【技术实现步骤摘要】
基板处理用通电装置
[0001]本专利技术涉及基板处理用通电装置,更详细地,涉及可通过阻断在基板的处理过程中产生的静电来防止基板不良的基板处理用通电装置。
技术介绍
[0002]通常,在半导体装置或液晶显示装置等的制造工序中所使用的基板处理装置设置有枚叶式的处理单元,所述处理单元包括:旋转夹钳,几乎水平支承基板来使其旋转;以及喷嘴,用于向由旋转夹钳进行支承的基板供给处理液。
[0003]而且,用于对基板进行擦洗清洗的处理单元设置有用于对由旋转夹钳进行支承的基板进行擦洗清洗的刷子。
[0004]但是,以往存在如下的问题,即,如果在基板处理过程中在基板产生静电,则引起基板不良。因此,有必要对其进行改善。
[0005]本专利技术的
技术介绍
公开在韩国公开专利公报第2015
‑
0015346号(2015.02.10.公开,专利技术的名称:基板处理装置)。
技术实现思路
[0006]要解决的技术问题
[0007]本专利技术用于解决如上所述的问题,本专利技术的目的在于,提供 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理用通电装置,其特征在于,包括:腔室部,进行接地;转轴部,安装于所述腔室部,并且与所述腔室部通电;操作台部,安装于所述转轴部并旋转,并且与所述转轴部通电;固定部,沿着所述操作台部的圆周方向安装有多个,并且与基板通电;以及驱动部,用于使所述固定部旋转,所述驱动部与所述固定部通电,并且与所述操作台部通电。2.根据权利要求1所述的基板处理用通电装置,其特征在于,所述腔室部包括:腔室壳体部,进行接地;以及腔室基座部,安装于所述腔室壳体部,并且与所述转轴部结合。3.根据权利要求1所述的基板处理用通电装置,其特征在于,所述操作台部包括:中心操作台部,与所述转轴部结合;下部操作台部,与所述中心操作台部结合;上部操作台部,与所述下部操作台部结合以覆盖所述下部操作台部的上部;以及支承操作台部,沿着所述上部操作台部的圆周方向配置有多个,供所述基板放置。4.根据权利要求1所述的基板处理用通电装置,其特征在于,所述固定部包括:固定旋转部,以能够旋转的方式安装于所述操作台部,通过所述驱动部的直线移动进行旋转;以及固定夹钳部,在所述固定旋转部的上侧突出,随着所述固定旋转部的旋转与所述基板的边缘紧贴或分离。5.根据权利要求1所述的基板处理用通电装置,其特征在于,所述驱动部包括:驱动调节部,配置于所述转轴部,能够调节所述驱动调节部的上下长度;驱动升降部,安装于所述操作台部,并且能够通过所述驱动调节部进行上下移动;驱动旋转部,以能够旋转的方式安装于所述操作台部,...
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