本实用新型专利技术公开了一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，包括安装座、电极和轰击棒，所述安装座包括上绝缘座、下绝缘座和固定柱，所述的上绝缘座和下绝缘座之间夹持安装板，所述固定柱上设置有轴向贯穿的通孔，所述电极贯穿通孔，电极的下端连接轰击棒，上端螺纹连接有第二螺母，所述第二螺母与第一螺母可旋转固定连接，电极的外壁中部设置有凸起条，所述通孔的内壁上设置有与凹槽。本实用新型专利技术具有的优点是本装置的轰击棒安装在电极上，电极则螺纹连接至一螺母上，而该螺母则与固定柱旋转连接，在旋转螺母后，因螺母不能在轴向上移动，则导致电极在轴向上移动，即可调节轰击棒与基片的距离，不用拆卸下整个装置，也不用改变真空状态。变真空状态。变真空状态。
【技术实现步骤摘要】
一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置
[0001]本技术涉及离子清洗领域，具体涉及一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置。
技术介绍
[0002]离子束清洗（ion beam cleaning）把离子束抛光的原理应用于清洗晶片表面，称为离子束清洗。与其他清洗方法相比，离子束清洗具有无沾污、表面结构完整、无微坑等优点。
[0003]在所有干性和湿性清洗材料表面的方法中，离子束清洗表面的作用最为彻底，而且清洗工艺灵活性最强。即使与一般离子束轰击方法比较，由于离子束定向性强，工作气体压强低和离子溅射参数易于单独控制，因此这种清洗方法从技术上说独具一格。例如，采用倾斜入射离子束溅射衬底表面时，不仅可彻底清除表面的杂质异物层，而且可以同时抛光表面，改善表面的微粗糙度和提高在其上生长的晶粒的均匀性。
[0004]如果清洗只是为了去除衬底表面异物层，则离子轰击造成的表面损伤、形成掺气原子和表面结构再造等并不重要。而且，离子东轰击产生的这类表面特征往往有利于增强薄膜的附着力。在维持清洗表面温度足够低的条件下，采用500eV
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1 000eV能量的惰性气体离子束轰击即可收到满意的表面清洗效果。
[0005]如果清洗的材料不允许离于束轰击造成表面晶态的严重损伤，过分改变表面材料成分的配比和表面的物理及化学性质。通常认为，只要使用的离子能量足够低就可以进行安全清洗的看法可能有误，针对不同的清洗材料对象、材料结构及性质的特点，应该明确不同的离子能量足够低的定量标准。
[0006]现有的真空镀膜设备中，在进行镀膜前，一般会先进行离子清洗，来增加基片的附着力，基片材质不同，其初始粗糙度不同，需要根据初始粗糙度来调节电压，以及轰击棒与基片的距离，如电压过大，导致离子能量较大，导致基片的粗糙度会先增加，之后才慢慢降低，这样基片的结构会发生变化，一般是厚度有细微的变化，在微电子行业，这些细微的变化是杜绝的，所以需要合适的电压，但轰击棒与基片的距离也具有一定的作用，距离过近时，粗糙度可能会先提高后，再降低，但距离过于远后，在合适的电压时，粗糙度虽然不变，但会导致清洗时间过长，所以需要调节合适的距离，在粗糙度不提高的情况下，也保证清洗时间不会太长，所以每次基片材质更换后，都需要调节轰击棒与基片的距离，一般需要拆卸装置，然后更换轰击棒，通过不同长度的轰击棒来调节距离，但这样拆卸非常麻烦，并且还需要重新抽真空，非常的麻烦。
技术实现思路
[0007]本技术的一个目的是解决至少上述问题，并提供至少后面将说明的优点。
[0008]本技术的目的在于提供一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，为解决现有清洗装置，在基片材质变化后，调节轰击棒与基片间距，过程过于麻烦的缺陷。
[0009]为了实现根据本技术的这些目的和其它优点，提供了一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，包括安装座、电极和轰击棒，所述安装座包括上绝缘座、下绝缘座和固定柱，所述的上绝缘座和下绝缘座之间夹持安装板，所述安装板上设置有安装孔，上绝缘座和/或下绝缘座上设置套管进入安装孔，所述固定柱依次贯穿下绝缘座、安装孔、上绝缘座连接第一螺母，固定柱位于套管内，与安装板没有接触，所述固定柱上设置有轴向贯穿的通孔，所述电极贯穿通孔，电极的下端连接轰击棒，上端设置有螺纹头，该螺纹头上螺纹连接有第二螺母，所述第二螺母与第一螺母可旋转固定连接，电极的外壁的中部设置有轴向延伸的凸起条，所述通孔的内壁上设置有与所述凸起条配合的凹槽。
[0010]在一个可能的设计中，上述下绝缘座外包裹有第一屏蔽罩，所述第一屏蔽罩包裹下绝缘座以及电极的下端，第一屏蔽罩上设置有清洗口，所述轰击棒在清洗口处露出。
[0011]在一个可能的设计中，上述上绝缘座外包裹有第二屏蔽罩，所述第二屏蔽罩包裹上绝缘座以及电极的上端。
[0012]在一个可能的设计中，上述电极的上端设置有螺钉孔。
[0013]在一个可能的设计中，上述下绝缘座和安装板之间设置有第一垫圈。
[0014]在一个可能的设计中，上述固定柱与下绝缘座之间设置有第二垫圈。
[0015]在一个可能的设计中，上述电极与固定柱之间设置有第三垫圈。
[0016]本技术至少包括以下有益效果：本装置的轰击棒安装在电极上，电极则螺纹连接至一螺母上，而该螺母则与固定柱旋转连接，在旋转螺母后，因螺母不能在轴向上移动，则导致电极在轴向上移动，即可调节轰击棒与基片的距离，不用拆卸下整个装置，也不用改变真空状态。
[0017]本技术的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本技术的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
附图说明
[0018]图1 为本技术的剖视图；
[0019]图2 为图1中A向放大示意图；
[0020]图3 为电极进入固定柱后，在凸起条处的剖视图；
[0021]图4 为图1中B向放大示意图；
[0022]图5 为第一螺母和第二螺母的拆分示意图。
具体实施方式
[0023]下面结合附图及具体实施例来对本技术作进一步阐述。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明虽然是用于帮助理解本技术，但并不构成对本技术的限定。本文公开的特定结构和功能细节仅用于描述本技术的示例实施例。然而，可用很多备选的形式来体现本技术，并且不应当理解为本技术限制在本文阐述的实施例中。
[0024]需要说明的是，下述实施方案中所述实验方法，如无特殊说明，均为常规方法，所述试剂和材料，如无特殊说明，均可从商业途径获得；在本技术的描述中，术语“横向”、“纵向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示
的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，并不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0025]如图1~5，一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，包括安装座100、电极200和轰击棒300，所述安装座100包括上绝缘座101、下绝缘座102和固定柱103，所述的上绝缘座101和下绝缘座102之间夹持安装板400，所述安装板400上设置有安装孔401，上绝缘座101和/或下绝缘座102上设置套管104进入安装孔401，所述固定柱103依次贯穿下绝缘座102、安装孔401、上绝缘座101连接第一螺母105，固定柱103位于套管104内，与安装板400没有接触，所述固定柱103上设置有轴向贯穿的通孔108，所述电极200贯穿通孔108，电极200的下端连接轰击棒300，上端设置有螺纹头201，该螺纹头201上螺纹连接有第二螺母202，所述第二螺母202与第一螺母105可旋转固定连接，电极200的外壁中部设置有轴向延伸的凸起条203，所述通孔108的内壁上设置有与所述凸起条2本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，其特征在于，包括安装座、电极和轰击棒，所述安装座包括上绝缘座、下绝缘座和固定柱，所述的上绝缘座和下绝缘座之间夹持安装板，所述安装板上设置有安装孔，上绝缘座和/或下绝缘座上设置套管进入安装孔，所述固定柱依次贯穿下绝缘座、安装孔、上绝缘座连接第一螺母，固定柱位于套管内，与安装板没有接触，所述固定柱上设置有轴向贯穿的通孔，所述电极贯穿通孔，电极的下端连接轰击棒，上端设置有螺纹头，该螺纹头上螺纹连接有第二螺母，所述第二螺母与第一螺母可旋转固定连接，电极的外壁中部设置有轴向延伸的凸起条，所述通孔的内壁上设置有与所述凸起条配合的凹槽。2.如权利要求1所述的一种应用于真空镀膜设备的离子轰击清洗装置，其特征在于，所述下绝缘座外包裹有第一屏蔽罩，所述第一屏蔽罩...
【专利技术属性】
技术研发人员：李忠，
申请(专利权)人：成都齐荣科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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