一种扰动力生成装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种扰动力生成装置及方法。其中，扰动力生成装置包括：流体源；至少一个扰动力调节单元，任一扰动力调节单元的入口与流体源的出口连通，任一扰动力调节单元包括：扰动力波动值生成支路，扰动力波动值生成支路的入口与扰动力调节单元的入口连通，扰动力波动值生成支路的出口与扰动力调节单元的出口连通；扰动力波动值生成支路包括：高频开关阀和第一流量调节模块，高频开关阀与第一流量调节模块串联连通。本发明专利技术实施例的技术方案中的扰动力生成装置可生成频率和波动范围可调的扰动力。可调的扰动力。可调的扰动力。

【技术实现步骤摘要】
一种扰动力生成装置及方法


[0001]本专利技术涉及测试
，尤其涉及一种扰动力生成装置及方法。

技术介绍

[0002]随着集成电路产品技术要求的提升，光刻技术也不断地提高分辨率以制作更加微细的器件尺寸，目前较为常用的就是浸没式光刻技术。
[0003]所谓的浸没式光刻技术是指在曝光镜头与硅片之间充满水或更高折射的浸没液体以取代传统干式光刻技术中对应的空气。由于水的折射率比空气大，所以浸没式光刻技术就是利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。
[0004]浸没式光刻系统包括物镜、浸没头(Immersion Hood)、工件台，硅片放置在工件台上且位于物镜的下方，浸没头设置在物镜附近，物镜、浸没头和硅片之间形成一空间，水或其它浸没液体填充所述空间。
[0005]浸没式光刻系统在工作时，容易受到外界振动的干扰，导致光刻精度下降，故需要预先对浸没式光刻系统的抗扰性能进行测试。

技术实现思路

[0006]本专利技术实施例提供一种扰动力生成装置及方法，可以模拟浸没头或工件台受到的扰动力，为测试浸没头或工件台的抗扰性能提供条件。
[0007]第一方面，本专利技术实施例提供了一种扰动力生成装置，包括：
[0008]流体源；
[0009]至少一个扰动力调节单元，任一扰动力调节单元的入口与流体源的出口连通，任一扰动力调节单元包括：扰动力波动值生成支路，扰动力波动值生成支路的入口与扰动力调节单元的入口连通，扰动力波动值生成支路的出口与扰动力调节单元的出口连通；
[0010]扰动力波动值生成支路包括：高频开关阀和第一流量调节模块，高频开关阀与第一流量调节模块串联连通。
[0011]进一步地，第一流量调节模块包括：单向节流阀或电控两通调节阀。
[0012]进一步地，扰动力波动值生成支路还包括第一开关阀和第一流量检测模块，第一开关阀、高频开关阀、第一流量调节模块和第一流量检测模块串联连通。
[0013]进一步地，第一开关阀包括隔膜阀，扰动力生成装置还包括与隔膜阀对应设置的第一调压阀和电磁阀，流体源经第一调压阀、电磁阀与隔膜阀的控制腔连通。
[0014]进一步地，任一扰动力调节单元还包括：扰动力均值生成支路，扰动力均值生成支路的入口与扰动力调节单元的入口连通，扰动力均值生成支路的出口与扰动力波动值生成支路的出口汇合连通至扰动力调节单元的出口；
[0015]扰动力均值生成支路包括第二流量调节模块。
[0016]进一步地，第二流量调节模块包括：单向节流阀，或者，第二流量调节模块包括：串
联连通的质量流量控制器和单向阀。
[0017]进一步地，扰动力均值生成支路还包括第二开关阀和第二流量检测模块，第二开关阀、第二流量调节模块和第二流量检测模块串联连通。
[0018]进一步地，扰动力生成装置还包括流体源处理单元，流体源处理单元的入口与流体源的出口连通，流体源处理单元的出口与至少一个扰动力调节单元的入口连通，流体源处理单元包括：串联连通的第三开关阀、第二调压阀、压力检测模块和流体过滤器。
[0019]进一步地，扰动力调节单元的数量为至少两个，流体源包括气源。
[0020]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种基于本专利技术任意实施例提供的扰动力生成装置的扰动力生成方法，包括：
[0021]控制高频开关阀开启；
[0022]调节第一流量调节模块的流量为第一流量值；
[0023]控制高频开关阀的开关频率为第一频率。
[0024]进一步地，当任一扰动力调节单元还包括：扰动力均值生成支路时，
[0025]在调节第一流量调节模块的流量为第一流量值之前，还包括：
[0026]调节第二流量调节模块的流量为第二流量值。
[0027]进一步地，在控制高频开关阀的开关频率为第一预设频率之后，还包括：
[0028]增大第一流量调节模块和第二流量调节模块的流量调节精度；
[0029]调节第一流量调节模块的流量和第二流量调节模块的流量，直至扰动力生成装置产生的扰动力达到所需的扰动力。
[0030]本专利技术实施例的技术方案中的扰动力生成装置，包括：流体源；至少一个扰动力调节单元，任一扰动力调节单元的入口与流体源的出口连通，任一扰动力调节单元包括：扰动力波动值生成支路，扰动力波动值生成支路的入口与扰动力调节单元的入口连通，扰动力波动值生成支路的出口与扰动力调节单元的出口连通；扰动力波动值生成支路包括：高频开关阀和第一流量调节模块，高频开关阀与第一流量调节模块串联连通，通过调节高频开关阀的开关频率和第一流量调节模块的流量大小，使得扰动力波动值生成支路的波动流量可调，进而实现扰动力生成装置生成频率和波动范围可调的扰动力，可作为模拟浸没头或工件台受到的扰动力，方便在集成调试阶段，可用于浸没头垂向伺服控制调试和工件台运动控制调试。
附图说明
[0031]图1为本专利技术实施例提供的一种扰动力生成装置的结构示意图；
[0032]图2为本专利技术实施例提供的又一种扰动力生成装置的结构示意图；
[0033]图3为本专利技术实施例提供的又一种扰动力生成装置的结构示意图；
[0034]图4为本专利技术实施例提供的又一种扰动力生成装置的结构示意图；
[0035]图5为本专利技术实施例提供的又一种扰动力生成装置的结构示意图；
[0036]图6为本专利技术实施例提供的一种扰动力生成方法的流程图；
[0037]图7为本专利技术实施例提供的又一种扰动力生成方法的流程图；
[0038]图8为本专利技术实施例提供的又一种扰动力生成方法的流程图。
具体实施方式
[0039]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0040]本专利技术实施例提供一种扰动力生成装置。图1为本专利技术实施例提供的一种扰动力生成装置的结构示意图。该扰动力生成装置可以产生频率大小和波动范围可调的冲击力，例如可模拟浸没头或工件台受到的扰动力，在集成调试阶段，可用于浸没头垂向伺服控制调试和工件台运动控制调试。该扰动力生成装置可采用本专利技术任意实施例提供的扰动力生成方法生成所需的扰动力。该扰动力生成装置可为非接触式扰动力生成装置。该扰动力生成装置10包括：流体源100和至少一个扰动力调节单元200。
[0041]其中，至少一个扰动力调节单元200，任一扰动力调节单元200的入口201与流体源100的出口101连通，任一扰动力调节单元200包括：扰动力波动值生成支路210，扰动力波动值生成支路210的入口与扰动力调节单元200的入口201连通，扰动力波动值生成支路210的出口与扰动力调节单元200的出口202连通；扰动力波动值生成支路210包括：高频开关阀211和第一流量调节模块212，高频开关阀211本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种扰动力生成装置，其特征在于，包括：流体源；至少一个扰动力调节单元，任一所述扰动力调节单元的入口与所述流体源的出口连通，任一所述扰动力调节单元包括：扰动力波动值生成支路，所述扰动力波动值生成支路的入口与所述扰动力调节单元的入口连通，所述扰动力波动值生成支路的出口与所述扰动力调节单元的出口连通；所述扰动力波动值生成支路包括：高频开关阀和第一流量调节模块，所述高频开关阀与所述第一流量调节模块串联连通。2.根据权利要求1所述的扰动力生成装置，其特征在于，所述第一流量调节模块包括：单向节流阀或电控两通调节阀。3.根据权利要求1所述的扰动力生成装置，其特征在于，所述扰动力波动值生成支路还包括第一开关阀和第一流量检测模块，所述第一开关阀、所述高频开关阀、所述第一流量调节模块和所述第一流量检测模块串联连通。4.根据权利要求3所述的扰动力生成装置，其特征在于，所述第一开关阀包括隔膜阀，所述扰动力生成装置还包括与所述隔膜阀对应设置的第一调压阀和电磁阀，所述流体源经所述第一调压阀、所述电磁阀与所述隔膜阀的控制腔连通。5.根据权利要求1所述的扰动力生成装置，其特征在于，任一所述扰动力调节单元还包括：扰动力均值生成支路，所述扰动力均值生成支路的入口与所述扰动力调节单元的入口连通，所述扰动力均值生成支路的出口与所述扰动力波动值生成支路的出口汇合连通至所述扰动力调节单元的出口；所述扰动力均值生成支路包括第二流量调节模块。6.根据权利要求5所述的扰动力生成装置，其特征在于，所述第二流量调节模块包括：单向节流阀，或者，所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：游继光，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：