物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，涉及物理气相沉积领域。该物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，包括支撑固定底座，所述支撑固定底座的上端安装有支撑固定机架，所述支撑固定机架的前端安装有垂直限位块，所述垂直限位块的右端安装有水平限位块，所述支撑固定机架的前端安装有方向调节转盘，所述方向调节转盘的一端安装有弧形调节齿条，所述方向调节转盘远离支撑固定机架的一端安装有四组限位固定卡块，所述方向调节转盘远离支撑固定机架的一端安装有限位固定螺栓。该物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，可以在水平和垂直方向调节永磁装置，优化薄膜材料的薄膜厚度均匀性、应力均匀性和方阻均匀性。阻均匀性。阻均匀性。

【技术实现步骤摘要】
物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置


[0001]本技术涉及物理气相沉积
，具体为物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置。

技术介绍

[0002]物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
[0003]目前现有的物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，结构简单，一般不具备方向调节工作，且有很多不足之处需要进行改进，从而降低了使用性能，因此专利技术一种物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本技术试图克服以上缺陷，因此本技术提供了物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，通过添加了可以在水平和垂直方向调节本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.物理气相沉积等离子体分布调控的永磁装置，包括支撑固定底座(1)，其特征在于：所述支撑固定底座(1)的上端安装有支撑固定机架(2)，所述支撑固定机架(2)的前端安装有垂直限位块(3)，所述垂直限位块(3)的右端安装有水平限位块(4)，所述支撑固定机架(2)的前端安装有方向调节转盘(5)，所述方向调节转盘(5)的一端安装有弧形调节齿条(6)，所述方向调节转盘(5)远离支撑固定机架(2)的一端安装有四组限位固定卡块(7)，所述方向调节转盘(5)远离支撑固定机架(2)的一端安装有限位固定螺栓(8)，所述方向调节转盘(5)远离弧形调节齿条(6)的一端安装有动态调节限位块(9)，所述方向调节转盘(5)远离支撑固定机架(2)的一端安装有永磁工作装置(10)，所述支撑固定机架(2)的前端安装有传动工作机箱(11)，所述传动工作机箱(11)的内部开设有传动工作槽孔(12)，所述传动工作槽孔(12)的内部安装有传动受力转轴(13)，所述传动受力转轴(13)的上安装有方向调节齿轮(14)，所述方向调节转盘(5)的前端开设有螺纹限位槽孔(15)，所述永磁工作装置(10)的内部开设有定位导向通孔(...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨武，杨志，
申请(专利权)人：江苏信核芯微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：