导电膜制造技术

一种形成一透明导电膜和一相关联的膜的方法。该方法可为一转换方法。提供具有一粘着剂的一基板的一区域，该粘着剂包含悬浮在一光敏聚合材料的多个金属纳米结构。可使用一施体基板。使用光刻法图案化粘着剂。使用一显影液显影被图案化的粘着剂，该显影液：(i)根据粘着剂的一图案移除光敏聚合材料的一部分，且(ii)包含蚀刻该多个金属纳米结构的一纳米结构蚀刻剂。刻剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】导电膜
[0001]相关申请
[0002]本申请案主张标题为“导电膜(ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM)”且在2019年4月3日提出申请的序列号为62/828,734的美国临时申请案的优先权，该美国临时申请案以引用方式并入本文中。


[0003]本专利技术是关于透明导电膜以及将一纳米结构在一基板上图案化的方法。

技术介绍

[0004]透明导体包含光学透明和导电膜，例如通常用于触敏计算机显示器(touch
‑
sensitive computer displays)中的膜。一般而言，导电纳米结构相互交叠以形成具有长程互连性的一渗透网络(percolating network)。渗透网络通过与金属接触物(metal contacts)合作(即，连接)而连接至一计算机、平板计算机、智能电话或具有一触敏显示器的其他计算装置的电子电路。
[0005]转换膜(transfer films)已被作为在各种基板上沉积和图案化银纳米线(silver nanowires)的手段。一般而言，一转换膜具有施加于一施体基板(donor substrate)上的一纳米线层和一可光固化聚合物粘合剂(photocurable polymer adhesive)，该可光固化聚合物粘合剂亦称为一光敏粘着剂(photosensitive binder)。将该转换膜放置在一受体基板(receiver substrate)上，使得该可光固化聚合物粘合剂由该受体基板支撑，并且通过曝光和显影来光图案化该可光固化聚合物粘合剂，以图案化该可光固化聚合物粘合剂。然后用一溶剂或一光致抗蚀剂剥离剂来移除被曝光的该可光固化聚合物粘合剂的未固化的部分。然而，先前由现在移除的该聚合物保护的剩余纳米线可仍结合至该受体基板，进而造成相邻纳米线之间的短路的可能性。

技术实现思路

[0006]根据一态样，本专利技术提供一种形成一透明导电膜的转换方法。提供具有一粘着剂(binder)的一施体基板的一区域，该粘着剂包含悬浮在一光敏聚合材料(photosensitive polymeric material)的多个金属纳米结构。将该施体基板和该粘着剂施加于一受体基板上，以将该粘着剂和纳米线转换至该受体基板上。可在通过一遮罩曝光之前或者在曝光之后，从施加于该受体基板的该粘着剂上移除该施体基板。使用光刻法(photolithography)图案化该粘着剂。在光式曝光(photoexposure)后，使用一显影液(developing fluid)显影该粘着剂/纳米线膜，该显影液：(i)根据该粘着剂的一图案移除该光敏聚合材料的全部或一部分，且(ii)包含提供该多个金属纳米结构的蚀刻的一纳米结构蚀刻剂(nanostructure etchant)。
[0007]根据一态样，本专利技术提供一种形成一透明导电膜的方法。提供具有一粘着剂的一基板的一区域，该粘着剂包含悬浮在一光敏聚合粘着剂材料的多个金属纳米结构。使用光
刻法图案化该粘着剂材料。使用一显影液显影被光图案化的光敏聚合材料，该显影液：(i)根据该粘着剂的一图案移除该光敏聚合材料的一部分，且(ii)包含蚀刻该多个金属纳米结构的一纳米结构蚀刻剂。
[0008]根据一态样，本专利技术提供一种透明导电膜。该膜包含一基板和以一图案呈现在该基板上的一粘着剂。该图案具有多个边缘。该膜包含悬浮在该粘着剂中的金属纳米结构。在多个图案边缘的多个纳米结构被截断。该图案具有透过光刻法创造的多个边缘，其中粘着剂材料和多个纳米结构被一溶液蚀刻，该溶液包含蚀刻该多个纳米结构的金属的一成分。
[0009]以上
技术实现思路
呈现一简化的
技术实现思路
，以提供对本文讨论的系统及/或方法的一些态样的基本理解。本
技术实现思路
不是本文讨论的系统及/或方法的一广泛概述。其并不旨在识别关键/重要元素或描绘此种系统及/或方法的范围。其唯一目的是以一简化的形式呈现一些概念，作为稍后呈现的更详细说明的一序言。
附图说明
[0010]尽管本文提出的技术可以替代形式实施，但附图中例示的特定实施例仅是补充本文提供的说明的几个实例。这些实施例不应以一限制性方式(例如限制所附的权利要求书)来理解。
[0011]所揭露的主题可在某些部分和部分的布置中采取物理形式，其实施例将在本说明书中详细阐述，且在形成本说明书的一部分的附图中例示，并且在附图中：
[0012]图1是在一实例性方法中用于形成和使用一转换膜来创造一纳米结构(例如：纳米线)膜的阶段A至D的示意图。
[0013]图2是在一实例性方法中用于形成和使用一光可图案化纳米线膜(photo
‑
patternable nanowire film)的多个阶段的示意图。
[0014]图3是根据本专利技术的一态样的一实例性方法的流程图。
具体实施方式
[0015]现在将参考附图在下文中更全面地阐述主题，附图形成所述主题的一部分，且通过说明的方式例示特定实例性实施例。此说明不旨在作为对已知概念的广泛或详细讨论。本文所属技术中具有通常知识者所习知的细节可能已被省略，或者可以概括的方式处理。
[0016]本文使用的特定术语仅是为了方便起见，且其不应被视为对所揭露主题进行限制。参考附图会最佳地理解本文使用的相对性语言，在这些附图中，相同的编号用于识别相同或相似的项。此外，在附图中，某些特征可以某种示意形式例示。
[0017]以下主题可以各种不同的形式(例如：方法、装置、组件及/或系统)实施。因此，本主题不旨在被视为受限于在本文中作为实例阐述的任何说明性实施例。相反地，本文提供的实施例仅是说明性的。
[0018]本文提供一种形成和使用包含一可光图案化外一涂层基质的一转换膜的方法。可使用含有一用于多个金属纳米结构的蚀刻剂的一显影溶液来图案化外该涂层基质。本文还提供通过该方法制成的透明导电膜。
[0019]本文所用的“多个导电纳米结构”或“多个纳米结构”一般指导电纳米尺寸结构，例如，其至少一个尺寸小于500纳米、或小于250纳米、100纳米、50纳米或25纳米。典型地，纳米
结构由一金属材料(例如：一元素金属(例如过渡金属)或一金属化合物(例如金属氧化物))制成。金属材料亦可为包含二或更多种金属的一双金属材料或一金属合金。合适的金属包括但不限于银、金、铜、镍、镀金银、铂和钯。
[0020]该多个纳米结构可具有任何形状或几何结构。一给定的纳米结构的形态可通过其纵横比(aspect ratio)以一简化的方式界定，该纵横比是纳米结构的长度与宽度及/或高度的比率。例如，某些纳米结构是等向性成形的(即纵横比＝1)。典型的多个等向性纳米结构包括多个纳米颗粒。在较佳实施例中，该多个纳米结构是异向性成形的(即纵横比≠1)。该异向性纳米结构通常沿其长度具有一纵轴。实例性多个异向性纳米结构包括多个纳米线、多个纳米棒和多个纳米管，如本文所定义。
[0021]该多个纳米结构可为实心的或空心的。多个实心纳米结构包括例如多个纳米颗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种形成一透明导电膜的转换方法，该转换方法包含：提供具有一粘着剂的一施体基板的一区域，该粘着剂包含悬浮在一光敏聚合材料的多个金属纳米结构；将该施体基板和该粘着剂施加于一受体基板上；从施加于该受体基板的该粘着剂上移除该施体基板；使用光刻法图案化该粘着剂；以及使用一显影液显影被图案化的该粘着剂，该显影液：(i)根据该粘着剂的一图案移除该光敏聚合材料的一部分，且(ii)包含提供该多个金属纳米结构的蚀刻的一纳米结构蚀刻剂。2.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液显影被图案化的该粘着剂和蚀刻该多个金属纳米结构是一单一步骤的一部分。3.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液包含碳酸钠和在氧气存在下的一复合碱基。4.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液包含在氧气存在下的氨。5.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液包含一碱基和一氧化剂。6.如权利要求1所述的转换方法，其中纳米结构蚀刻剂在多个图案边缘截断该多个金属纳米结构。7.如权利要求1所述的转换方法，其中纳米结构蚀刻剂防止纳米结构超出该多个图案边缘。8.如权利要求1所述的转换方法，其中该多个纳米结构为多个纳米线。9.一种形成一透明导电膜的方法，该方法包含：提供具有一粘着剂的一基板的一区域，该粘着剂包含悬浮在一光敏聚合材料的多个金属纳米结构；使用光刻法图案化该光敏聚合材料；以及使用一...

【专利技术属性】
技术研发人员：麦可，
申请(专利权)人：英属维京群岛商天材创新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：