一种基片传输系统技术方案

技术编号:30465959 阅读:7 留言:0更新日期:2021-10-24 19:13
本实用新型专利技术公开了一种基片传输系统,包括真空腔室、工艺腔室和基片传输机构,真空腔室与工艺腔室对接,且二者之间设有控制真空腔室与工艺腔室通断的阀门,基片传输机构包括基片手指、第一直移模组和第二直移模组,第一直移模组设于真空腔室的底部,第二直移模组设于第一直移模组上,第二直移模组位于真空腔室内,基片手指设于第二直移模组上,第一直移模组用于驱动第二直移模组朝向阀门移动,第二直移模组用于驱动基片手指朝向工艺腔室移动。本实用新型专利技术可在不开腔的情况下,实现对工艺腔室内基片的取放,有效提高工艺时间在设备运行时间中的占比,提高产能,并保持工艺腔室真空状态,改善工艺质量。善工艺质量。善工艺质量。

【技术实现步骤摘要】
一种基片传输系统


[0001]本技术涉及太阳能电池、半导体制造行业,尤其涉及一种基片传输系统。

技术介绍

[0002]随着微电子、半导体等行业发展越来越快,对设备的产能、自动化程度及工艺质量要求越来越高,传统单腔体形式设备往往需要在每次工艺完成后进行手动开腔取放片,导致工艺时间在整体设备运行时间中占比极低,同时反复开腔容易造成反应室污染,影响工艺质量。而大型生产线采用的是真空机械手来实现Loadlock腔室(真空腔室)与工艺腔室间基片传送,提高设备产能,保持工艺腔室真空状态,但由此带来的是昂贵的设备成本及维修成本。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种可在不开腔的情况下,实现对工艺腔室内基片的取放,有效提高工艺时间,改善工艺质量,提高设备产能的基片传输系统。
[0004]为解决上述技术问题,本技术采用以下技术方案:
[0005]一种基片传输系统,包括真空腔室、工艺腔室和基片传输机构,所述真空腔室与工艺腔室对接,且二者之间设有控制真空腔室与工艺腔室通断的阀门,所述基片传输机构包括基片手指、第一直移模组和第二直移模组,所述第一直移模组设于真空腔室的底部,所述第二直移模组设于第一直移模组上,所述第二直移模组位于真空腔室内,所述基片手指设于第二直移模组上,所述第一直移模组用于驱动第二直移模组朝向阀门移动,所述第二直移模组用于驱动基片手指朝向工艺腔室移动。
[0006]作为上述技术方案的进一步改进,所述第一直移模组包括直线执行驱动、第一主皮带组、第一从皮带组、第一导轨和第一移动座,所述执行驱动用于驱动第一主皮带组的第一主皮带转动,所述第一从皮带组的第一从皮带与第一主皮带连接且二者同步转动,所述第一导轨固定设置,所述第一移动座可移动的设于第一导轨上。
[0007]作为上述技术方案的进一步改进,所述第二直移模组包括第二导轨、第二移动座、第二皮带组和第二固定座,所述第二导轨设于第一移动座上,所述第二移动座可移动的设于第二导轨上,所述基片手指与第二移动座连接,所述第二皮带组设于第一移动座上,且第二皮带组的第二皮带与第二移动座连接,所述第二固定座固定设置在第二皮带的一侧并与第二皮带连接。
[0008]作为上述技术方案的进一步改进,所述直线执行驱动和第一主皮带组设于真空腔室底部且位于真空腔室外,所述第一从皮带组、第一导轨、第一移动座、第二导轨、第二移动座、第二皮带组和第二固定座设于真空腔室内。
[0009]作为上述技术方案的进一步改进,所述真空腔室的底壁上穿设有传动中转轴,所述传动中转轴的上端位于真空腔室内,下端位于真空腔室外,所述真空腔室的底壁内设有
第二安装块,所述第一从皮带组的两个第一从带轮分别设于第二安装块和传动中转轴的上端,所述真空腔室的底壁外设有第一安装块,所述第一主皮带组的两个第一主带轮分别设于第一安装块和传动中转轴的下端。
[0010]作为上述技术方案的进一步改进,所述直线执行驱动包括执行驱座和沿执行驱座移动的执行驱动块,所述执行驱座固定在真空腔室的底壁外,所述第一导轨设于执行驱座上,所述执行驱动块与第一主皮带连接并带动第一主皮带转动,所述第一主皮带设于第一从皮带下方,且二者平行,所述第一主皮带与执行驱动块的移动方向平行。
[0011]作为上述技术方案的进一步改进,所述第二皮带组的两个第二带轮安装在第一移动座上,第二皮带与第一从皮带平行。
[0012]作为上述技术方案的进一步改进,所述传动中转轴为真空磁流体转轴。
[0013]作为上述技术方案的进一步改进,所述执行驱动块通过夹持块与第一主皮带连接;所述第一移动座通过夹持块与第一从皮带连接。
[0014]作为上述技术方案的进一步改进,所述第二固定座通过夹持块与第二皮带连接。
[0015]与现有技术相比,本技术的优点在于:
[0016](1)本技术的基片传输系统,工艺腔室通过阀门与真空腔室连接,取放片过程无需将工艺腔室暴露大气,可在不开腔的情况下,实现对工艺腔室内基片的取放,有效提高工艺时间在设备运行时间中的占比,提高产能;并保持工艺腔室真空状态,改善工艺质量;基片传送机构结构设计简单,维护方便,成本低,且第一直移模组和第二直移模组的运动行程可在基片手指这端得到约倍运动行程,可有效提高基片传送效率,提高设备产能。
[0017](2)本技术的基片传输系统,将第一直移模组设置在下方,第二直移模组设置在上方,实现执行驱动和第一主皮带组设于真空腔室底部且位于真空腔室外,第一从皮带组、第一导轨、第一移动座、第二导轨、第二移动座、第二皮带组和第二固定座设于真空腔室内,真空腔室底壁只需要与传动中转轴保持密封即可。第二直移模组通过第二皮带的驱动,不需要单独的电动驱动,因此不需要设置电线等,可避免在真空腔室上开其他穿线孔。而且将第一直移模组设置在真空腔室外,可以节省真空腔室的空间,无需将真空腔室做大。
附图说明
[0018]图1是本技术的基片传输系统的结构示意图。
[0019]图2是本技术中基片传输机构一种视角的结构示意图。
[0020]图3是本技术中基片传输机构另一种视角的结构示意图。
[0021]图中各标号表示:
[0022]1、真空腔室;2、工艺腔室;3、阀门;4、基片手指;5、第一直移模组;51、直线执行驱动;511、执行驱座;512、执行驱动块;52、第一主皮带组;521、第一主皮带;522、第一主带轮;53、第一从皮带组;531、第一从皮带;532、第一从带轮;54、第一导轨;55、第一移动座;56、传动中转轴;6、第二直移模组;61、第二导轨;62、第二移动座;63、第二皮带组;631、第二皮带;632、第二带轮;64、第二固定座;71、第二安装块;72、第一安装块;8、夹持块。
具体实施方式
[0023]以下结合说明书附图和具体实施例对本技术作进一步详细说明。
[0024]如图1至图3所示,本实施例的基片传输系统,包括真空腔室1、工艺腔室2和基片传输机构,真空腔室1与工艺腔室2对接,且二者之间设有控制真空腔室1与工艺腔室2通断的阀门3。基片传输机构包括基片手指4、第一直移模组5和第二直移模组6,第一直移模组5设于真空腔室1的底部,第二直移模组6设于第一直移模组5上,第二直移模组6位于真空腔室1内,基片手指4设于第二直移模组6上,第一直移模组5用于驱动第二直移模组6朝向阀门3移动,第二直移模组6用于驱动基片手指4朝向工艺腔室2移动。
[0025]工作时,阀门3关闭,工艺腔室2内保持真空进行工艺,工艺后取片时,保持真空腔室1封闭,打开阀门3,第一直移模组5驱动第二直移模组6朝向阀门3移动,第二直移模组6用于驱动基片手指4朝向工艺腔室2移动,基片手指4从阀门3处伸入工艺腔室2内,工艺腔室2的顶片机构(图中未示出)顶起基片(图中未示出),基片手指4承接顶片机构上的基片,然后第二直移模组6退后,第一直移模组5带着第二直移模组本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基片传输系统,其特征在于:包括真空腔室(1)、工艺腔室(2)和基片传输机构,所述真空腔室(1)与工艺腔室(2)对接,且二者之间设有控制真空腔室(1)与工艺腔室(2)通断的阀门(3),所述基片传输机构包括基片手指(4)、第一直移模组(5)和第二直移模组(6),所述第一直移模组(5)设于真空腔室(1)的底部,所述第二直移模组(6)设于第一直移模组(5)上,所述第二直移模组(6)位于真空腔室(1)内,所述基片手指(4)设于第二直移模组(6)上,所述第一直移模组(5)用于驱动第二直移模组(6)朝向阀门(3)移动,所述第二直移模组(6)用于驱动基片手指(4)朝向工艺腔室(2)移动。2.根据权利要求1所述的基片传输系统,其特征在于:所述第一直移模组(5)包括直线执行驱动(51)、第一主皮带组(52)、第一从皮带组(53)、第一导轨(54)和第一移动座(55),所述直线执行驱动(51)用于驱动第一主皮带组(52)的第一主皮带(521)转动,所述第一从皮带组(53)的第一从皮带(531)与第一主皮带(521)连接且二者同步转动,所述第一导轨(54)固定设置,所述第一移动座(55)可移动的设于第一导轨(54)上。3.根据权利要求2所述的基片传输系统,其特征在于:所述第二直移模组(6)包括第二导轨(61)、第二移动座(62)、第二皮带组(63)和第二固定座(64),所述第二导轨(61)设于第一移动座(55)上,所述第二移动座(62)可移动的设于第二导轨(61)上,所述基片手指(4)与第二移动座(62)连接,所述第二皮带组(63)设于第一移动座(55)上,且第二皮带组(63)的第二皮带(631)与第二移动座(62)连接,所述第二固定座(64)固定设置在第二皮带(631)的一侧并与第二皮带(631)连接。4.根据权利要求3所述的基片传输系统,其特征在于:所述直线执行驱动(51)和第一主皮带组(52)设于真空腔室(1)底部且位于真空腔室(1)外,所述第一从皮带组(5...

【专利技术属性】
技术研发人员:龚俊佘鹏程何秋福刘杰
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十八研究所
类型:新型
国别省市:

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