磁记录介质制造技术

本发明专利技术提供一种用非磁性材料基本上完全填充了作为凹凸图形的凸部而形成的记录要素之间的凹部的可靠性高的磁记录介质。磁记录介质（１０）是包含有基板（１２）、记录层（１４）和非磁性材料（２０）的板状体，上述记录层是在该基板上以规定的凹凸图形形成，而记录信息用的记录要素（１６）作为上述凹凸图形的凸部而形成，上述非磁性材料填充在上述记录要素之间的凹部（１８）中，该记录要素的侧面（１６Ａ）向着面向板状体的表面中上述记录要素在上述凹凸图形中突出一侧的表面（１０Ａ）的方向倾斜，并且该记录要素的侧面相对于与上述表面垂直的方向所构成的倾斜角（θ）小于９０°，且为５°或５°以上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及以规定的凹凸图形形成记录层、并将记录信息用的记录要素作为凹凸图形的凸部而形成的磁记录介质。
技术介绍
现有技术中，硬盘等磁记录介质通过改善构成记录层的磁性粒子的微细化、材料的变更和磁头加工的微细化等，实现了面记录密度的显著提高，今后也期待着面记录密度的进一步提高。但是，由于磁头的加工限制、磁场的扩宽引起的向与记录对象的磁道相邻的磁道记录错误信息和再现时的串扰等问题显著化，利用现有的改良办法提高面记录密度已达到极限，因此，作为可实现面记录密度的进一步提高的磁记录介质的候补，提出了以规定的凹凸图形形成记录层、并将记录信息用的记录要素作为凹凸图形的凸部而形成的离散磁道介质和图形化介质等的磁记录介质(例如，参照日本专利申请特开平10-222944号公报、特开平9-97419号公报)。再有，认为最好记录要素的侧面也如特开平10-222944号公报等中记载的那样相对于表面接近于垂直。这样，通过在形成为凸部的记录要素上记录信息，就能够抑制向与记录对象的磁道相邻的磁道记录错误的信息和串扰等。另一方面，若磁记录介质的表面是凹凸图形，则磁头的浮动高度变得不稳定，有时记录、再现特性发生恶化，因此最好在凹凸图形的记录层上成膜非磁性材料而填充记录要素之间的凹部，去除记录要素上剩余的非磁性材料而使表面平整化。再有，记录要素的侧面容易因加工而受到损伤，由此有时磁特性发生恶化。若无视这样的由于加工记录要素的侧面而受到的损伤，则存在这样的情况，即水分和空气中的氧气等引起的腐蚀、氧化不断发展，磁特性进一步恶化，但通过在记录要素的侧面上密合非磁性材料，能够抑制水分和氧气与记录要素的侧面接触，因此基于这一点，也最好用非磁性材料来填充记录要素之间的凹部。作为将记录层加工成凹凸图形的办法，可利用干蚀刻的办法。再有，关于干蚀刻，开发出了用于将凹凸图形的凸部的侧面加工成相对于表面接近于垂直的形状的各种各样的办法。再有，作为成膜非磁性材料的办法，可利用在半导体制造的领域中使用的溅射等的成膜技术。再有，关于去除记录层上剩余的非磁性材料而进行平整化的办法，也可利用在半导体制造的领域中使用的CMP(化学机械抛光ChemicalMechanical Polishing)等的加工技术。但是，即使使用上述办法在凹凸图形的记录层上成膜非磁性材料，也很难用非磁性材料完全填充记录要素之间的凹部，有时就在凹部内形成空隙部。若这样在凹部内形成空隙部，则水分和空气等进入到空隙部中，记录要素的侧面就被腐蚀或被氧化，恐怕磁特性就会恶化。
技术实现思路
本专利技术是鉴于以上的问题点而完成的，其目的在于提供一种可靠性高的磁记录介质，用非磁性材料基本上完全填充了作为凹凸图形的凸部而形成的记录要素之间的凹部。本专利技术通过以下的结构达到上述目的，即，记录要素的侧面向着面向记录要素突出一侧表面的方向倾斜，并且，该记录要素的侧面相对于垂直上述表面的方向而构成的倾斜角小于90°，且为5°或其以上。这样，通过使记录要素的侧面向着面向表面侧的方向倾斜，从而非磁性材料容易进入到凹部中，得到防止或抑制在凹部内形成空隙部的效果。即，在现有技术中形成记录要素为凹凸图形的凸部的情况下，通常是将记录要素的侧面加工成相对于表面尽量垂直，相对于此，本专利技术通过使记录要素的侧面面向表面侧而倾斜，从而实现了磁记录介质的可靠性的提高，本专利技术基于与现有技术完全不同的新观念而完成的。即，利用如下的本专利技术，能够达到上述目的。(1)一种磁记录介质，其特征在于，是包含有基板、记录层和非磁性材料的板状体，上述记录层是在该基板上以规定的凹凸图形形成，而记录信息用的记录要素作为上述凹凸图形的凸部而形成，上述非磁性材料填充在上述记录要素之间的凹部中，该记录要素的侧面向着面向板状体的表面中上述记录要素在上述凹凸图形中突出一侧的表面的方向倾斜，并且该记录要素的侧面相对于与上述表面垂直的方向所构成的倾斜角小于90°，且为5°或5°以上。(2)上述(1)所述的磁记录介质的特征在于，上述倾斜角为16°或16°以上。(3)上述(1)或(2)所述的磁记录介质的特征在于，上述倾斜角为45°或45°以下。(4)上述(1)至(3)的任一项所述的磁记录介质的特征在于，上述记录要素以200nm或200nm以下的间距在数据区域中形成。(5)上述(1)至(4)的任一项所述的磁记录介质的特征在于，上述记录层的厚度为25m或25nm以下。(6)上述(1)至(5)的任一项所述的磁记录介质的特征在于，上述非磁性材料是氧化物、氮化物和碳化物中的任一种。(7)上述(1)至(6)的任一项所述的磁记录介质的特征在于，上述非磁性材料是具有非晶结构的材料和微晶状态的材料中的任一种。(8)上述(1)至(7)的任一项所述的磁记录介质的特征在于，上述非磁性材料的主要成分是SiO2。(9)上述(1)至(8)的任一项所述的磁记录介质的特征在于，上述记录层限定为上述凹凸图形的凸部而形成。再有，在本申请中，所谓的“在基板上以规定的凹凸图形形成，而记录信息用的记录要素作为上述凹凸图形的凸部而形成的记录层”是指除了被分割成多个记录要素的记录层以外，也包括以一部分连续的形式将记录要素局部分割的记录层、如螺旋状的旋涡形状的记录层这样的连续形成在基板上的一部分上的记录层、形成了凸部和凹部双方的连续的记录层。再有，在本申请中，所谓的“磁记录介质”不限定于使用磁性进行信息的记录和读取的硬盘、floppy(注册商标)软磁盘、磁带等，也包括并用磁性和光的MO(Magneto Optical磁光盘)等的光磁记录介质和并用磁性和热量的热协助型的记录介质。再有，在本申请中，所谓的“凹凸图形的凸部”是指相对于表面垂直的截面中的凹凸形状的突出部分。再有，在本申请中，所谓的“微晶状态的材料”是指在X射线衍射中没有结晶性峰值的材料。根据本专利技术，由于记录要素的侧面向着面向表面侧的方向倾斜，因此非磁性材料容易进入到凹部中，能用非磁性材料基本上完全填充记录要素之间的凹部。附图说明图1是示意地示出本专利技术实施方式的磁记录介质的结构的侧面截面图。图2是进一步放大示出该磁记录介质的结构的侧面截面图。图3是示出该磁记录介质的制造工序的概要的流程图。图4是示意地示出该制造工序中被加工体的加工坯体的结构的侧面截面图。图5是示意地示出表面上形成了记录要素的被加工体的形状的侧面截面图。图6是放大后示意地示出形成记录要素的状况的侧面截面图。图7是示意地示出在记录要素上成膜非磁性材料、并用非磁性材料填充了凹部的上述被加工体的形状的侧面截面图。图8是示意地示出上述被加工体的表面的平整化工序的侧面截面图。图9是示出各磁记录介质10的记录层的Ms相对于倾斜角θ为0°的记录层的Ms的比率与倾斜角θ的关系的曲线图。具体实施例方式以下参照附图，关于本专利技术的最佳实施方式详细地进行说明。本实施方式的磁记录介质10是垂直记录型的离散类型的磁盘，如图1所示，在基板12上用凹凸图形形成记录层14，记录信息用的记录要素16作为凹凸图形的凸部而形成。记录要素16间的凹部18中填充了非磁性材料20。如图2放大地所示，磁记录介质10的特征是，记录要素16的侧面16A向着面向磁记录介质10的表面中的表面10A的方向倾斜，所述表面10A是记录要素16在上述凹凸图形中突出一侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质，其特征在于，是包含有基板、记录层和非磁性材料的板状体，上述记录层是在该基板上以规定的凹凸图形形成，而记录信息用的记录要素作为上述凹凸图形的凸部而形成，上述非磁性材料填充在上述记录要素之间的凹部中，该记录要素的侧面向着面向板状体的表面中上述记录要素在上述凹凸图形中突出一侧的表面的方向倾斜，并且该记录要素的侧面相对于与上述表面垂直的方向所构成的倾斜角小于９０°，且为５°或５°以上。

【技术特征摘要】
JP 2004-4-30 2004-1358661.一种磁记录介质，其特征在于，是包含有基板、记录层和非磁性材料的板状体，上述记录层是在该基板上以规定的凹凸图形形成，而记录信息用的记录要素作为上述凹凸图形的凸部而形成，上述非磁性材料填充在上述记录要素之间的凹部中，该记录要素的侧面向着面向板状体的表面中上述记录要素在上述凹凸图形中突出一侧的表面的方向倾斜，并且该记录要素的侧面相对于与上述表面垂直的方向所构成的倾斜角小于90°，且为5°或5°以上。2.如权利要求1所述的磁记录介质，其特征在于，上述倾斜角为16°或16°以上。...

【专利技术属性】
技术研发人员：高井充，添野佳一，田上胜通，岛川和也，
申请(专利权)人：TDK股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]