一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用制造技术

本发明专利技术公开一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用。所述半亮光细腻质感干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：40

【技术实现步骤摘要】
一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用


[0001]本专利技术属于陶瓷建材领域，具体涉及一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用。

技术介绍

[0002]当前建筑陶瓷的应用市场越来越广阔，同时对陶瓷装饰技术有着愈加苛刻的要求。借助其他材料的交叉融合丰富陶瓷装饰，使陶瓷装饰效果更加丰富多样，是现代陶瓷釉面装饰的重要风向标之一。

技术实现思路

[0003]对此本专利技术提出一种半亮光细腻质感干粒釉及其在陶瓷板中的应用。所述半亮光细腻质感干粒釉利用玻璃粉和始融温度比较低的抛釉对(哑光细腻质感)干粒进行局部填充及包裹，并和干粒部分反应融合形成质感细腻釉面。该局部还可以使玻璃粉的玻璃相更好地和金属电光水反应形成幻彩。
[0004]第一方面，本专利技术提供一种半亮光细腻质感干粒釉。所述半亮光细腻质感干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：40
‑
60％；Al2O3：15
‑
25％；碱土金属氧化物：9
‑
20％；碱金属氧化物：2
‑
5％；ZnO：3
‑
5％。
[0005]较佳地，所述半亮光细腻质感干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.5
‑
1.5％；SiO2：40
‑
60％；Al2O3：15
‑
25％；CaO：4
‑
6％；MgO：1
‑
3％；K2O：1
‑
3％；Na2O：1r/>‑
2％；ZnO：3
‑
5％；BaO：3
‑
8％；SrO：1
‑
3％。
[0006]较佳地，所述半亮光细腻质感干粒釉的硅铝摩尔比保持在2.5
‑
4.0之间，优选为3.0
‑
4.0。
[0007]较佳地，所述半亮光细腻质感干粒釉的原料组成包括：以质量份计，干粒90
‑
100质量份，亮光抛釉1
‑
5质量份和玻璃粉3
‑
5质量份。
[0008]较佳地，所述干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.3
‑
0.5％；SiO2：54
‑
58％；Al2O3：16
‑
20％；CaO：15
‑
18％；MgO：0.3
‑
0.5％；K2O：2.0
‑
3.0％；Na2O：3.0
‑
4.0％；ZnO 4
‑
5％；BaO：0.2
‑
0.3％；SrO：0
.5‑
0.8％。
[0009]较佳地，所述亮光抛釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：1.0
‑
1.5％；SiO2：55
‑
65％；Al2O3：15
‑
18％；CaO：10
‑
15％；MgO：3.0
‑
4.5％；K2O：2.0
‑
3.0％；Na2O：2.0
‑
3.0％；ZnO：3
‑
4％；BaO：5.0
‑
7.0％；TiO2：0.2
‑
0.5％；Fe2O3：0.1
‑
0.2％；P2O5：0.2
‑
0.4％。
[0010]较佳地，所述干粒的始融温度在1115
‑
1135℃之间；所述亮光抛釉的始融温度低于干粒，优选为低于干粒10
‑
20℃。
[0011]较佳地，所述玻璃粉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：5.0
‑
7.0％；SiO2：50
‑
55％；Al2O3：12
‑
15％；CaO：10
‑
12％；MgO：6.0
‑
8.0％；K2O：1.0
‑
1.5％；Na2O：4.0
‑
5.0％；ZnO：1
‑
2％；TiO2：0.1
‑
0.2％；Fe2O3：0.2
‑
0.3％；P2O5：0.05
‑
0.1％。
[0012]较佳地，所述半亮光细腻质感干粒釉的光泽度在15
‑
25度之间。
[0013]第二方面，本专利技术提供上述任一项所述的半亮光细腻质感干粒釉在陶瓷板中的应用。所述应用包括：在坯体表面施底釉；在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的坯体表面丝网印刷半亮光细腻质感干粒釉；以及烧成。
[0014]较佳地，所述半亮光细腻质感干粒釉的比重为1.37
‑
1.40g/cm3，施釉量为80
‑
100g/m2。
[0015]较佳地，所述应用还包括：在窑炉烧结冷却到750
‑
800℃的窑炉顶部施金属电光水；金属电光水的施加量为50
‑
60g/m2。
具体实施方式
[0016]通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。
[0017]本公开提供一种半亮光细腻质感干粒釉。该半亮光的光泽度介于15
‑
25度之间。
[0018]所述半亮光细腻质感干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：40
‑
60％；Al2O3：15
‑
25％；碱土金属氧化物：9
‑
20％；碱金属氧化物：2
‑
5％；ZnO：3
‑
5％。通过(钙镁钡复合熔剂)的碱土金属氧化物辅助合适的(钾钠)碱金属氧化物来提高半亮光细腻度。
[0019]一些实施方式中，所述半亮光细腻质感干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.5
‑
1.5％；SiO2：40
‑
60％；Al2O3：15
‑
25％；CaO：4
‑
6％；MgO：1
‑
3％；K2O：1
‑
3％；Na2O：1
‑
2％；ZnO：3
‑
5％；BaO：3
‑
8％；SrO：1
‑
3％。氧化锶的引入一方面有利于气体在釉料烧成过程中排出，另一方面氧化锶可以适当降低釉的熔融温度，提高釉的光泽，扩大烧成范围，促进其和蜡质细腻质感抛釉等的化学反应，提高坯釉适应性。
[0020]所述半亮光细腻质感干粒釉的硅铝摩尔比保持在2.5
‑
4.0之间为宜(优选为3.0
‑
4.0)。过低的硅铝摩尔比不利于形成半亮光效果。控制蜡质细腻质感抛釉和半亮光细腻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半亮光细腻质感干粒釉，其特征在于，所述半亮光细腻质感干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：40
‑
60%；Al2O3：15
‑
25%；碱土金属氧化物：9
‑
20%；碱金属氧化物：2
‑
5%；ZnO：3
‑
5%。2.根据权利要求1所述的半亮光细腻质感干粒釉，其特征在于，所述半亮光细腻质感干粒釉的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.5
‑
1.5%；SiO2：40
‑
60%；Al2O3：15
‑
25%；CaO：4
‑
6%；MgO：1
‑
3%；K2O：1
‑
3%；Na2O：1
‑
2%；ZnO：3
‑
5%；BaO：3
‑
8%；SrO：1
‑
3%。3.根据权利要求1或2所述的半亮光细腻质感干粒釉，其特征在于，所述半亮光细腻质感干粒釉的硅铝摩尔比保持在2.5
‑
4.0之间，优选为3.0
‑
4.0。4.根据权利要求1至3中任一项所述的半亮光细腻质感干粒釉，其特征在于，所述半亮光细腻质感干粒釉的原料组成包括：以质量份计，干粒90
‑
100质量份，亮光抛釉1
‑
5质量份和玻璃粉3
‑
5质量份。5.根据权利要求4所述的半亮光细腻质感干粒釉，其特征在于，所述干粒的化学组成包括：以质量百分比计，IL：0.3
‑
0.5%；SiO2：54
‑
58%；Al2O3：16
‑
20%；CaO：15
‑
18%；MgO：0.3
‑
0.5%；K2O：2.0
‑
3.0%；Na2O：3.0
‑
4.0%；ZnO 4
‑
5%；BaO：0.2
‑
0.3%；SrO：0
.5‑
0.8%。6.根据权利要求4或5所述的半亮光细腻质感干粒釉，其特征在于，所述亮光抛釉的化学组成...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘利敏，庞伟科，黄玲艳，王贤超，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：