一种无光干粒釉料、数码陶瓷墨水及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种无光干粒釉料、数码陶瓷墨水及其制备方法，所述无光干粒釉料，按重量份计，包括：SiO

【技术实现步骤摘要】
一种无光干粒釉料、数码陶瓷墨水及其制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷领域，尤其涉及一种无光干粒釉料、数码陶瓷墨水及其制备方法。

技术介绍

[0002]干粒釉面砖属于陶瓷砖的一种升级产品，它不仅继承了仿古砖本身独特的文化元素和抛光砖的超强硬度，而且赋予了其更逼真石材的质感，同时触感温润如玉，没有石材的冰冷感觉。干粒釉面砖是一种表面凹凸质感强、触感柔润、硬度更强以及防滑效果好的地砖。此种地砖不同于其它地砖踩上去给人冰冷、生硬、黏脚的感觉，哑光柔润干粒釉面砖会让人的脚感非常舒适，踩上去有踏实、温暖、放松的感觉，很适合崇尚回归自然的人群。
[0003]传统的干粒产品采用干粒釉料的粒径一般为45
‑
150微米，使用时将干粒釉料和悬浮剂按一定比例混合后，用喷釉柜均匀的喷或淋在产品表面上，经过高温烧成，干粒颗粒局部与产品表面反应固定在其上，部分凸出在表面以产生凹凸质感。当干粒烧成温度低时，容易导致产品釉面磨砂质感不强，釉面效果不达标，当干粒烧成温度高时，虽然产品釉面磨砂质感效果较强，但由于产品表面凹凸不平，干粒之间的间隙或大或小，在产品铺贴使用时，表面容易藏污和吸污，存在难以清洁的问题。
[0004]因此，现有技术还有待于改进和发展。

技术实现思路

[0005]鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种无光干粒釉料、数码陶瓷墨水及其制备方法，旨在解决现有干粒釉料耐污性能差的问题。
[0006]本专利技术的技术方案如下：
[0007]本专利技术的第一方面，提供一种无光干粒釉料，其中，按重量份计，包括：
[0008][0009]所述无光干粒釉料的粒径为200
‑
500nm。
[0010]本专利技术的第二方面提供一种数码陶瓷墨水，其中，包括：
[0011]本专利技术所述的无光干粒釉料、有机溶剂和分散剂。
[0012]可选地，所述无光干粒釉料、有机溶剂和分散剂的质量比为(30
‑
50)：(50
‑
60)：(2
‑
8)。
[0013]可选地，所述有机溶剂选自醚类溶剂、酯类溶剂中的一种或两种。
[0014]可选地，所述醚类溶剂选自三丙二醇单丁醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二
醇丁醚中的一种或多种。
[0015]可选地，所述酯类溶剂选自乙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯，月桂酸异丙酯，硬脂酸异辛酯中的一种或多种。
[0016]可选地，所述分散剂选自聚氨酯型分散剂、聚脂肪酸酰氨型分散剂中的一种或两种。
[0017]本专利技术的第三方面，提供一种数码陶瓷墨水的制备方法，其中，包括步骤：
[0018]按SiO
2 30
‑
60份、Al2O
3 30
‑
60份、(K2O+Na2O)1
‑
3份、ZnO 1
‑
10份、SrO 1
‑
10份的重量份将所述SiO2、Al2O3、(K2O+Na2O)、ZnO、SrO进行混合煅烧，得到混合粉末；
[0019]将所述混合粉末进行研磨，并将研磨后的混合粉末分散在含有分散剂的有机溶剂中，得到混合液；
[0020]将所述混合液进行研磨，使得所述混合液中混合粉末的粒径为200
‑
500nm，得到所述数码陶瓷墨水。
[0021]可选地，所述煅烧的温度为1100
‑
1300℃。
[0022]可选地，所述将所述混合粉末进行研磨，并将研磨后的混合粉末分散在含有分散剂的有机溶剂中，得到混合液的步骤中，所述研磨后的混合粉末的粒径为5
‑
10μm。
[0023]有益效果：本专利技术提供了一种无光干粒釉料、数码陶瓷墨水及其制备方法，所述无光干粒釉料的硅铝含量高，其修饰在产品表面进行高温烧结时不熔融，能够保持产品表面的轻微凹凸质感且触感柔润，同时微观尺度的凹凸不平提高了产品表面的防滑能力，防滑级别可达德标R10
‑
R11；由于硅铝含量高，烧结后其物相主要以晶相为主，有较少的玻璃相，其中玻璃相和表面的光洁度是产生表面光泽的主要原因，因此，所述无光干粒釉料修饰在产品表面高温烧结后，因其只含有较少的玻璃相，再加之在产品表面形成的凹凸不平的表面，以致其烧成后产品表面光泽度最低可达1度，具有优异的无光效果。此外所述无光干粒釉料的颗粒为200nm
‑
500nm，与传统干粒釉料颗粒45
‑
150微米的颗粒大小相差近百倍，由于其颗粒粒径是纳米级的，所以高温烧成后烧结程度非常高，结构致密，不产生吸污、藏污的问题。
附图说明
[0024]图1为现有干粒釉料的表面形貌图。
[0025]图2为本专利技术实施例中无光干粒釉料的表面形貌图。
具体实施方式
[0026]本专利技术提供一种无光干粒釉料、数码陶瓷墨水及其制备方法，为使本专利技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0027]本专利技术实施例提供一种无光干粒釉料，其中，按重量份计，包括：
[0028][0029]所述无光干粒釉料的粒径为200
‑
500nm。
[0030]本实施例中，所述无光干粒釉料的硅铝含量高，其修饰在产品表面进行高温烧结时不熔融，能够保持产品表面的轻微凹凸质感且触感柔润，同时微观尺度的凹凸不平提高了产品表面的防滑能力，防滑级别可达德标R10
‑
R11；由于硅铝含量高，烧结后其物相主要以晶相为主，有较少的玻璃相，其中玻璃相和表面的光洁度是产生表面光泽的主要原因，因此，所述无光干粒釉料修饰在产品表面高温烧结后，因其只含有较少的玻璃相，再加之在产品表面形成的凹凸不平的表面，以致其烧成后产品表面光泽度最低可达1度，具有优异的无光效果。此外所述无光干粒釉料的颗粒为200nm
‑
500nm(其表面形貌示意图如图2所示，采用接触式轮廓仪Talysurf CLI 1000测试所得)，与传统干粒釉料颗粒45
‑
150微米(其表面形貌示意图如图1所示，采用接触式轮廓仪Talysurf CLI 1000测试所得)的颗粒大小相差近百倍，由于其颗粒粒径是纳米级的，所以高温烧成后烧结程度非常高，结构致密，不产生釉面吸污，藏污等缺陷。
[0031]本实施例中所述无光干粒釉料修饰在产品表面时，能够使得产品表面凹凸质感强、触感柔润、硬度感强以及防滑效果好。在修饰在地砖等产品表面时，哑光柔润干粒釉面会让人的脚感非常舒适，踩上去有踏实、温暖、放松的感觉。
[0032]本实施例中，K2O与Na2O的质量比可以根据实际需要进行调整，具体实施时，K2O与Na2O的质量比可以为(2
‑
9):(1
‑
4),但不限于此。
[0033]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种无光干粒釉料，其特征在于，按重量份计，包括：所述无光干粒釉料的粒径为200
‑
500nm。2.一种数码陶瓷墨水，其特征在于，包括：权利要求1所述的无光干粒釉料、有机溶剂和分散剂。3.根据权利要求2所述的数码陶瓷墨水，其特征在于，所述无光干粒釉料、有机溶剂和分散剂的质量比为(30
‑
50):(50
‑
60):(2
‑
8)。4.根据权利要求2所述的数码陶瓷墨水，其特征在于，所述有机溶剂选自醚类溶剂、酯类溶剂中的一种或两种。5.根据权利要求4所述的数码陶瓷墨水，其特征在于，所述醚类溶剂选自三丙二醇单丁醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇丁醚中的一种或多种。6.根据权利要求4所述的数码陶瓷墨水，其特征在于，所述酯类溶剂选自乙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯，月桂酸异丙酯，硬脂酸异辛酯中的一种或多种。7.根据权利要求2所述的数码陶瓷墨水，其特征在于，所述分散剂选自聚氨酯型分散剂、聚脂肪酸酰氨型分散剂中的一种或两种。8.一种数码陶瓷墨水的制备方法，其特征在于，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：欧志勇，盛正强，曹端旭，黄道聪，
申请(专利权)人：东莞市唯美陶瓷工业园有限公司，
类型：发明
国别省市：