一种流体处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例提供了一种流体处理装置，通过磁场控制设置在流道内的磁性穿刺件的移动，以刺穿用于封闭流道端部的薄膜，从而控制流道与外部环境的隔离或开放，进而控制流体通路中流体的流动。进一步地，本申请将磁性穿刺件设置于流道内，从内部打开流道端部，可以有效避免外部异物的带入，降低样品污染的几率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
一种流体处理装置


[0001]本技术涉及一种微流体处理装置，其具有能够允许流体由于毛细作用而在其中流动的流道。更具体地说，本技术涉及一种微流体处理装置，其在称为集成化学的
中用作微芯片等，并且用于移动和/或混合多种极少量液体样品或用作POC(关注点)检查装置。

技术介绍

[0002]近年来，为了高精度且高速进行蛋白质、核酸等微量物质(流体)的分析，越来越常用到微流控芯片。微流控芯片是指在玻璃或塑料制成的基板中形成宽度和深度约为1到1000微米的细槽，将该细槽用作液体通道、反应容器或分离/纯化检测容器，流体通过毛细作用或重力作用在这些细槽构成的流体通道中移动，实现将复杂的化学体系集成到微芯片中。在微流控芯片中，通常需要通过“打开或关闭”流体通道，以允许或阻止样品在流体通道中移动，从而达到控制反应顺序、反应时间等目的。
[0003]近年来，一种称为集成化学的技术，在玻璃或塑料的微芯片中形成宽度和深度约为1
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1000微米的细槽，将该细槽用作液体通道，反应容器或分离/纯化检测容器，以将复杂的化学系统集成到微芯片中。
[0004]如果将这种微芯片应用于分析化学领域，则具有用于各种测试的细槽的微芯片被称为(总分析系统)，如果将所述微芯片应用于反应，则微芯片被称为微反应器。当进行诸如分析之类的各种测试时，此类微芯片具有的优点包括，由于空间小，所以传输扩散分子的时间短，并且液相的热容量非常小。因此，集成化学在打算利用微空间进行分析和化学合成的
中受到广泛关注。此外，术语“测试”是指进行任何一种或多种操作和手段的组合，例如分析，测量，合成，分解，混合，分子运输，溶剂萃取，固相萃取，相分离，相结合，分子采集，培养，加热和冷却。
[0005]在这种集成化学中，需要打开和关闭一个精细液体通道，该通道的宽度和高度约为1至1000微米，形成于玻璃或塑料芯片中，以允许样品在精细液体通道中移动。因此，有人提出了各种阀门结构来打开和关闭一个精细的液体通道。因此，已经出现了多种用于打开和关闭细液体通道的各种阀结构。
[0006]例如，在日本专利公开号2002
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36196中公开的技术中，对布置在液体通道的分支连接等中的可移动的光响应性材料膜照射激光束，以使其变形，从而控制液体在液体通道中的流动。在日本专利公开号2002
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66399中公开的技术中，在毛细管状通道中间形成的凝胶室中填充温度敏感凝胶，该凝胶被加热膨胀以突出到毛细管状通道中，以改变通道的横截面积。
[0007]但是上述传统技术中，加热可能影响样品的性能，光感或热敏材料的融化等可能使材料混入样品中，造成样品的污染。因此，还需要寻找一种新的打开和/或关闭细液体通道的方式，以控制流体在液体通道中的流动。

技术实现思路

[0008]本技术的目的在于提供一种流体处理装置，以实现在流体处理装置中控制流体的流动。具体技术方案如下：
[0009]本申请第一方面提供了一种流体处理装置，包括：
[0010](1)装置本体；
[0011](2)形成在所述装置本体中的流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中移动；
[0012]所述流道具有第一端部和第二端部，其中，所述第一端部向外部环境开放，所述第二端部通过薄膜封闭，与外部环境隔离；
[0013](3)位于流道内的至少一个磁性穿刺件，在所述流道的第二端部需要与外部环境连通时，所述磁性穿刺件用于刺穿所述第二端部处的薄膜；
[0014](4)薄膜电极，通过通入电流产生磁场，使所述磁性穿刺件能够在所述流道中移动；
[0015]所述流道位于所述薄膜下方的底面凸起，使流道底面与所述薄膜间的距离小于所述磁性穿刺件的高度，以使所述磁性穿刺件在经过所述薄膜下方时，能够刺穿所述薄膜。
[0016]进一步地，所述流体处理装置还包括能够在其中存储所述流体的存储部，所述存储部布置在所述流道的第一端部，使得所述第一端部通过所述存储部向外部环境开放。
[0017]进一步地，所述流道的第一端部通过薄膜封闭，以将所述第一端部与外部环境隔离。
[0018]进一步地，所述流体处理装置还包括：
[0019]能够在其中存储所述流体的存储部，所述存储部设置在所述流道的第一端部；所述存储部通过薄膜与外部环境隔离；当所述第一端部的薄膜被刺穿时，所述流道的第一端部通过所述存储部向外部环境开放。
[0020]本申请第二方面提供了一种流体处理装置，包括：
[0021](1)装置本体；
[0022](2)在所述装置本体中形成的至少三个流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中移动；
[0023]所述至少三个流道具有第一端部和第二端部；
[0024]所述至少三个流道中的每一个的第一端部连接以彼此连通；
[0025]所述至少三个流道中的至少一个流道的第二端部通过薄膜封闭，以与外部环境隔离；
[0026](3)位于流道内的至少一个磁性穿刺件，在所述至少三个流道中的至少一个流道的第二端部需要与外部环境连通时，所述磁性穿刺件用于刺穿所述薄膜；
[0027](4)薄膜电极，通过通入电流产生磁场，使所述磁性穿刺件能够在所述流道中移动；
[0028]所述流道位于所述薄膜下方的底面凸起，使流道底面与所述薄膜间的距离小于所述磁性穿刺件的高度，以使所述磁性穿刺件在经过所述薄膜下方时，能够刺穿所述薄膜。
[0029]进一步地，所述流体处理装置还包括一个能够在其中储存所述流体的储存部分，所述储存部分布置在所述至少三个流道中至少一个的第二端部。
[0030]本申请第三方面提供了一种流体处理装置，包括：
[0031](1)装置本体；
[0032](2)在所述装置本体中形成的主流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中移动；所述主流道包括第一端部和第二端部；所述主流道的第一端部向外部环境开放，所述主流道的第二端部通过薄膜封闭，以将所述主流道的第二端部与外部环境隔离；
[0033](3)在所述装置本体中形成的至少一个子流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中移动，所述至少一个子流道包括第一端部和第二端部；所述至少一个子流道的第一端部在所述主流道的第一端部和第二端部之间与所述主流道连通，所述至少一个子流道的第二端部向外部环境开放；
[0034](4)位于主流道内的至少一个磁性穿刺件，在所述主流道的第二端部需要与外部环境连通时，所述磁性穿刺件用于刺穿所述薄膜；
[0035](5)薄膜电极，通过通入电流产生磁场，使所述磁性穿刺件能够在所述流道中移动；
[0036]所述流道位于所述薄膜下方的底面凸起，使流道底面与所述薄膜间的距离小于所述磁性穿刺件的高度，以使所述磁性穿刺件在经过所述薄膜下方时，能够刺穿所述薄膜。
[0037]本申请第四方面提供了一种流体处理装置，包括：
[0038](1)装置本体；
[0039](2)在所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种流体处理装置，其特征在于，包括：(1)装置本体；(2)形成在所述装置本体中的流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中移动；所述流道具有第一端部和第二端部，其中，所述第一端部向外部环境开放，所述第二端部通过薄膜封闭，与外部环境隔离；(3)位于流道内的至少一个磁性穿刺件，在所述流道的第二端部需要与外部环境连通时，所述磁性穿刺件用于刺穿所述第二端部处的薄膜；(4)薄膜电极，通过通入电流产生磁场，使所述磁性穿刺件能够在所述流道中移动；所述流道位于所述薄膜下方的底面凸起，使流道底面与所述薄膜间的距离小于所述磁性穿刺件的高度，以使所述磁性穿刺件在经过所述薄膜下方时，能够刺穿所述薄膜。2.如权利要求1所述的流体处理装置，其特征在于，还包括能够在其中存储所述流体的存储部，所述存储部布置在所述流道的第一端部，使得所述第一端部通过所述存储部向外部环境开放。3.如权利要求1所述的流体处理装置，其特征在于，所述流道的第一端部通过薄膜封闭，以将所述第一端部与外部环境隔离。4.如权利要求1所述的流体处理装置，其特征在于，还包括：能够在其中存储所述流体的存储部，所述存储部设置在所述流道的第一端部；所述存储部通过薄膜与外部环境隔离；当所述第一端部的薄膜被刺穿时，所述流道的第一端部通过所述存储部向外部环境开放。5.一种流体处理装置，其特征在于，包括：(1)装置本体；(2)在所述装置本体中形成的至少三个流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中移动；所述至少三个流道具有第一端部和第二端部；所述至少三个流道中的每一个的第一端部连接以彼此连通；所述至少三个流道中的至少一个流道的第二端部通过薄膜封闭，以与外部环境隔离；(3)位于流道内的至少一个磁性穿刺件，在所述至少三个流道中的至少一个流道的第二端部需要与外部环境连通时，所述磁性穿刺件用于刺穿所述薄膜；(4)薄膜电极，通过通入电流产生磁场，使所述磁性穿刺件能够在所述流道中移动；所述流道位于所述薄膜下方的底面凸起，使流道底面与所述薄膜间的距离小于所述磁性穿刺件的高度，以使所述磁性穿刺件在经过所述薄膜下方时，能够刺穿所述薄膜。6.如权利要求5所述的流体处理装置，其特征在于，还包括一个能够在其中储存所述流体的储存部分，所述储存部分布置在所述至少三个流道中至少一个的第二端部。7.一种流体处理装置，其特征在于，包括：(1)装置本体；(2)在所述装置本体中形成的主流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中移动；所述主流道包括第一端部和第二端部；所述主流道的第一端部向外部环境开放，所述主流道的第二端部通过薄膜封闭，以将所述主流道的第二端部与外部环境隔离；(3)在所述装置本体中形成的至少一个子流道，其形状允许流体由于毛细作用在其中
移动，所述至少一个子流道包括第一端部和第二端部；所述至少一个子流道的第一端部在所述主流道的第一端部和第二端部之间与所述主流道连通，所述至少一个子流道的第二端部向外部环境开放；(4)位于主流道内的至少一个磁性穿刺件，在所述主流道的第二端部需要与外部环境连通时，所述磁性穿刺件用于刺穿所述薄膜；(5)薄膜电极，通过通入电流产生磁场，使所述磁性穿刺件能够在所述流道中移动；所述流道位于所述薄膜下方的底面凸起，使流道底面与所述薄膜间的距离小于所述磁性穿刺件的高度，以使所述磁性穿刺件在经过所述薄膜下方时，能够刺穿所述薄膜。8.一种流体处理装置，其特征在于，包括：(1)装置本体；(2)在所述装置本体中形成的主流道，其形状允许流体由于毛细作用在...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木裕一，
申请(专利权)人：恩普乐斯股份有限公司，
类型：新型
国别省市：