恒温烤盘及具恒温烤盘的锅具制造技术

本发明专利技术公开了一种恒温烤盘及具恒温烤盘的锅具，该恒温烤盘包括：一底座及一盘体，该盘体上具有一开口，其周缘与该底座的一面相密合，并与该底座间形成一容置空间，该容置空间与开口相接通，其中此开口供注入一液体至容置空间内，当底座开始被加热时，通过加热该液体至沸腾以恒温盘体，而供烘烤盘体上的食材。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种烤盘及具烤盘的锅具，尤其涉及一种通过加热液体至沸腾 以恒温的恒温烤盘及具恒温烤盘的锅具。
技术介绍
由于人们对于生活质量的要求不断提高，使得各行各业一直致力于研发更 新、更进步的产品，以符合更便利及效率的目的，且此一驱势不仅局限于高科 技产品领域而已，连与人们生活息息相关的庶务用品，借着人们对其不便利与 不良设计的抱怨，也被改良而大幅提高其便利性及进步性，使得各制造商在进 行产品设计时，莫不以更好的使用效果、更便利的功能作为设计导向，而其中 例如韩式烤肉店的商家所使用的一种传统的韩国式烤肉盘，如图1所示，图l为传统的韩国式烤肉盘的剖面结构图，于一烤肉盘500上冲出一隆起部501， 使得隆起部501于烤肉盘500上朝其一侧凸起，使得烤肉盘500上对应于隆起 部501的另一恻便凹陷成一凹槽502，烤肉盘500可被放置于炉火上加热，通 过烤肉盘具有高导热的特性，使得烤肉盘500所获得的高温可逐渐地被导引至 隆起部501的表面，以供使用者于隆起部501的表面放置食材，用以对食材进 行烘烤。然而，由于烤肉盘500与隆起部501与炉火间的距离不一，导致炉火对烤 肉盘500近距离加热的效果，无法与炉火于凹槽502内对距离较远的隆起部 501加热的效果一致，使得越接近隆起部501顶点的部分所获得的温度不同于 远离隆起部501顶点的部分，如此一来，使用者于隆起部501表面的任意位置 放置食材时，常造成不同位置的食材被烘烤的程度过焦与不熟，让使用者失去 烤用食材的兴趣，而且，使用者食用烘烤程度不佳的食材更对使用者的健康造 成危害，因此，相关业者必须针对烤肉盘上述的缺点或不便，加以更改设计， 借以增进烤肉活动的便利性与功效性。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种恒温烤盘及具恒温烤盘的锅具， 使得恒温烤盘上的食材可更能被均匀加热。为实现上述目的，提出一种恒温烤盘，由一底座及一盘体所组成，盘体上 具有一开口，其周缘与底座的一面相密合，并与底座间形成一容置空间，容置 空间与开口相接通，其中开口供注入一液体至容置空间内，当底座放置于一加 热设备上，开始被加热时，通过加热该液体至沸腾以恒温盘体，而烘烤盘体上 的食材。根据本专利技术的较佳实施例，盘体于开口上，活动地枢设有一盖体，盖体可 转动而覆盖或露出开口。盖体上贯设有一气孔，使得容置空间内的液体于加热 至沸点时，所汽化产生的气体可由此气孔流出，而不至使容置空间内的压力过 大。且底座背对盘体的一面设有一加热层，加热层由可导电的金属所制成，以 便底座放置于一电气产生热能的装置(如电磁炉)上时，可更均匀地达到传 热的效果。而且，为实现上述目的，本专利技术提供一种具恒温烤盘的锅具，以一锅体 及一盘体为主，盘体上具有一开口，其周缘与锅体的内面相密合，并与锅体间 形成一容置空间，锅体的周缘与盘体间形成一环状沟槽，其中开口供注入一液 体至容置空间内，通过加热液体至沸腾以恒温盘体的温度。其中的液体可为水、 含有盐成分的水或油等等。综上所述，通过本专利技术上述的结构特征，使得容置空间内的液体加热至沸 腾后，可对盘体表面均匀地传导热量，使得其上的食材不至半生不熟或烧焦。附图说明图1为传统的韩国式烤肉盘的剖面结构图2为具恒温烤盘的锅具的外观示意图；以及图3为具恒温烤盘的锅具的剖面操作示意图。 10:底座 202:凸块101:凸缘 203:开口102:环状沟槽 204:盖体103:加热层 104:锅体 20 :盘体205:气孔 30 :液体40 :电气产生热能的装置201:容置空间 具体实施例方式如上所述，本专利技术提供一种恒温烤盘及具恒温烤盘的锅具，系于图2具恒 温烤盘的锅具的外观示意图，以及图3具恒温烤盘的锅具的剖面操作示意图， 所揭露的一较佳实施例中，请同时参阅图2及图3所示，是由具高导热特性的 一圆形底座10及一半球型盘体20所组成，盘体20的周缘与底座10的一面相 密合，并与底座10间形成一容置空间201，容置空间201以供容纳一液体30 (如水、盐水或油等等)，盘体20的顶部开设有一开口 203，开口 203与 容置空间201相接通，其周围活动地枢设有一盖体204，此盖体204可被转动 以覆盖于开口 203上，避免液体30溅出，或者被转动以露出开口 203，以供 使用者于此开口 203注入液体30至容置空间201内。另外，此盖体204上也贯设有一气孔205，气孔205可于盖体204覆盖于 开口 203上，且容置空间201内的液体30被加热至一沸点后，提供排放因汽 化所产生的气体，而使容置空间201内的压力不至过大。同时，盘体20的外 部表面呈一弧状，盘体20的弧状表面上具有多个均匀排列的凸块202，此些 凸块202可防止放置于弧状表面上的食材不易滑落。上述的实施例中，底座10周缘均环设有一凸缘101，使其形成一锅体104， 锅体104与该盘体20间形成一环状沟槽102，此环状沟槽102可供火锅料理 使用，或者，提供收集盘体20的弧状表面上的食材所流出的油脂、水分或残 渣，另外，底座10或锅体104背对盘体20的一面设有一加热层103，加热层 103由可导电的金属(如不锈钢、铁等等)所制成，以便放置于一电气产生 热能的装置(如电磁炉)上，可更均匀地达到传热的效果，提升热能的提供。因此，当底座10或锅体104具加热层103的一面放置于一加热设备(如 电磁炉)，以对底座10或锅体104进行加热时，底座10或锅体104会使容置 空间201内的液体30快速受热，使得液体30可逐渐升温至沸点(boiling point)，本专利技术的液体30以水为例，当水被加热至其沸点(约摄氏100度)时，由于盘体20也具有高导热的特性，使得盘体20的表面也具有约略摄氏 100度的温度，如此，通过容置空间201内的水的持续沸腾，使得盘体20的 表面持续地保持沸腾时所具有的高温，以供盘体20的弧状表面上所放置的食 材可被一致地加热，而不致半生不熟或导致烧焦。在此值得一提的是，本案所述的加热液体至沸腾以恒温盘体，其盘体上 所表现的温度，可能因现实环境(如现场温度、气压、附于盘体20表面的 食材温度等)而使此液体沸腾时的温度有所提升或降低(如摄氏3-5度不等)， 并非仅限定于固定的不变温度，而且虽然本专利技术已以一较佳实施例揭露如上， 然其并非用以限定本专利技术，本领域技术人员，在不脱离本专利技术的精神和范围内， 当可作各种的更动与润饰，如盘体20的外形不一定限定于半圆球体，任何具 有可放置液体30的容置空间201，以及其外部的表面可供放置食材者，如立 方体或锥形体，均是本专利技术的保护范围所要保护的范围，因此本专利技术的保护范 围当视后附的权利要求书所界定者为准。当然，本专利技术还可有其它多种实施例，在不背离本专利技术精神及其实质的情 况下，熟悉本领域的普通技术人员当可根据本专利技术做出各种相应的改变和变 形，但这些相应的改变和变形都应属于本专利技术所附的权利要求的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种恒温烤盘，其特征在于，至少包含：　一底座；以及　一盘体，该盘体上具有一开口，其周缘与该底座的一面密合，并与该底座间形成一容置空间，其中该开口供注入一液体至该容置空间内，通过加热该液体至沸腾以恒温该盘体。

【技术特征摘要】
1、一种恒温烤盘，其特征在于，至少包含一底座；以及一盘体，该盘体上具有一开口，其周缘与该底座的一面密合，并与该底座间形成一容置空间，其中该开口供注入一液体至该容置空间内，通过加热该液体至沸腾以恒温该盘体。2. 根据权利要求2所述的恒温烤盘，其特征在于，该开口上活动地枢设 有一盖体，该盖体供转动而覆盖或露出该开口。3. 根据权利要求2所述的恒温烤盘，其特征在于，该盖体上贯设有一气孔。4. 根据权利要求1所述的恒温烤盘，其特征在于，该底座背对该盘体的 一面设有可导电的一加热层。5. 根据权利要求1所述的恒温烤盘，其特征在于，该液体为水。6. —种具恒温烤盘的锅具，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张景宏，
申请(专利权)人：张景宏，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]