绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置及绝缘膜制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置以及绝缘膜制造方法，上述绝缘膜形成用树脂组合物包含(A)粘合剂树脂、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)光吸收剂以及(E)溶剂，上述(B)光聚合性化合物包含芴系化合物，上述(D)光吸收剂包含唑系化合物，从而能够提高耐热性、耐化学试剂性以及透过性，能够防止下部金属的腐蚀，能够提高微细图案和孔特性。提高微细图案和孔特性。

【技术实现步骤摘要】
绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置及绝缘膜制造方法


[0001]本专利技术涉及绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置以及绝缘膜制造方法。

技术介绍

[0002]感光性树脂对于滤色器、液晶显示材料、有机发光元件等显示器而言是必要的材料，根据滤色器中所使用的红色像素(R)、绿色像素(G)、蓝色像素(B)、黑矩阵(BM)、柱状间隔物(CS)等使用目的，可以存在诸多种类的感光性树脂组合物。
[0003]此外，感光性树脂组合物也可以作为用于形成以保护近年来开发的诸多半导体元件或显示器中所包含的多个配线和电路且使其绝缘为目的的绝缘膜的感光性树脂组合物来使用，特别是，对于最近的显示装置而言，由于在图案的尺寸随着分辨率增加而变小的同时提高可靠性的要求增加，且因外部氧和水分渗透而对显示器用装置的保护也增加，因而积极使用这样的感光性树脂组合物。
[0004]作为可以在这样的绝缘膜中使用的物质，可以使用聚乙烯、聚氯乙烯、天然橡胶、聚酯、环氧树脂、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、聚氨酯之类的合成树脂等多种多样的物质。
[0005]另一方面，随着感光性树脂组合物在诸多方面的用处增加，近年来，不仅是配线的电绝缘的目的，还以显示器等装置内部平坦化为目的或者以对电流的流向也产生影响的方式进行设计。
[0006]具体而言，要求开发耐化学试剂性优异、且能够调节绝缘膜的线宽和孔大小的感光性树脂组合物，尤其要求与绝缘膜接触的部分的金属腐蚀改善效果。
[0007]特别是，为了实现用于设备驱动的通电而在绝缘膜的下部配置铜等金属膜的情况下，由于有机膜的特性，会因水分渗透而诱发铜的腐蚀。为此，要求能够防止或改善与绝缘膜相邻而配置的铜等金属膜的腐蚀的特性。
[0008]注册专利第10
‑
0732641号也公开了一种树脂组合物，其通过组合氰基丙烯酸酯紫外线吸收剂和苯并三唑紫外线吸收剂而与树脂组合物混合，从而表现出优异的耐光性，而且即使长时间使用也不发生黄变。但是，在耐化学试剂性、调节所形成的涂膜或图案的线宽和孔的大小方面、与相邻的膜的防腐蚀效果方面存在局限。为此，近年来，对于显示装置而言，由于图案的小型化和显示器的薄型化，具有更加多样的用处的树脂组合物的必要性凸显出来。
[0009]现有技术文献
[0010]专利文献
[0011]韩国注册专利第10
‑
0732641号

技术实现思路

[0012]所要解决的课题
[0013]本专利技术的目的在于，提供图案特性、孔(Hole)特性以及斜面(Taper)特性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
[0014]此外，本专利技术的目的在于，提供耐化学试剂性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
[0015]此外，本专利技术的目的在于，提供对于下部金属等的防蚀性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
[0016]此外，本专利技术的目的在于，提供低温下的工序性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
[0017]此外，本专利技术的目的在于，提供利用上述绝缘膜形成用树脂组合物制造的绝缘膜以及包含其的图像显示装置。
[0018]此外，本专利技术的目的在于，提供使用上述绝缘膜形成用树脂组合物的绝缘膜的制造方法。
[0019]解决课题的方法
[0020]本专利技术涉及一种绝缘膜形成用树脂组合物，其包含(A)粘合剂树脂、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)光吸收剂以及(E)溶剂，上述(B)光聚合性化合物包含芴(Fluorene)系化合物，上述(D)光吸收剂包含唑(Azole)系化合物。
[0021]本专利技术的第一观点中，上述(A)粘合剂树脂可以包含四氢吡喃(Tetrahydropyran；THP)系环。
[0022]本专利技术的第二观点中，上述四氢吡喃(THP)系环可以通过包含聚合时能够形成四氢吡喃(THP)系环的非环状化合物和环状化合物中的至少一种以上聚合而成。
[0023]本专利技术的第三观点中，上述非环状化合物可以包含以下化学式1所表示的化合物。
[0024][化学式1][0025][0026](上述化学式1中，R1、R2各自独立地为包含或不包含杂原子的碳原子数1～20的脂肪族烃基或碳原子数6～18的芳香族烃基。)
[0027]本专利技术的第四观点中，上述环状化合物可以包含选自由四氢吡喃
‑2‑
基(甲基)丙烯酸酯、(四氢吡喃
‑2‑
基)甲基(甲基)丙烯酸酯、2,6
‑
二甲基
‑8‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑1‑
辛烯
‑3‑
酮、1
‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑3‑
丁烯
‑2‑
酮、4
‑
(1,4
‑
二氧杂
‑5‑
氧代
‑6‑
庚烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮以及4
‑
(1,5
‑
二氧杂
‑6‑
氧代
‑7‑
辛烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮组成的组中的一种以上。
[0028]本专利技术的第五观点中，上述(A)粘合剂树脂可以包含环氧系粘合剂树脂。
[0029]本专利技术的第六观点中，上述环氧系粘合剂树脂可以包含以下化学式2所表示的化合物。
[0030][化学式2][0031][0032](上述化学式2中，R3和R4各自独立地为氢或CH3，
[0033]a和b各自独立地为3～20的整数。)
[0034]本专利技术的第七观点中，上述芴系化合物可以包含以下化学式3所表示的化合物。
[0035][化学式3][0036][0037](上述化学式3中，X1和X2各自独立地表示羟基、
‑
(O
‑
A
‑
O)
p
H基(A表示碳原子数2～3的亚烷基，p表示1～10的整数。)，R5～R8各自独立地表示可被取代的碳原子数1～20的烃基、可被取代的碳原子数1～20的烷氧基或卤素原子，m1和m2各自独立地为0～3的整数，n1～n4各自独立地为0～4的整数。其中，m1+n1和m2+n2各自独立地为0～5的整数。)
[0038]本专利技术的第八观点中，相对于绝缘膜形成用树脂组合物中固体成分总重量，上述芴系化合物的含量可以为3～35重量％。
[0039]本专利技术的第九观点中，上述唑系化合物可以包含选自由苯并三唑(Benzotriazole；BTA)和吡唑(Pyrazole)组成的组中的一种以上。
[0040]本专利技术的第十观点中，相对于绝缘膜形成用树脂组合物中固体成分总重量，可以包含(A)粘合剂树脂10～50重量％、(B)光聚合性化合物5～70重量％、(C)光聚合引发剂3～20本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种绝缘膜形成用树脂组合物，其包含(A)粘合剂树脂、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)光吸收剂以及(E)溶剂，所述(B)光聚合性化合物包含芴系化合物，所述(D)光吸收剂包含唑系化合物。2.根据权利要求1所述的绝缘膜形成用树脂组合物，所述(A)粘合剂树脂包含四氢吡喃THP系环。3.根据权利要求2所述的绝缘膜形成用树脂组合物，所述四氢吡喃THP系环是通过包含聚合时形成四氢吡喃THP系环的非环状化合物和环状化合物中的至少一种聚合而成。4.根据权利要求3所述的绝缘膜形成用树脂组合物，所述非环状化合物包含以下化学式1所表示的化合物，化学式1所述化学式1中，R1、R2各自独立地为包含或不包含杂原子的碳原子数1～20的脂肪族烃基或碳原子数6～18的芳香族烃基。5.根据权利要求3所述的绝缘膜形成用树脂组合物，所述环状化合物包含选自由四氢吡喃
‑2‑
基(甲基)丙烯酸酯、(四氢吡喃
‑2‑
基)甲基(甲基)丙烯酸酯、2,6
‑
二甲基
‑8‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑1‑
辛烯
‑3‑
酮、1
‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑3‑
丁烯
‑2‑
酮、4
‑
(1,4
‑
二氧杂
‑5‑
氧代
‑6‑
庚烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮以及4
‑
(1,5
‑
二氧杂
‑6‑
氧代
‑7‑
辛烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮组成的组中的一种以上。6.根据权利要求1所述的绝缘膜形成用树脂组合物，所述(A)粘合剂树脂包含环氧系粘合剂树脂。7.根据权利要求6所述的绝缘膜形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：李贤普，金秀虎，金正植，曺升铉，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：