光学扫描装置制造方法及图纸

一种扫描装置，该扫描装置有一个光学扫描头，用以借助于三个光束扫描信息平面（１）上的纹道（２）。各光束由分立的检测系统（１０，１１，１２）检测。由一个特殊的电子电路（２２，２４，２５，２６）从检测器信号获取新的参考信号Ｓｒ。光束的控制信号获自检测器信号，可用检测器信号进行归一化，使光速的强度再也不会影响控制信号的值。附图示出了用除法电路（２７）产生参考信号和对跟踪误差信号Ｅｔ进行归一化的情况。参考信号可用以检测信息平面中的反射误差。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学扫描装置，用以用光学的方法扫描具有许多纹道的信息平面，该装置包括一个光学系统，用以产生第一和第二跟踪光束和一个主光束;一个透镜系统，用以将该三个光束聚焦到信息平面上，在待扫描纹道的中心线两侧聚焦成两个跟踪光点，在所述纹道上聚焦成一个主光点;至少三个检测系统a、b和c，用以接收来自信息平面的第一和第二跟踪光束和主光束的光;和一个信号处理电路，用以从检测器信号Si获取参考信号Sr，其中检测器信号Si为入射到检测系统i的总辐射能的量度。从美国专利4，446，545可以了解到这类可用于特别是光学记录载体纹道读写设备中的装置的情况。在这种装置中，两道跟踪光束在主光束聚焦成主光点所在的纹道两侧聚焦成跟踪光点。该装置包括三个呈单个检测器a、b和c的形式的检测系统，用以检测在信息平面上反射之后的每一个跟踪光束和主光束。检测器a和b各自的输出信号Sa和Sb的信号差为跟踪误差，这个跟踪误差可用作跟踪伺服系统的控制信号，主光束即用跟踪伺服系统保持在该纹道上。为使跟踪误差信号不致受到辐射源光强的影响，我们将跟踪误差信号除以参考信号Sr进行归一化。该已知的参考信号是按下式产生的Sr本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学扫描装置，用以用光学的方法扫描具有许多纹道的信息平面，该装置包括：一个光学系统，用以产生第一和第二跟踪光束和一个主光束；一个透镜系统，用以将该三个光束聚焦到信息平面上，在待扫描纹道的中心线两侧聚焦成两个跟踪光点；在所述纹道上聚焦成一个主光点；至少三个检测系统ａ、ｂ和ｃ，用以接收来自信息平面的第一和第二跟踪光束的光；和一个信号处理电路，用以从检测信号Ｓｉ获取参考信号Ｓｒ，其中检测器信号Ｓｉ为入射到检测系统ｉ的总辐射能的量度，该光学扫描装置的特征在于，信号处理电路按下式产生参考信号Ｓｒ，从而使参考信号不因各纹道而转变：Ｓｒ＝Ｓａ＋Ｓｂ＋ｃ＊Ｓｃ其中ｃ为等于－２Ｔｃｏｓ＊的常数，＊＝２πｘｏ...

【技术特征摘要】
EP 1991-7-31 91201986.6;EP 1991-5-10 91201132.71.一种光学扫描装置，用以用光学的方法扫描具有许多纹道的信息平面，该装置包括一个光学系统，用以产生第一和第二跟踪光束和一个主光束；一个透镜系统，用以将该三个光束聚焦到信息平面上，在待扫描纹道的中心线两侧聚焦成两个跟踪光点；在所述纹道上聚焦成一个主光点；至少三个检测系统a、b和c，用以接收来自信息平面的第一和第二跟踪光束和主光束的光；和一个信号处理电路，用以从检测信号Si获取参考信号Sr，其中检测器信号Si为入射到检测系统i的总辐射能的量度，该光学扫描装置的特征在于，信号处理电路按下式产生参考信号Sr，从而使参考信号不因各纹道而转变Sr=Sa+Sb+c＊Sc其中c为等于-2Tcosφ的常数，φ=2πxo/q，xo为跟踪光点与主光点之间的横向间距，q为纹道间距，T为跟踪光束与主光束之间的光强比，同时φ=π/2时，c等于0。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，xo＝1/4q，且信号处理电路将Sa和Sb加起来。3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，xo＝1/2q，且信号处理电路将Sa、Sb和2T＊Sc加起来。4.如以上任一权利要求所述的装置，其特征在于，信号处理电路包括一个乘法...

【专利技术属性】
技术研发人员：JL巴克斯，
申请(专利权)人：皇家菲利浦电子有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]