一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，涉及半导体生产加工用相关设备技术领域。本实用新型专利技术包括出料机构主体，出料机构主体包括收集箱、收集仓和增压泵，且增压泵、收集仓分别贯穿连接于收集箱一端以及上端中部，收集箱另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管，且供料管前端连接有螺管，收集仓两侧中部连接有滑动组件，且滑动组件包括第一支架和第二支架，第一支架以及其外侧第二支架内侧中央位置通过滑槽滑动连接有滑块，且滑块端部与滑槽内端部侧壁之间抵触连接。本实用新型专利技术通过设置滑动组件和出料机构主体结构，具有便于使用，提高混酸系统工作效率的优点。的优点。的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构


[0001]本技术属于半导体用相关设备
，特别是涉及一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构。

技术介绍

[0002]半导体产业包含印刷电路板、光伏、液晶面板、集成电路等等，半导体在进行生产加工的过程中需对其进行蚀刻处理，混酸系统则是进行蚀刻液的制备设备，原料罐属于混酸系统中结构，目前，原料罐在进行出料时，一般直接通过出料口进行出料处理，但过多的原料由定出量的出料口排出，耗费时长较大，影响原料罐的二次供料效率，或用于原料罐的出料机构使用效果不理想，满足不了使用需求，局限性较大，因此有必要进行改进，以解决上述问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，通过设置滑动组件和出料机构主体，解决了现有原料罐在进行出料时，一般直接通过出料口进行出料处理，但过多的原料由定出量的出料口排出，耗费时长较大，影响原料罐的二次供料效率，或用于原料罐的出料机构使用效果不理想，满足不了使用需求的问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0005]本技术为一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，包括出料机构主体，所述出料机构主体包括收集箱、收集仓和增压泵，且增压泵、收集仓分别贯穿连接于收集箱一端以及上端中部，所述收集箱另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管，且供料管前端连接有螺管，所述收集仓两侧中部连接有滑动组件，且滑动组件包括第一支架和第二支架，所述第一支架以及其外侧第二支架内侧中央位置通过滑槽滑动连接有滑块，且滑块端部与滑槽内端部侧壁之间抵触连接。
[0006]进一步地，所述收集箱分别通过气管、进料管以及出料管与增压泵、收集仓和供料管连接，且气管、出料管分别连接于收集箱前后端中部，进料管端部分别与收集箱、收集仓一端中部贯穿连接，由气管、进料管以及出料管进行增压泵的供压以及原料的进出作业，通过增压泵增压进行收集箱内部原料向外界混酸槽内部的输送，降低其对收集箱内部空间的占用，以及损坏概率。
[0007]进一步地，所述气管、进料管以及出料管分别通过一端连接的法兰盘与气口、进料口和出料口之间螺纹连接，且气口、出料口以及进料口分别开设于收集箱前后端中部以及上中部，法兰盘上边缘等距离螺纹贯穿连接有紧固螺栓，由紧固螺栓对法兰盘进行结构连接，通过定位后的法兰盘用于气管、进料管以及出料管结构的连接，采用螺纹连接的方式，便于进行其结构的拆装检修。
[0008]进一步地，所述收集仓内上部中央位置通过固定块连接有电磁阀门，且固定块焊接连接于电磁阀门前后端中部，收集仓周表面上部与外界原料罐内侧壁紧密贴合设置，通
过固定块对电磁阀门进行在收集仓内上部结构的连接，由电磁阀门对收集仓进行开关作业，并将收集仓周表面上部与外界原料罐内侧壁紧密贴合设置，避免原料发生渗漏。
[0009]进一步地，所述滑块之间通过螺孔、螺柱螺纹固定连接，且螺孔开设于滑块外中部，所述螺柱端部螺纹连接于螺孔内中部，且螺柱上下端中部呈对外凸起设置，由螺孔与螺柱之间结构的螺纹连接，用于滑块之间结构的连接固定，采用螺纹连接的方式，便于对其进行结构拆装检修或更换。
[0010]本技术具有以下有益效果：
[0011]1、本技术通过设置收集仓、收集箱和增压泵，具有对原料罐内部原料进行集中收集出料，节约原料罐二次供料时间，提高半导体蚀刻液混酸效率的效果，解决了原料罐在进行出料时，一般直接通过出料口进行出料处理，但过多的原料由定出量的出料口排出，耗费时长较大，影响原料罐二次供料效率的问题，用于原料罐的出料机构主体包括的收集仓以及收集箱集中对原料罐中的原料进行存储，在外界控制端由增压泵对收集仓、收集箱内部的原料进行向外界混酸槽输送的同时，立即进行原料罐内部的补充，重复循环上述步骤，大大降低了原料罐二次供料的时间，提高混酸效率，便于使用。
[0012]2、本技术通过设置滑动组件，具有便于进行出料机构主体零部件检修或更换的效果，解决了用于原料罐的出料机构检修不便，使用效果不理想，满足不了使用需求的问题，在收集仓两侧中部连接有滑动组件，滑动组件包括的第二支架与外界原料罐之间连接，而第一支架与收集仓连接，通过滑块在滑槽内侧中部的滑动连接，用于收集仓由外界原料罐内部的移出，一方面便于进行其检修更换，另一方面便于进行外界原料罐容量的调节，便于使用。
[0013]当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本技术外观结构示意图；
[0016]图2为本技术收集箱后中部放大示意图；
[0017]图3为本技术图1中A处放大示意图；
[0018]图4为本技术图1中B处放大示意图。
[0019]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0020]1、出料机构主体；101、收集箱；102、进料管；103、收集仓；104、增压泵；105、电磁阀门；106、出料管；107、气管；108、供料管；2、滑动组件；201、第一支架；202、第二支架；203、滑槽；204、滑块；205、螺柱；206、螺孔；3、固定块；4、螺管；5、紧固螺栓；6、法兰盘；7、进料口；8、出料口；9、气口。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行
清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1
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4所示，本技术为一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，包括出料机构主体1，出料机构主体1包括收集箱101、收集仓103和增压泵104，且增压泵104、收集仓103分别贯穿连接于收集箱101一端以及上端中部，收集箱101另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管108，且供料管108前端连接有螺管4，收集仓103两侧中部连接有滑动组件2，且滑动组件2包括第一支架201和第二支架202，第一支架201以及其外侧第二支架202内侧中央位置通过滑槽203滑动连接有滑块204，且滑块204端部与滑槽203内端部侧壁之间抵触连接，进行出料机构主体1的使用时，由外界支撑结构对该出料机构主体1进行结构支撑，将第一支架201、第二支架202分别与外界原料罐以及收集仓103进行结构连接，此时，由对其施加向下的力，由滑块204在滑槽203内侧中部的向下滑动，进行收集仓103的下移即可，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，包括出料机构主体(1)，其特征在于：所述出料机构主体(1)包括收集箱(101)、收集仓(103)和增压泵(104)，且增压泵(104)、收集仓(103)分别贯穿连接于收集箱(101)一端以及上端中部，所述收集箱(101)另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管(108)，且供料管(108)前端连接有螺管(4)，所述收集仓(103)两侧中部连接有滑动组件(2)，且滑动组件(2)包括第一支架(201)和第二支架(202)，所述第一支架(201)以及其外侧第二支架(202)内侧中央位置通过滑槽(203)滑动连接有滑块(204)，且滑块(204)端部与滑槽(203)内端部侧壁之间抵触连接。2.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，其特征在于，所述收集箱(101)分别通过气管(107)、进料管(102)以及出料管(106)与增压泵(104)、收集仓(103)和供料管(108)连接，且气管(107)、出料管(106)分别连接于收集箱(101)前后端中部，进料管(102)端部分别与收集箱(101)、...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏富琨，余光明，戴荣昌，曾朵清，
申请(专利权)人：福建雅鑫电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：