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本实用新型公开了一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构，涉及半导体生产加工用相关设备技术领域。本实用新型包括出料机构主体，出料机构主体包括收集箱、收集仓和增压泵，且增压泵、收集仓分别贯穿连接于收集箱一端以及上端中部，收集箱另一端中部呈中...
该专利属于福建雅鑫电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建雅鑫电子材料有限公司授权不得商用。

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