磁记录介质及其制造方法和磁记录装置制造方法及图纸

技术编号:3059904 阅读:123 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种磁记录介质,包括:伺服区,其包含前同步信号区和色同步信号区,并具有磁性膜的标记;以及数据区,其具有上述磁性膜的分离磁道。上述色同步信号区包括信号部和非信号部,上述信号部包括在磁道方向上以周期性的图形形成的、其平面几何形状为矩形的上述磁性膜的矩形标记;上述非信号部包括上述磁性膜的标记,该标记具有与上述信号部中的矩形标记的图形不同的图形。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及磁记录介质、采用压印光刻法(imprint lithography)的该磁记录介质的制造方法,以及使用该磁记录介质的磁记录装置。
技术介绍
在磁记录装置中,伴随着大容量化的要求,必须增加磁记录介质的记录密度。在具有高记录密度的磁记录介质中,在通过磁头向某磁道记录数据时,对邻接的磁道上已记录的数据产生不良影响的可能性增大。为了解决该问题,提出了一种利用在磁道宽度方向上互相物理分离的磁性膜来形成磁道的磁记录介质(分离磁道介质discrete trackmedia)(例如参见日本专利申请特开昭62-256225号公报)。另外,在磁记录装置中,从磁记录介质的伺服区中读出伺服数据以进行磁头定位。在现有的磁记录介质中,通过利用伺服磁道写入器在磁性膜上进行磁记录,来形成伺服区。与此相比,在分离磁道介质中,最好是处理磁性膜以形成伺服区内的伺服标记,以及也形成分离磁道的图形。这种磁记录介质即所谓图形介质,最好是利用压印光刻法来进行制造。这里,若磁性图形的尺寸为小于等于500nm,则很难用光刻法来加工磁性膜。若利用电子束刻蚀,则能够形成尺寸小于等于500nm的微细结构,但由于扫描速度慢本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质,其特征在于具有:伺服区,其包含前同步信号区和色同步信号区,并具有磁性膜的标记;以及数据区,其具有上述磁性膜的分离磁道,上述色同步信号区包括信号部和非信号部,上述信号部包括在磁道方向上以周期性图形形成的 上述磁性膜的第一标记,上述非信号部包括上述磁性膜的第二标记,该第二标记具有与上述信号部中的上述第一标记的图形不同的图形。

【技术特征摘要】
JP 2004-3-31 108107/20041.一种磁记录介质,其特征在于具有伺服区,其包含前同步信号区和色同步信号区,并具有磁性膜的标记;以及数据区,其具有上述磁性膜的分离磁道,上述色同步信号区包括信号部和非信号部,上述信号部包括在磁道方向上以周期性图形形成的上述磁性膜的第一标记,上述非信号部包括上述磁性膜的第二标记,该第二标记具有与上述信号部中的上述第一标记的图形不同的图形。2.如权利要求1所述的磁记录介质,其特征在于上述第一标记为平面几何形状是矩形的矩形标记。3.如权利要求2所述的磁记录介质,其特征在于上述非信号部包括在磁道方向上以周期性图形形成的、其平面几何形状为矩形的上述磁性膜的第二标记,并且上述非信号部中的上述磁性膜的第二标记的间距不同于上述信号部中的上述磁性膜的第一标记的间距。4.如权利要求2所述的磁记录介质,其特征在于上述非信号部包括以周期性图形形成的、其平面几何形状为与磁道方向平行的长条的上述磁性膜的第二标记。5.如权利要求2所述的磁记录介质,其特征在于上述非信号部包括以周期性图形形成的、其平面几何形状为点的上述磁性膜的第二标记,并且上述非信号部中的上述磁性膜的第二标记的间距不同于上述信号部中的上述磁性膜的第一标记的间距。6.如权利要求1所述的磁记录介质,其特征在于上述色同步信号区中的磁性标记的面积比率被设定为上述前同步信号区中的磁性标记的面积比率和上述数据区中的分离磁道的面积比率之间的中间值。7.如权利要求1所述的磁记录介质,其特征在于上述介质包括在上述前同步信号区和上述色同步信号区之间的地址区。8.磁记录介质的制造方法,其特征在于包括在基片上沉积磁性膜,在上述磁性膜上涂敷抗蚀剂;将一压模按压到上述抗蚀剂上,以压印一凹凸图形,该凹凸图形对应于权利要求1所述的磁记录介质的上述伺服区和上述数据区中的上述标记的图形;和使用压印后的抗蚀剂作为掩模,对上述磁性膜进行处理。9.如权利要求8所述的方法,其特征在于上述压模是通过电铸形成的。10.磁记录介质的制造方法,其特征在于包括在基片上涂敷...

【专利技术属性】
技术研发人员:樱井正敏朝仓诚冲野刚史
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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