一种放电腔组件及气相沉积设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种放电腔组件及气相沉积设备，属于微波等离子体领域。上述放电腔组件包括放电腔以及观察筒，观察筒与放电腔的外壁连接，并与放电腔的内腔连通；观察筒的内壁上设置有至少一个环形凹槽或者环形凸起。由于在观察筒的内壁上设置了环形凹槽或环形凸起；其使得观察筒内的电子湮灭，从而减少了电子对石英玻璃的损伤，进而提高了石英玻璃的使用寿命。上述气相沉积设备，其采用了上述放电腔组件后，由于观察筒上的石英玻璃的寿命显著提高，因而使得设备的整体寿命显著提高。因而使得设备的整体寿命显著提高。因而使得设备的整体寿命显著提高。

【技术实现步骤摘要】
一种放电腔组件及气相沉积设备


[0001]本技术涉及微波等离子体领域，具体而言，涉及一种放电腔组件及气相沉积设备。

技术介绍

[0002]金刚石具有高硬度、高热导率、低膨胀系数、高透光性、高电阻率以及高载流迁移率等优异性能，促使其在军事、航天航空、生物工程、计算机芯片和电子信息工程等高新领域有着广阔的应用前景。
[0003]微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)被认为是当今国际上制备高质量金刚石膜的首选、最先进方法；而上述方法需要用到专用的气相沉积设备。即微波在放电腔内通过等离子体放电的方式，将反应气中的碳元素沉积在样品基片上。而上述沉积设备的核心部件之一就是放电腔，而为了观察放电腔内样品基片的情况，一般会在放电腔上设置观察筒，观察筒的端部设置石英玻璃；通过上述石英玻璃能够观察放电腔内的情况。而现有的放电腔组件的石英玻璃的寿命较短，其直接影响到了整台设备的使用寿命。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种放电腔组件，其能够使得观察筒内的电子湮灭，通过减少电子对石英玻璃的损伤来提高石英玻璃的使用寿命。
[0005]本技术的另一目的在于提供一种气相沉积设备，其采用了上述放电腔组件。
[0006]本技术是这样实现的：
[0007]一种放电腔组件，用于等离子体气相沉积设备，包括：
[0008]放电腔；以及
[0009]观察筒，所述观察筒与所述放电腔的外壁连接，并与所述放电腔的内腔连通；所述观察筒的内壁上设置有至少一个环形凹槽或者环形凸起。
[0010]进一步，所述观察筒的内壁上设置有多个所述环形凹槽。
[0011]进一步，多个所述环形凹槽的直径相等。
[0012]进一步，沿远离所述放电腔的方向，多个所述环形凹槽的直径依次增大。
[0013]进一步，所述观察筒的内壁上设置有多个所述环形凸起。
[0014]进一步，多个所述环形凸起的直径相等。
[0015]进一步，沿远离所述放电腔的方向，多个所述环形凸起的直径依次减小。
[0016]进一步，所述放电腔的内壁设置有降低二次电子发射系数材料涂层，如铼或铂。
[0017]一种气相沉积设备，其包括所述的放电腔组件。
[0018]本技术提供的技术方案的有益效果是：
[0019]上述设计得到的放电腔组件，由于在观察筒的内壁上设置了环形凹槽或环形凸起；其使得观察筒内的电子湮灭，从而减少了电子对石英玻璃的损伤，进而提高了石英玻璃的使用寿命。
[0020]上述气相沉积设备其采用了上述放电腔组件后，由于观察筒上的石英玻璃的寿命显著提高，因而使得设备的整体寿命显著提高。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0022]图1是本技术实施方式提供的气相沉积设备的整体结构示意图。
[0023]图2是本技术实施例1提供的电子阱的剖视图；
[0024]图3是现有技术中电子在观察筒中运动的示意图；
[0025]图4是电子在实施例1提供的观察筒中运动的示意图；
[0026]图5是本技术其它实施例提供的电子阱的剖视图；
[0027]图6是本技术其它实施例提供的电子阱的剖视图；
[0028]图7是现有技术中的电子阱中电场仿真图；
[0029]图8是图2中电子阱内壁设置一个环形凹槽时电场仿真图；
[0030]图9是图5中电子阱内壁设置多个等径凹槽时电场仿真图；
[0031]图10是图6中电子阱内壁设置有多个变径凹槽时电场仿真图；
[0032]图11是本技术实施例2提供的电子阱的剖视图；
[0033]图12是本技术其它实施例提供的电子阱的剖视图；
[0034]图13是本技术其它实施例提供的电子阱的剖视图。
[0035]图标：010
‑
沉积设备；100
‑
放电腔组件；110
‑
放电腔；120
‑
观察筒； 121
‑
环形凹槽；122
‑
环形凸起；123
‑
观察窗；200
‑
微波源；300
‑
微波传输装置；400
‑
机架。
具体实施方式
[0036]为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。
[0037]在本技术的描述中，指示方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0038]除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。
[0039]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之上或之下可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征之上、上方和上面包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特
征之下、下方和下面包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0040]实施例1：
[0041]请参考图1，本实施例提供了一种气相沉积设备010，其包括微波源 200、微波传输装置300、放电腔组件100及机架400。上述微波源200安装在机架400的一端，并通过微波传输装置300与放电腔组件100连接。
[0042]上述机架400包括框架结构及外侧壳体，框架结构是型材焊接制成，壳体与框架结构连接。机架的一端凸起形成安装台，微波源200设置在上述安装台上；机架的另一端用于安装放电腔组件100。
[0043]上述放电腔组件100包括放电腔110及多个改进后的观察筒120，上述观察筒120与放电腔110的外壁连接，并均匀分布在放电腔110的周围。观察筒120倾斜向上设置，其端部设置有石英玻璃制成的圆形片状观察窗 123。
[0044]具体地，请参考图2，上述放电腔组件100的主体结构为竖直本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种放电腔组件，用于等离子体气相沉积设备，其特征在于，包括：放电腔；以及观察筒，所述观察筒与所述放电腔的外壁连接，并与所述放电腔的内腔连通；所述观察筒的内壁上设置有至少一个环形凹槽或者环形凸起。2.根据权利要求1所述的放电腔组件，其特征在于：所述观察筒的内壁上设置有多个所述环形凹槽。3.根据权利要求2所述的放电腔组件，其特征在于：多个所述环形凹槽的直径相等。4.根据权利要求2所述的放电腔组件，其特征在于：沿远离所述放电腔的方向，多个所述环形凹槽的直径依次增大。5.根据权利要求1所述的放电...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄春林，刘文科，冯智飞，李俊宏，季宇，
申请(专利权)人：成都纽曼和瑞微波技术有限公司，
类型：新型
国别省市：