一种腔盖、腔体以及等离子体化学气相沉积设备制造技术

本申请公开了一种腔盖、腔体以及等离子体化学气相沉积设备，属于微波电磁聚焦技术领域，腔盖包括主体和覆盖片，主体包括至少两个同轴的腔体，这些腔体的直径沿他们的轴线方向依次增大；在主体的外壁上设置有供冷却水流动的第一凹槽，覆盖片与主体可拆卸连接。本实用新型专利技术公开的上腔体利用阶梯状的腔体进行配合，能够高效增强微波功率的耦合，极大地提高了谐振腔内微波电场的聚焦能力；供冷却水经过的第一凹槽直接设置在主体上，冷却水与腔体之间的间隔距离小，冷却效果较佳，且覆盖片与主体之间为可拆卸配合，可以随时对第一凹槽进行清理，避免水垢将第一凹槽堵塞，从而保证对主体冷却的高效性。冷却的高效性。冷却的高效性。

【技术实现步骤摘要】
一种腔盖、腔体以及等离子体化学气相沉积设备


[0001]本技术涉及微波电磁聚焦
，具体而言，涉及一种腔盖、腔体以及等离子体化学气相沉积设备。

技术介绍

[0002]现有大功率微波传输波导系统的散热主要是在波导外壁上缠绕铜管或者铝管，并焊接在波导外壁上，冷却水流经铜管或者铝管来散热。该结构至少具有如下的缺点：焊接后冷却装置与基材之间存在热阻，散热效率低，且在使用一段时间后，当铜管或者铝管被水垢堵塞时，无法进行清洗，导致冷却水流通不畅。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是公开一种腔盖、腔体以及等离子体化学气相沉积设备，以改善上述的问题。
[0004]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0005]基于上述的目的，本技术公开了一种腔盖，包括：
[0006]主体，所述主体包括至少两个腔体，所述至少两个腔体同轴设置，且所述至少两个腔体的直径沿其轴线的方向依次增大，所述主体的外壁上设置有第一凹槽；以及
[0007]覆盖片，所述覆盖片与所述主体可拆卸连接，且所述覆盖片覆盖在所述第一凹槽处形成第一冷却水通道。
[0008]可选地：相邻的两个所述腔体之间设置有过渡腔，所述过渡腔的直径沿直径较小的所述腔体朝向直径较大的腔体的方向逐渐增大。
[0009]可选地：所述主体上还设置有第二凹槽，所述第二凹槽位于所述主体的顶部，所述第二凹槽与所述第一凹槽间隔设置，所述腔盖还包括顶板，所述顶板与所述主体可拆卸连接，且所述顶板位于所述第二凹槽处。
[0010]可选地：所述第二凹槽包括两个对称的弯折槽，每个所述弯折槽包括同心布置且从内到外半径逐渐增大的多个圆弧形的槽。
[0011]基于上述的目的，本技术还公开了一种腔体，包括底板和如上所述的腔盖，所述底板安装于所述主体，且所述底板安装于最大的所述腔体处，所述底板上设置有多个通孔，多个所述通孔均与所述腔体连通。
[0012]可选地：所述底板上设置有凸起，所述凸起沿所述底板的周向呈环形，所述凸起卡接于所述主体。
[0013]可选地：所述凸起的外侧壁设置为第一斜面，所述第一斜面沿所述底板朝向所述主体的方向向内倾斜，所述主体上设置有与所述第一斜面配合的第二斜面，所述第二斜面与所述第一斜面平行设置。
[0014]可选地：所述底板和所述凸起上分别设置有第三凹槽，所述第三凹槽呈环状。
[0015]可选地：所述底板上设置有过滤网，所述过滤网位于所述通孔内。
[0016]基于上述的目的，本技术还公开了一种等离子体化学气相沉积设备，包括如上所述的腔体。
[0017]与现有技术相比，本技术实现的有益效果是：
[0018]本技术公开的腔盖利用阶梯状的腔体进行配合，能够高效增强微波功率的耦合，极大地提高了谐振腔内微波电场的聚焦能力；供冷却水经过的第一凹槽直接设置在主体上，冷却水与腔体之间的间隔距离小，冷却效果较佳，且覆盖片与主体之间为可拆卸配合，可以随时对第一凹槽进行清理，避免水垢将第一凹槽堵塞，从而保证对主体冷却的高效性。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0020]图1示出了本技术实施例公开的腔盖的示意图；
[0021]图2示出了本技术实施例公开的主体的示意图；
[0022]图3示出了本技术实施例公开的主体的剖视图；
[0023]图4示出了本技术实施例公开的主体的俯视图；
[0024]图5示出了本技术实施例公开的主体的顶部的示意图；
[0025]图6示出了本技术实施例公开的其中一种覆盖片的示意图；
[0026]图7示出了本技术实施例公开的顶板的示意图；
[0027]图8示出了本技术实施例公开的腔体的示意图；
[0028]图9示出了本技术实施例公开的腔体的剖视图；
[0029]图10示出了本技术实施例公开的底板的示意图；
[0030]图11示出了本技术实施例公开的底板的剖视图。
[0031]图中：
[0032]100
‑
主体；110
‑
腔体；120
‑
过渡腔；130
‑
窗口；140
‑
第一凹槽；150
‑
第二凹槽；160
‑
第二斜面；170
‑
凸出部；200
‑
覆盖片；210
‑
进水口；220
‑
出水口；300
‑
顶板；400
‑
底板；410
‑
通孔；420
‑
过滤网；430
‑
安装孔；440
‑
凸起；450
‑
第三凹槽；460
‑
第一斜面。
具体实施方式
[0033]下面通过具体的实施例子并结合附图对本技术做进一步的详细描述。
[0034]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0035]因此，以下对在附图中公开的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范
围。
[0036]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0037]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0038]在本申请实施例的描述中，需要说明的是，指示方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0039]在本申请实施例的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种腔盖，其特征在于，包括：主体，所述主体包括至少两个腔体，所述至少两个腔体同轴设置，且所述至少两个腔体的直径沿其轴线的方向依次增大，所述主体的外壁上设置有第一凹槽；以及覆盖片，所述覆盖片与所述主体可拆卸连接，且所述覆盖片覆盖在所述第一凹槽处形成第一冷却水通道。2.根据权利要求1所述的腔盖，其特征在于，相邻的两个所述腔体之间设置有过渡腔，所述过渡腔的直径沿直径较小的所述腔体朝向直径较大的腔体的方向逐渐增大。3.根据权利要求1或者2所述的腔盖，其特征在于，所述主体上还设置有第二凹槽，所述第二凹槽位于所述主体的顶部，所述第二凹槽与所述第一凹槽间隔设置，所述腔盖还包括顶板，所述顶板与所述主体可拆卸连接，且所述顶板覆盖在所述第二凹槽处形成第二冷却水通道。4.根据权利要求3所述的腔盖，其特征在于，所述第二凹槽包括两个对称的弯折槽，每个所述弯折槽包括同心布置且从内到外半径逐渐增大的多个圆弧形的槽。5.一种腔体，其特征在于，包括底板和如...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘文科，黄春林，胡宗义，
申请(专利权)人：成都纽曼和瑞微波技术有限公司，
类型：新型
国别省市：