一种显影机用硅片清洗机构制造技术

本实用新型专利技术涉及显影机技术领域，尤其涉及一种显影机用硅片清洗机构，其包括清洗杯体、喷水环和固定底座，所述喷水环固定设于所述清洗杯体的上，所述固定底座固定设于所述清洗杯体的底部，所述清洗杯体、喷水环和固定底座上分别设有相对应的安装通孔，所述清洗杯体、喷水环和固定底座分别经螺杆设于所述安装通孔内进行固定安装，所述清洗杯体的侧壁上设有数个分布均匀的进液孔，所述喷水环上设有数个分布均匀的喷液孔，所述进液孔与所述喷液孔之间设有数条用于液体流通的通道，其不仅加工简单，所需成本低，使用寿命长，且无渗漏风险，可以满足市场需求。以满足市场需求。以满足市场需求。

【技术实现步骤摘要】
一种显影机用硅片清洗机构


[0001]本技术涉及显影机
，尤其涉及一种显影机用硅片清洗机构。

技术介绍

[0002]在半导体生产工艺比较重要的光刻部分工艺中，必须有配套的涂胶显影设备，需要进行工艺处理的硅晶片在其中的涂胶单元进行涂胶工艺操作，经过一段时间的工作，涂胶显影设备的硅晶片会残留的光刻胶，那是一种粘稠状的物质，需要清洗机构对其进行清洗，否则会影响其生产。
[0003]但是，现有的硅片清洗机构其流道较多，导致加工工艺难度高，使加工成本增加，也容易造成因某个流道连接处堵塞或侧漏，导致整个工件报废，使用寿命短，此外，需要堵塞的管口增多，会增加需要堵塞处渗漏风险，造成工件报废机率增加，无法满足市场需求。

技术实现思路

[0004]为了克服上述技术缺陷，本技术的目的是提供一种加工简单，所需成本低，使用寿命长，无渗漏风险，可以满足市场需求的显影机用硅片清洗机构。
[0005]为实现上述目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：
[0006]一种显影机用硅片清洗机构，包括清洗杯体、喷水环和固定底座，所述喷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显影机用硅片清洗机构，其特征在于：包括清洗杯体(1)、喷水环(2)和固定底座(3)，所述喷水环(2)固定设于所述清洗杯体(1)上，所述固定底座(3)固定设于所述清洗杯体(1)的底部，所述清洗杯体(1)、喷水环(2)和固定底座(3)上分别设有相对应的安装通孔(11)，所述清洗杯体(1)、喷水环(2)和固定底座(3)分别经螺杆设于所述安装通孔(11)内进行固定安装，所述清洗杯体(1)的侧壁上设有数个分布均匀的进液孔(4)，所述喷水环(2)上设有数个分布均匀的喷液孔(5)，所述进液孔(4)与所述喷液孔(5)之间设有数条用...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴想，刘惠明，
申请(专利权)人：江西维易尔半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：