一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，涉及半导体生产加工用相关设备技术领域。本实用新型专利技术包括出料机构主体，出料机构主体包括收集箱、收集仓和增压泵，且增压泵、收集仓分别贯穿连接于收集箱一端以及上端中部，收集箱另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管，且供料管前端连接有螺管，收集仓两侧中部连接有滑动组件，且滑动组件包括第一支架和第二支架，第一支架以及其外侧第二支架内侧中央位置通过滑槽滑动连接有滑块，且滑块端部与滑槽内端部侧壁之间抵触连接。本实用新型专利技术通过设置滑动组件和出料机构主体结构，具有便于使用，提高混酸系统工作效率的优点。的优点。的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构


[0001]本技术属于半导体用相关设备
，特别是涉及一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构。

技术介绍

[0002]半导体产业包含印刷电路板、光伏、液晶面板、集成电路等等，半导体在进行生产加工的过程中需对其进行蚀刻处理，混酸系统则是进行蚀刻液的制备设备，原料罐属于混酸系统中结构，目前，原料罐在进行出料时，一般直接通过出料口进行出料处理，但过多的原料由定出量的出料口排出，耗费时长较大，影响原料罐的二次供料效率，或用于原料罐的出料机构使用效果不理想，满足不了使用需求，局限性较大，因此有必要进行改进，以解决上述问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，通过设置滑动组件和出料机构主体，解决了现有原料罐在进行出料时，一般直接通过出料口进行出料处理，但过多的原料由定出量的出料口排出，耗费时长较大，影响原料罐的二次供料效率，或用于原料罐的出料机构使用效果不理想，满足不了使用需求的问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术是通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，包括出料机构主体(1)，其特征在于：所述出料机构主体(1)包括收集箱(101)、收集仓(103)和增压泵(104)，且增压泵(104)、收集仓(103)分别贯穿连接于收集箱(101)一端以及上端中部，所述收集箱(101)另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管(108)，且供料管(108)前端连接有螺管(4)，所述收集仓(103)两侧中部连接有滑动组件(2)，且滑动组件(2)包括第一支架(201)和第二支架(202)，所述第一支架(201)以及其外侧第二支架(202)内侧中央位置通过滑槽(203)滑动连接有滑块(204)，且滑块(204)端部与滑槽(203)内端部侧壁之间抵触连接。2.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，其特征在于，所述收集箱(101)分别通过气管(107)、进料管(102)以及出料管(106)与增压泵(104)、收集仓(103)和供料管(108)连接，且气管(107)、出料管(106)分别连接于收集箱(101)前后端中部，进料管(102)端部分别与收集箱(101)、...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏富琨，余光明，戴荣昌，曾朵清，
申请(专利权)人：福建雅鑫电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：