记录介质、记录装置和记录方法制造方法及图纸

记录介质（１００）具有用于记录记录信息的第一记录层（Ｌ０）和第二记录层（Ｌ１）。该第一记录层和第二记录层具有分别用于记录控制信息的控制区（１０２，１０８），该控制信息用于至少控制记录信息的记录和重放。对应于第一记录层中控制区的内圆周侧的结束部分的第二记录层的区域部分，和在第二记录层中控制区的外圆周侧上的结束部分分开规定值或更多。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种诸如DVD这样的记录介质、诸如DVD记录器这 样的记录装置和方法、以及使计算机用作记录装置的计算机程序。
技术介绍
例如，在诸如CD-ROM (只读光盘存储器)、CD-R (可记录的光 盘)、以及DVD-ROM这样的信息记录介质中，如专利文献1和2等 中所描述的，已开发了诸如多层型或双层型光盘这样的其中多个记录 层层压或粘贴在相同衬底上的信息记录介质。此后，在诸如DVD记录 器这样的用于对双层型光盘执行记录的信息记录装置上，使用于记录 的激光聚焦于从激光的照射侧来看位于前面(即较靠近光学拾取器的 一侧)的记录层上(必要时在下文中称为L0层)，从而按照不可 逆变记录方法或通过加热的可重写方法将数据记录到LO层中。此后， 使激光通过L0层等聚焦于或聚集于从激光的照射侧来看位于L0层后 面(即较远离光学拾取器的一侧)的记录层上(必要时在下文中称为 L1层)，从而按照不可逆变记录方法或通过加热的可重写方法将 信息记录到Ll层中。专利文献1:日本专利申请未决公开NO. 2000-311346 专利文献2:日本专利申请未决公开NO. 2001-23237
技术实现思路
本专利技术所要解决的问题在这种双层型光盘中(尤其是按照相反轨道路径方法的光盘)， 未定义导入区的边缘(尤其是内圆周侧上的边缘)与导出区的边缘(尤 其是外圆周侧上的边缘)之间的特定位置关系。然而，存在这样的技术问题，即如果导入区内圆周侧上的边缘与导出区外圆周侧上的边缘 之间的存在非常大的间隔，那么用于将用户数据记录在其中的记录容 量变得非常小。另一方面，还存在这样的技术问题，即如果导入区内 圆周侧上的边缘与导出区外圆周侧上的边缘之间存在非常小的间隔， 那么很难或者不可能确定地保证稳定的记录操作或重放操作。因此本专利技术的目的就是提供一种形成有优选的导入区和优选的导 出区的记录介质、记录装置和方法、以及计算机程序。解决该问题的方式 (记录介质)本专利技术的上述目的可以是通过一种记录介质来实现的，该记录介 质具有第一记录层和第二记录层，用于将记录信息记录在其中；以 及第一记录层上的控制区和第二记录层上的控制区(例如，导入区， 导出区等)，用于将用于对记录信息的记录和重放的至少一个进行控 制的控制信息记录在其中，其中第一记录层中的控制区的内半径与第 二记录层中的控制区的外半径之间的距离大于或等于第一预定值。根据本专利技术的记录介质，将记录信息记录到第一记录层和第二记 录层的每一个中。第一记录层和第二记录层的每一个被提供有用于将 控制信息记录在其中的控制区。顺便说一下，就记录在控制区中的控 制信息而言，整个信息不必用于对记录信息的记录和重放的至少一个 进行控制。这是指作为整个控制区仅需对记录信息的记录和重放的至 少一个进行控制。例如，这是指即使将不具有意义的假信息记录到控 制区中，作为整个控制区也仅需对记录信息的记录和重放的至少一个 进行控制。具体地说在本专利技术中，(i)与第一记录层中的控制区的内圆周侧 上的边缘相对应的第二记录层中的区域部分与(ii)第二记录层中的控 制区的外圆周侧上的边缘之间的距离大于或等于第一预定值或更大。换句话说，第一记录层中的控制区的内半径与第二记录层中的控制区 的外圆周侧彼此相距第一预定值或更大。术语相对应在这里表示 在设计中它存在于基本上相对或相反的位置上(例如基本上相同的径 向位置)。在实际记录介质中，由于生产处理过程中的影响等而不是 必须位于相对位置上。术语相对在这里表示两个点实际上在相同 径向位置上这样的关系。例如，如随后详细描述中所详细讨论的，第 一记录层中的控制区的内半径和第二记录层中的控制区的外半径彼此相距与o.4mm+容限长度(相对容限)相对应的长度。因此，可确保优选优选的记录操作或重放操作。换句话说，可提供可确保优选优 选的记录操作或重放操作的优选优选地控制区(即导入区和导出区)。在本专利技术的记录介质的一个方面中，第一记录层中的控制区的内 半径和第二记录层中的控制区的内半径位于相同半径位置上。根据这个方面，可得到上述益处，同时所述第一记录层上的控制 区的内半径和所述第二记录层上的控制区的内半径可位于相同半径位 置上。在这个方面中，第二记录层中的控制区大于第一记录层中的控制区。通过这种结构，可得到上述益处，同时第二记录层中的控制区大 于第一记录层中的控制区。在本专利技术的记录介质的另一方面中，根据减量地址方法来分配第 一记录层和第二记录层每一个中的地址，第一记录层具有记录了用于 对记录介质进行标识的标识信息的标识区，并且第二记录层中的控制区的外半径的地址等于或大于00336Fh。根据这个方面，可保持第一记录层中的控制区的内半径与第二记录层中的控制区的外半径相距预定值或更大。因此，可形成优选优选 的控制区。顺便说一下，减量地址方法是用于分配地址的方法，在该方法中 在按照例如相反轨道路径方法的记录介质的情况下，地址值在第一记 录层中从内圆周侧至外圆周侧递减并且在第二记录层中从外圆周侧至 内圆周侧递减。在本专利技术的记录介质的另一方面中，第一记录层提供有其中记录 了用于对记录介质进行标识的标识信息的标识区，并且在记录介质的 径向上，第 一 记录层中的控制区的内半径与标识区的外半径之间的距离基本上等于186 m。通过这种结构，即使存在标识区，也可形成优选优选的控制区。在这个方面中，标识区是NBCA (窄突发切削区)。通过这种结构，提供了NBCA,并且也可形成优选优选的控制区。在这个方面中，第一预定值是通过在记录介质的径向上使容限长 度增加0.4mm而获得的值，其中容限长度表示在第一记录层中的预定 位置上所定义的地址与其与第二记录层中的预定位置关联的地址之间 的相对位移的可接受范围。通常，在该记录介质中，根据生产处理的质量，在设计中定义第 一记录层或第二记录层中的地址不必与实际定义所制造的光盘上的地 址相匹配。换句话说，存在这样的可能性，即可生产出某个地址远离 在设计中该某个地址所处的径向位置这样的光盘。因此，在设计中预 定区域不是位于预期位置，并且其结果是，可想像无法通过己记录有 记录信息的第一记录层的区域部分而将记录信息记录到第二记录层中这样的情况。在这种情况下，记录在第二记录层中的记录信息的质量 根据第一记录层的记录状态而变，这不是优选优选的。然而，通过这 种结构，考虑到地址的位移而形成优选优选的控制区。顺便说一下，容限长度表示在第一记录层中的预定位置上所定义的地址与其与 第二记录层中的预定位置关联的地址之间的相对位移。换句话说，容 限长度表示在第一记录层中的预定位置上所定义的地址与在所述第 二记录层中的预定位置上所定义的地址之间的相对位移的可接受范 围。进一步换句话说，容限长度是(i)禾Q (ii)之和，其中(i) 是在设计中定义预定地址的位置与实际上生产的记录介质上的预定地 址的位置之间的第一记录层中的位移的可接受范围；且(ii)是在设计 中定义预定地址的位置与实际生产的记录介质上的预定地址的位置之 间的第二记录层中的位移的可接受范围。在本专利技术的记录介质的另一方面中，第一记录层中的控制区的外 半径与第二记录层中的控制区的外半径之间的距离大于或等于第二预定值。例如，如随后在详细描述中所详细讨论的，第一记录层中的控制 区本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种记录介质，包括：第一记录层和第二记录层，用于将记录信息记录在其中；以及所述第一记录层中的控制区和所述第二记录层中的控制区，用于在其中记录用于对记录信息的记录和重放的至少一个进行控制的控制信息，其中所述第一记录层中 的控制区的内半径与所述第二记录层中的控制区的外半径之间的距离大于或等于第一预定值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-1-14 008445/20051.一种记录介质，包括第一记录层和第二记录层，用于将记录信息记录在其中；以及所述第一记录层中的控制区和所述第二记录层中的控制区，用于在其中记录用于对记录信息的记录和重放的至少一个进行控制的控制信息，其中所述第一记录层中的控制区的内半径与所述第二记录层中的控制区的外半径之间的距离大于或等于第一预定值。2. 根据权利要求1的记录介质，其中所述第一记录层中的控制区的内半径和所述第二记录层中的控制 区的内半径位于相同半径位置上。3. 根据权利要求2的记录介质，其中所述第二记录层中的控制区大于所述第一记录层中的控制区。4. 根据权利要求1的记录介质，其中根据减量地址方法来分配所述第一记录层和所述第二记录层的每 一个中的地址，所述第一记录层包括其中记录了用于对所述记录介质进行标识的 标识信息的标识区，并且所述第二记录层中的控制区的外半径的地址等于或大于 00336Fh。5. 根据权利要求1的记录介质，其中所述第一记录层包括其中记录了用于对所述记录介质进行标识的 标识信息的标识区，并且在所述记录介质的径向上，所述第一记录层中的控制区的内半径 与标识区的外半径之间的距离基本上等于186ixm。6. 根据权利要求4的记录介质，其中，该标识区是NBCA(窄突 发切削区)。7. 根据权利要求4的记录介质，其中，该第一预定值是通过在所 述记录介质的径向上将容限长度加上0.4mm而获得的值，其中容限长 度表示在所述第一记录层中的预定位置上所定义的地址与与所述第二 记录层中的预定位置关联的地址之间的相对位移的可接受范围。8. 根据权利要求1的记录介质，其中，所述第一记录层中的控制 区的外半径与所述第二记录层中的控制区的外半径之间的距离大于或 等于第二预定值。9. 根据权利要求8的记录介质，其中根据减量地址方法来分配所述第一记录层和所述第二记录层的每 一个中的地址，并且所述第二记录层中的控制区的外半径的地址等于或大于 003329h，，。10. 根据权利要求8的记录介质，其中，该第二预定值是容限长 度与间隙长度之和，其中容限长度表示在所述第一记录层中的预定位 置上所定义的地址与与所述第二记录层中的预定位置关联的地址之间 的相对位移的可接受范围，并且间隙长度表示在用于将记录信息记录 到所述记录介质上的激光聚焦于所述第二记录层上的情况下所述第一 记录层上的激光的光点半径与所述第一和第二记录层的相对偏心移动 之和。11. 根据权利要求8的记录介质，其中，在所述记录介质的径向 上，所述第一记录层中的控制区的外半径与所述第二记录层中的控制 区的外半径之间的距离基本上等于105 um。12. 根据权利要求1的记录介质，其中在一个方向上将记录信息 记录到所述第一记录层中，并且在与这一个方向不同的另一方向上将 记录信息记录到所述第二记录层中。13. —种记录装置，包括第一记录设备，用于将记录信息记录到下述记录介质上，所述记 录介质包括用于将记录信息记录在其中的第一记录层和第二记录层；第二记录设备，用于将用于对记录信息的记录和重放的至少一个 进行控制的控制信息记录到所述第一记录层和所述第二记录层的每一 个中；以及控制设备，用于控制所述第二记录设备对控制信息进行记录，以 便所述第一记录层中的记录有控制信息的区域部分的内半径和所述第 二记录层中的记录有控制信息的区域部分的外半径之间的距离大于或 等于第一预定值。14. 根据权利要求13的记录装置，其中所述控制设备控制所述第二记录设备对控制信息进行记录，以便 所述第一记录层中的记录有控制信息的区域部分的内半径...

【专利技术属性】
技术研发人员：大森久圣，加藤正浩，川野英作，三浦雅浩，钟江彻，
申请(专利权)人：日本先锋公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]