运行最优功率控制的方法技术

由于与ＣＤ相比，ＤＶＤ的轨迹间距减少了，所以当前用于ＣＤ－ＲＷ系统的运行ＯＰＣ过程（ＲＯＰＣ）在可记录和可重写的ＤＶＤ系统中运行得不是很好。本发明专利技术提出使用来自写入光点自身的反射信号代替用于ＣＤ－ＲＷ运行ＯＰＣ过程中的来自外围光点的反射信号。这是通过在高反射的结晶电平上采样从写入光点反射的ＲＦ信号来实现的。将这个采样信号提供给功率控制环（所谓的α环），以使它保持在恒定的电平。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在光学介质上记录信息的方法，更具体而言，涉及当在光学介质上记录信息时，通过控制辐射源的功率来补偿光学介质中的不规则性的方法。本专利技术还涉及使用根据本专利技术的方法的设备。
技术介绍
光学介质存储数字形式的数据并包括所有各种各样的CD和DVD格式。存储在这种类型的介质上的数据可包括视频、文本、音频、计算机数据或任何其他形式的数字信息。使用例如激光器的辐射源将数据记录在光学介质上，或从光学介质上读出。DVD-RW(数字多功能盘-可重写)是一种允许将数据记录、擦除和重写到相同的物理盘上的光盘格式。包括Philips、Sony、Hewlett-Packard、Mitsubishi Chemical、Yamaha和Richoh的DVD+RW国际财团已经开发出来一种与DVD-RW相比有些不同的格式，被称为DVD+RW。在欧洲专利NO.EP1045391A1中公开了这种技术的例子。在DVD-RW和DVD+RW格式中，因为盘使用相变合金作为它的记录介质，所以重写是可能的。尽管当暴露于激光束时，用于一次记录格式的有机染料层会被永久地改变，而当暴露于激光束时，用于可重写的记录层的合金能够从结晶相转换到无定形相。通过改变激光束的功率，从而控制激光的温度，形成结晶区域和无定形区域。在记录数据的重放期间，结晶区域(“小岛(land)”)通常反射由低功率激光器产生的激光，而无定形区域(“标记”“mark”)吸收该激光。为了写入，激光束将一个区域加热到超过多晶记录层的熔点(500-700℃)的温度，加热的区域转换到“无定形的”非晶相，从而形成标记。为了在先前记录的数据上“重写”，激光束再次加热该区域，但只达到比它的熔点低一点的温度，使合金退火到结晶相，从而擦除该标记。该擦除区域可以再次用数据重新编码。当光学介质的表面暴露于例如灰尘或指纹的污染中，或者被划刻或损坏，在向光学介质上记录的过程中可能会出现问题。在光学介质(例如CD或DVD)所包括的各层中，聚碳酸脂衬底为其最上层。一般而言，用螺旋槽预先形成该聚碳酸脂衬底，当激光束读出、写入或擦除盘上的信息时该螺旋槽引导该激光束。损坏或污染能够产生使激光束以不希望的方式偏转的干扰。为了解决这些问题，为CD-RW系统开发了一种方法，在本领域中称为“运行最优功率控制”(ROPC)，用以“在空中”(“on-the-fly”)调节激光功率，以便补偿当向光学介质写入时遇到的干扰。ROPC方法的原理是间接地测量记录层上的激光功率，并且当盘上出现干扰时保持这个功率为恒定的。在记录期间，ROPC方法通过采样从“外围激光光点” (“satellite laser spots”)反射的信号为特定的光学介质确定“识别标志”，该“外围激光光点”位于包括在所述记录期间由激光束刻录的标记的区域中，这些区域邻近正被记录的区域(“写入区域”或“写入光点”)。采样的尺寸取决于系统的带宽(响应速度)。将识别标志与从当前写入区域反射的信号进行比较，以确定它的反射信号是否如此不一致以致于指示干扰。当遇到干扰时，ROPC通过调节激光功率以使从当前写入区域反射的信号与光学介质的识别标志一致，来补偿这个干扰。然而，因为与CD相比，DVD预先形成的螺旋槽的一圈与下一圈的距离(“轨距”)减少了，所以当用于可记录和可重写的DVD系统时，当前使用于CD-RW系统的ROPC方法是不利的。例如，典型的CD-RWROPC方法测量来自位于轨迹中间的两个外围光点的反射信号的平均值。在DVD介质上，其轨距相对于CD介质典型地减小到1/2以下(相对而言，分别为0.74μm和1.6μm)。在将来的光学介质中，轨距甚至可能减少得更多。因此，将已知的ROPC方法用于DVD格式意味着DVD介质上的外围激光光点可能“看到”邻近轨迹的一些部分。换句话说，激光光点可能无意中检测到从邻近轨迹反射的寄生信号。当邻近轨迹已经被写入时，在平均外围信号反射的计算中会产生所不希望的正反馈状态。用于染料介质的ROPC方法公开在日本专利No.10040548中，其中在坑的最大反射光强度之后的预置时间周期之后，峰值检测器和采样保持电路检测采样的反射光的强度。当开始在光盘上记录数据之前通过实际的记录区域时，在几种情况下，检测最大的反射光的强度和采样的反射光的强度。将这个最大的反射光的强度作为参考。在已经开始数据记录之后，再次检测来自坑的最大的反射光强度和采样的反射光强度。然后将这些值进行比较，并且基于该比较的结果执行ROPC。然而，因为这种方法也从较少反射的坑采样，所以它也可能检测例如从正在被重写的旧的坑反射的寄生信号。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个目的是提供一种方法和设备，用于获得可靠的反射信号的采样，由此实现精确的激光功率控制。这个目的是通过提供如下面详细描述的方法和设备来实现的。根据本专利技术的方法和设备通过使用从写入光点本身而不是从外围光点反射的信号来监视和控制在写入光点接收的实际激光功率，从而解决本领域中所述的问题。通过采样在高反射的结晶平面而不是在无定形平面的反射信号来实现采样完整性。此外，通过将采样值提供给功率控制环实现精确的功率控制。根据本专利技术的实施例，例如，通过执行最优功率校准(OPC)过程确定对于盘和记录器的特定组合的第一最优写入功率。对于相变介质，这样的OPC过程可以是基于众所周知的γ标准的。接下来，调整ROPC的参数以获得功率控制环的正常工作范围。这是通过使用在先前步骤确立的最佳写入功率来规范化在写入期间根据在写入光点观察到的反射计算出的后续的功率读数而实现的。换句话说，将最优写入功率用作参考值，将后续的功率读数与之进行比较。接下来，在盘的未受干扰的区域中并且在功率控制环被禁用的情况下，通过在最优写入功率下进行第一系列的测试写入，来校准工作范围。在测试写入期间，取得反射信号采样，以及通过调节增益，使得积分器环将提供反射信号的已滤波平均值。然后，在使能功率控制环的情况下进行第二系列的测试写入，如果反射信号指示最大功率电平已被超出，则该校准无效。最后，写入期间开始。当将信息写入记录介质时，ROPC采样从写入光点反射的信号，并且因此监视和控制激光功率。当遇到例如在表面上的指纹之类的表面损坏或污染时，反射(以及由此得到的测量功率)丢失。因此随着调节激光的实际功率，使得它保持在预定的功率控制限度内。预定的功率控制限度确保实际的激光功率保持在大约100％的最优写入功率和预定的最大功率电平之间的水平上。上述方法保证ROPC只在干扰期间有效运行，这是因为在干净的区域上，功率始终是最优的。根据本专利技术的另一个实施例，从在高反射的结晶“擦除”平面的写入光点采样反射信号。然后通过低通滤波器提供该反射信号，由此减少由于来自被改写的旧的坑的反射造成的采样噪声。这种方法的优点在于预定的采样区域的高反射率允许滤掉非预定的信号频率，因为这些非预定的信号一般来说是从非晶区域反射的。根据本专利技术的一个方面，反射信号采样的定时是可编程的，使得样本只取自结晶平台(plateau)的热稳定的部分。本专利技术可以在从记录介质反射的信号的电流域或电压域中实现。附图说明以本专利技术的示例性实施例为基础并根据附图，在下文中将详细地说明本专利技术；其中图1是说明光学记录介质和根据本专利技术实施例的设备之间的相互作用的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过具有写入功率电平的辐射束（１６０）在可写入或可重写的介质（１５０）上记录信息的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：通过执行最优功率校准（ＯＰＣ）协议确定向介质（１５０）写入的最优写入功率电平；向介质（１５０）的记录表面（１５２）写入信息，同时采样从介质（１５０）上的写入光点（１３０）反射的信号（１６５），该写入光点（１３０）是在记录表面（１５２）上的、辐射束（１６０）当前正在对其写入的区域；以及控制辐射束（１６０）的实际功率，使得由记录表面（１５２）接收的写入功率基本上保持恒定。

【技术特征摘要】
EP 2001-9-6 01203357.71.一种通过具有写入功率电平的辐射束(160)在可写入或可重写的介质(150)上记录信息的方法，其特征在于该方法包括以下步骤通过执行最优功率校准(OPC)协议确定向介质(150)写入的最优写入功率电平；向介质(150)的记录表面(152)写入信息，同时采样从介质(150)上的写入光点(130)反射的信号(165)，该写入光点(130)是在记录表面(152)上的、辐射束(160)当前正在对其写入的区域；以及控制辐射束(160)的实际功率，使得由记录表面(152)接收的写入功率基本上保持恒定。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于辐射束的实际功率是通过控制施加到辐射源(120)的实际电流来控制的。3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于正被采样的反射信号(165)是从记录表面(152)处于结晶相的位置反射的。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于定时反射信号(165)的采样，使得样本只取自结晶平台的基本上热稳定的部分。5.如权利要求3所述的方法，其特征在于从采样反射信号(165)得到的信号由低通滤波器进行滤波。6.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于当辐射束(160)的功率处于写入脉冲之间的读出相时采样反射信号(165)。7.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于该方法还包括将表示反射信号(165)的信号引入功率控制环(300)的步骤。8.如权利要求7所述的方法，其特征在于该方法还包括根据表示反射信号(165)的信号计算施加到写入光点(130)的辐射束(160)的功率的步骤。9.如权利要求7所述的方法，其特征在于功率控制环(300)是通过为施加到写入光点(130)的辐射束(160)的功率确立最小...

【专利技术属性】
技术研发人员：JL巴克西，GC莫尔，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]