磁性记录媒体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种磁性记录媒体的制造方法，该磁性记录媒体通过在基板上依次层叠至少基底层、磁性层、保护层和液体润滑层而形成，液体润滑层通过下列工序形成：以表面粗糙度Ｒｍａｘ以上的膜厚将用溶剂稀释过的液体润滑剂涂布在保护层上，形成厚膜液体润滑层的工序；通过边使媒体转动，边相对液体润滑层的表面使可滑动的部件压接，使液体润滑剂与保护层密接的工序；和通过使可溶解液体润滑剂的溶剂输出至媒体表面，减少液体润滑层的膜厚的工序。如此提供了一种维持１ｎｍ～２ｎｍ膜厚，可形成高覆盖率的液体润滑层，性能和可靠性高的磁性记录媒体的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在计算机等信息处理机器的信息记录装置或民用机器中所装的记录装置(特别是硬盘装置)中使用的；更详细地说，涉及即使在薄膜上拥有具有高的覆盖率的液体润滑层的。
技术介绍
随着近年来由计算机等信息处理机器处理的信息量的增加和信息处理机器的小型化，要求增大信息记录装置的记录容量。由于这样，就追寻增加信息记录装置中使用的磁性记录媒体(以下简单地称为“磁盘”)所要求的记录容量一条路。为了增加磁性记录媒体的记录容量。提高记录性能，必需降低磁头的浮起量。特别是，在现在引人注意的垂直磁性记录方式的装置中，磁束与在磁记录媒体面垂直的方向出来。因此可使磁头和媒体表面尽可能接近，使磁性间隔变窄。近年来，磁头的浮起量降低至10nm。在一般的磁盘中设有基板、基底层、磁性层和保护层，通过在保护层上设置液体润滑层提高耐久性。液体润滑层的膜厚通常为1nm～2nm左右，在这种膜厚下，实际的润滑剂分子成岛状附着在保护层表面上的状态，因此认为不能由一个薄膜构成完全的层结构。即由于在成岛状附着的各个润滑剂分子之间，(不存在润滑剂的区域)作为下层的保护层成为剥离状态，会引起后述的几个问题。在多数情况下，使用由飞溅法或CVD法形成的碳膜作为磁盘的保护层。通常，碳膜的表面为活性状态，容易吸附周围的气体和污物。被吸着的几种气体，卷起周围的水分，并引起腐蚀。磁盘的腐蚀给电磁变换特性带来重大故障，使HDD装置的可靠性显著降低。另外，现在一般在磁盘制造工序中，在涂布润滑剂工序后，导入使用加工带的带上光工序。这样，可除去在先前工序中附着的异物，可确保磁头的稳定浮起。但如上所述，由于在液体润滑层的通常膜厚下，完全覆盖保护层困难，因此，在带上光加工时，保护层和加工带直接接触。这样，产生摩擦电荷，该电荷积蓄在磁盘表面上。当摩擦电荷积蓄在磁盘表面上时，会引起阻碍滑动试验用的头或磁头的浮起。另外，为了可靠地除去在带上光工序中的异物，当增加带加工时的压力时，容易使磁盘表面产生损伤。上述问题，通过用润滑剂充分覆盖保护层，即在保护层上形成由一块薄膜构成的液体润滑层，可以解决。如果液体润滑层的膜厚达到10nm-100nm左右，则可以形成完全覆盖保护层的液体润滑层。但，具有厚的膜厚的液体润滑层，在目前要求降低磁头浮起量的磁盘中不合适。另外，在磁头接触行走的下一代磁性记录方式中，希望通过充分发挥液体润滑层的功能，避免保护层和磁头的磨擦，这样来再提高磁盘的可靠性。因此，为了提供可靠性高，性能更高磁性记录媒体，必需维持液体润滑层的适当膜厚(大约1nm～2nm)，另一方面要形成具有高覆盖率的液体润滑层。液体润滑层的代表性的形成方法为在磁盘表面上涂布润滑剂。通常，涂布润滑剂要使液体润滑层的平均膜厚达到1～2nm左右。但如先前所述，单纯涂布润滑剂，即使形成1～2nm左右的厚度的膜，也难以完全覆盖保护层。特别是在形成凹凸(组织)的磁盘上，凹部不能很好地涂布。为了改善形成这种润滑层时产生的润滑剂分布不均匀，作了几种尝试。例如，在特开2003-6849号公报中提出了在涂布润滑剂后，加上相当高的面压力进行抛光处理，使润滑剂分布均匀的方法。作为别的方法，还有使用溶解度高的适当的溶剂，均匀地稀释润滑剂溶液的浓度，通过溶剂挥发得到液体润滑层的润滑剂均匀分布的方法。
技术实现思路
但是，在液体润滑层形成中，即使在进行上述的抛光加工或涂布稀释的润滑剂情况下，也得不到非常满意的结果。在目前液体润滑层的平均膜厚为1～2nm左右的情况下，得不到很好的润滑效果。由于这样，当在高压力下进行抛光加工时，在抛光和薄膜碳等的保护层之间产生磨擦，在磁盘上诱发损伤的可能性高。因此在抛光加工中，可以使用的压接部件和加工时所加的压力受到明显限制。另外，在使用溶解性高的溶剂涂布润滑剂的情况下，溶剂挥发后，在盘表面上残存的润滑剂分布均匀，但平均膜厚为1～2nm左右的润滑剂涂布量不能形成完全的薄膜，润滑剂依然呈岛状附着。因此，本专利技术的目的是要提供可维持希望的液体润滑层的膜厚(大约1nm～2nm)，而且可形成具有高的覆盖率的液体润滑层，结果可得到高性能和可靠性高的磁性记录媒体，还要提供该。为了抑制润滑剂在液体润滑层上呈岛状附着，原理上希望有在不稀释润滑剂原液的状态下，极薄而均匀地在保护层表面上扩展的涂布方法。但是，这种涂布方法的原材料浪费多。目前由于在硬盘中使用的润滑剂原液昂贵，因此不合适。本专利技术者们对液体润滑层的形成进行了深入研究，发现，当在作为保护层的碳膜上涂布润滑剂时，与碳膜牢固粘接的只不过最下层的1、2分子层，更上层的润滑剂分子的粘附力比较弱，容易除去。即通过涂布润滑剂，即使形成数十至数百nm厚膜的润滑剂层，与保护层可靠粘接的比例，主要决定于基板的粗糙度和碳膜质与液体润滑剂的极性末端基，为一定的范围内。另外，在使用溶剂等并容易除去的范围内，除去润滑剂后的残余膜厚大致在1～2nm范围内，与实用的液体润滑层的膜厚一致。另外，利用溶剂而薄膜化的液体润滑层中，与保护层牢固粘接的粘接成分占优势，还残存比较自由活动的成分，就这样可成为磁盘的液体润滑层。从这个观点出发，本专利技术者经过厚膜液体润滑层的形成、使液体润滑层的润滑剂分布均匀和与保护层粘接，利用溶剂冲洗使厚膜液体润滑层变成薄膜的一连串工序，提供了在薄膜中，润滑剂不呈岛状附着，可以良好地覆盖保护层的液体润滑层，从而完成本专利技术。即本专利技术的，以可在基板上依次层叠至少是基底层、磁性层和保护层，进而可在上述保护层上形成液体润滑层的磁性记录媒体为目标，其特征为，形成上述液体润滑层的工序包括下列工序在上述保护层上，以使膜厚为上述保护层的表面粗糙度Rmax以上来涂布用溶剂稀释后的液体润滑剂，从而形成液体润滑层的第一工序；通过边使上述磁性记录媒体转动，边相对上述液体润滑层的表面使可滑动的部件压接，使上述液体润滑剂粘接在上述保护层上的第二工序；和通过使上述磁性记录媒体转动，并将可溶解上述液体润滑剂的溶剂输出至上述液体润滑层表面上，减少上述液体润滑层的膜厚的第三工序。为了使上述液体润滑层的膜厚为所希望的膜厚，通过在上述第三工序后，或在上述第一工序中使用与上述液体润滑剂相同或不同的液体润滑剂，反复涂布液体润滑剂，增加液体润滑层的膜厚。另外，在上述第三工序中，可通过使用与上述溶剂相同或不同的溶剂，反复除去液体润滑剂，进一步减少液体润滑层的膜厚。另外，在上述制造方法中，为了润滑剂的密接化所使用的可滑动的部件优选为由织布、无纺布或树脂制成的带状，衬垫状或海绵状的部件。在上述制造方法中，优选还具有回收由上述第三工序除去的液体润滑剂的工序。另外，作为上述磁性记录媒体优选适用头接触型垂直磁性记录方式。附图说明图1为表示本专利技术制造的磁性记录媒体的结构的示意性截面图；图2为表示本专利技术的的流程图；图3表示形成液体润滑层时的磁性记录媒体的结构，(a)为表示涂布液体润滑剂前的媒体的示意性截面图，(b)为表示形成厚膜液体润滑层后的媒体的示意性截面图，(c)为表示厚膜液体润滑层薄膜化后的媒体的示意性截面图；图4为说明涂布液体润滑剂的盘和输出喷嘴动作的示意图；图5为说明液体润滑剂的密接化中的盘和滑动部件的动作的示意图；图6为表示基于溶剂清洗的除去液体润滑剂中的液体接收机构的示意图。图7为表示由实施例1和比较例1得出的磁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁性记录媒体的制造方法，该磁性记录媒体通过在基板上依次层叠至少基底层、磁性层和保护层，进而在所述保护层上形成液体润滑层而形成，其特征为，形成所述液体润滑层的工序包括下列工序：以膜厚在所述保护层的表面粗糙度Ｒｍａｘ以上的厚度将用溶 剂稀释过的液体润滑剂涂布在所述保护层上，形成液体润滑层的第一工序；通过边使所述磁性记录媒体转动，边相对所述液体润滑层的表面使可滑动的部件压接，从而使所述液体润滑剂与所述保护层密接的第二工序；和通过边使所述磁性记录媒体转动，边 使可溶解所述液体润滑剂的溶剂输出至所述液体润滑层的表面，减少所述液体润滑层的膜厚的第三工序。

【技术特征摘要】
JP 2004-3-9 2004-0664221.一种磁性记录媒体的制造方法，该磁性记录媒体通过在基板上依次层叠至少基底层、磁性层和保护层，进而在所述保护层上形成液体润滑层而形成，其特征为，形成所述液体润滑层的工序包括下列工序以膜厚在所述保护层的表面粗糙度Rmax以上的厚度将用溶剂稀释过的液体润滑剂涂布在所述保护层上，形成液体润滑层的第一工序；通过边使所述磁性记录媒体转动，边相对所述液体润滑层的表面使可滑动的部件压接，从而使所述液体润滑剂与所述保护层密接的第二工序；和通过边使所述磁性记录媒体转动，边使可溶解所述液体润滑剂的溶剂输出至所述液体润滑层的表面，减少所述液体润滑层的膜厚的第三工序。2.如权利要求1所述的磁性记录媒体的制造方法，其特征为，在所述第三工序后，通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：矶崎诚，
申请(专利权)人：富士电机电子技术株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]