磨装置在抽出冷却液的条件下的剖面结构示意图；
[0027]图8为本技术第二种实施方式的自动研磨装置的平面简图；
[0028]图9为本技术第三种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的剖面结构示意图；
[0029]图10为本技术第三种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的平面简图；
[0030]图11为本技术第四种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的平面简图；
[0031]图12为本技术第五种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的平面简图；
[0032]图13为本技术第六种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的平面简图；
[0033]图14为本技术第七种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的剖面结构示意图；
[0034]图15为本技术第八种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的剖面结构示意图；
[0035]图16为本技术第九种实施方式的自动研磨装置的样品承载槽的剖面结构示意图；和
[0036]图中包括：1
‑
底座；2
‑
支架；3
‑
光学镜头；4
‑
研磨工具；5
‑
样品；6
‑
样品承载槽；7
‑
可伸缩部件；8
‑
胶头滴管；111
‑
底座；112
‑
支架；113
‑
光学测量部；114
‑
研磨头；115
‑
待研磨样品；116
‑
样品承载槽；117
‑
高度调节件；118
‑
开口；119
‑
排液槽；120
‑
抽吸部；121
‑
储液箱。
具体实施方式
[0037]下面将结合本技术实施方式及附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本技术的一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
[0038]在整个说明书中，除非另有特别说明，本文使用的术语应理解为如本领域中通常所使用的含义。因此，除非另有定义，本文使用的所有技术和科学术语具有与本技术所属领域技术人员的一般理解相同的含义。若存在矛盾，本说明书优先。
[0039]在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本申请更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本申请可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本申请发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述；即，这里不描述实际实施例的全部特征，不详细描述公知的功能和结构。
[0040]在附图中，为了清楚，槽、部、开口的尺寸以及其相对尺寸可能被夸大。自始至终相同附图标记表示相同的元件。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动研磨装置，其特征在于，所述自动研磨装置包括：样品承载槽和抽吸部；其中，所述样品承载槽具有容纳待研磨样品和冷却液的槽部；所述样品承载槽底部设有一开口；所述抽吸部通过所述开口与所述样品承载槽连接，用于将冷却液抽出/注入所述样品承载槽。2.如权利要求1所述的自动研磨装置，其特征在于，所述样品承载槽的底部开设有排液槽；所述排液槽与所述开口连通，所述排液槽的底部最低点与所述开口的最低点位于相同的水平面上。3.如权利要求2所述的自动研磨装置，其特征在于，所述排液槽沿所述样品承载槽设有开口的一个侧壁开设。4.如权利要求2所述的自动研磨装置，其特征在于，所述排液槽沿所述样品承载槽的侧壁开设；所述排液槽在所述样品承载槽底部的投影呈环形。5.如权利要求2中所述的自动研磨装置，其特征在于，所述排液槽沿所述冷却...

【专利技术属性】
技术研发人员：漆林，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：