光盘记录介质特性的测试装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光盘记录介质特性的测试装置，该装置由物镜及力矩器、光路系统、激光器、恒功率控制、脉宽发生、功率发生、信号探测器以及聚焦预搜索及控制组成。一定功率的激光聚焦于测试样片的记录介质层某点，测定其反射回的光强从而得到该点反射率，再发出一定脉宽、功率的激光脉冲，用于写入或擦除，测定该点的反射率。本发明专利技术装置使用准线性区光盘聚焦自动预搜索机制，由简单的通用集成芯片电路即可完成测试，因而成本低，测试方便。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光盘记录介质特性的测试装置，属材料的物化性能测试
对于可擦写和写一次类型的光盘，用户可以自己把数据写到光盘上。这些数据存储于光盘中的记录介质层中，因此该记录介质的特性，直接影响到光盘的性能。如果记录介质的特性很差，则有可能使用户写入的数据不能正确读出而造成数据丢失。因此在记录介质的研制过程中，必须对有关性能进行测试，测试的性能包括1)记录介质层反射率的均匀性；2)写入或擦除前后的读出信号反差；3)记录介质写、读、擦激光功率及脉宽的测定和优选；4)某点的写擦循环寿命等。然后根据测试结果对记录介质的成份和结构进行改进。测试介质特性的基本原理是，把一定功率的激光聚焦于测试样片(盘)的记录介质层某点，测定其反射回的光强从而得到该点反射率；接着可以发出一定脉宽、一定功率的激光脉冲，用于写入或擦除，然后再次测定该点反射率。测试装置中激光束正确聚焦是实现读出写入及擦除的必要前提，即光学头必须将激光准确聚焦在测试样片的记录介质表面。聚焦误差检测的线性范围约25μm，即样片记录面应该落于这一范围内才能启动聚焦闭环控制系统，正确实现聚焦和测试。这就需要线性区自动预搜索，即本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光盘记录介质特性的测试装置，该装置包括物镜及力矩器、λ／４波片，偏振分束镜、准直整形单元、激光器、恒功率控制、脉宽发生、功率发生、聚焦单元、信号探测器、信号处理，其特征在于还包括聚焦预搜索及控制；恒功率控制使激光器发出一定功率的激光，激光器发出的发散激光束经“准直整形单元”作用成为圆形平行光束，遇偏振分束镜后，一个偏振方向的光透射，经λ／４波片后由物镜聚焦至样片，由样片反射回的激光经过物镜，再次通过λ／４波片，偏振方向总共偏转９０°，遇偏振分束镜反射，经聚焦单元作用由信号探测器探测其光强及聚焦误差，聚焦预搜索及控制完成聚焦自动预搜后切入聚焦闭环控制，并保持聚焦状态，脉宽发生和功率发生产生一...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光盘记录介质特性的测试装置，该装置包括物镜及力矩器、λ/4波片，偏振分束镜、准直整形单元、激光器、恒功率控制、脉宽发生、功率发生、聚焦单元、信号探测器、信号处理，其特征在于还包括聚焦预搜索及控制；恒功率控制使激光器发出一定功率的激光，激光器发出的发散激光束经＂准直整形单元＂作用成为圆形平行光束，遇偏振分束镜后，一个偏振方向的光透射，经λ/4波片后由物镜聚焦至样片，由样片反射回的激光经过物镜，再次通过λ/4波片，偏振方向总共偏转90°，遇偏振分束镜反射，经聚焦单元作用由信号探测器探测其光强及聚焦误差，聚焦预搜索及控制完成聚焦自动预搜后...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐端颐，蔡忠平，潘龙法，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]