一种真空镀膜晶振信号近距离处理装置及真空镀膜设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空镀膜晶振信号近距离处理装置及真空镀膜设备，该处理装置包括容置腔体和晶控系统，所述容置腔体固定于真空室的工件架内并随所述工件架运动，所述容置腔体的顶部密封连接一管道，所述管道穿过所述工件架和真空室与外部大气相连通；所述管道与所述工件架间、所述管道与所述真空室间均密封连接；所述晶控系统包括：晶控探头、振荡包、膜厚控制仪，所述振荡包和所述膜厚控制仪通信连接，并安装于所述容置腔体内，所述晶控探头安装于工件架上，所述晶控探头通过一信号线与容置腔体内的振荡包相连接；所述信号线与所述容置腔体间密封连接。本发明专利技术解决了“跳晶控”问题，保证了镀膜操作的稳定性。保证了镀膜操作的稳定性。保证了镀膜操作的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜晶振信号近距离处理装置及真空镀膜设备


[0001]本专利技术涉及真空镀膜膜厚控制技术及真空镀膜设备制造
，尤其涉及一种真空镀膜晶振信号近距离处理装置及真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜工艺中，膜层厚度普遍使用石英晶体控制，行业内称做“晶控”。晶控系统包括探头、信号传输线、振荡包和膜厚控制仪等部件。其中探头是放置在真空室里的传感器，探头里的晶振片随着膜厚变化，自身的固有频率发生变化，它实时地将带有频率变化的交变电信号通过信号传输线反馈给振荡包，膜厚控制仪再对振荡包发出的信号进行计算处理，最终得到膜厚的数据，并以数字信号传递给中央控制系统。在实际镀膜生产中经常会出现控制屏上膜厚数据剧烈波动的现象，严重时曲线突然大幅跳跃，控制中心会误判膜层已镀到既定厚度而停止镀膜，这种现象业内称之为“跳晶控”。
[0003]“跳晶控”现象产生的原因主要有以下几种：
[0004](1)数据传输线过长：现有的磁控溅射光学镀膜设备尺寸都较大，晶控探头在真空室里，振荡包在真空室外，信号传输线从探头到振荡包距离很长。而传输线的长度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜晶振信号近距离处理装置，其特征在于，包括一容置腔体和一晶控系统，所述容置腔体固定于真空室的工件架内并随所述工件架运动，所述容置腔体的顶部密封连接一管道，所述管道穿过所述工件架和真空室与外部大气相连通；所述管道与所述工件架、所述管道与所述真空室间均密封连接；所述晶控系统包括：晶控探头、振荡包、膜厚控制仪，所述振荡包和所述膜厚控制仪通信连接，并安装于所述容置腔体内，所述晶控探头安装于工件架上，所述晶控探头通过一信号线与容置腔体内的振荡包相连接；所述信号线与所述容置腔体间密封连接。2.根据权利要求1所述的真空镀膜晶振信号近距离处理装置，其特征在于，所述管道与所述工件架间设有第一密封件，所述管道与所述真空室间设有第二密封件，所述信号线与所述容置腔体间设有第三密封件。3.根据权利要求2所述的真空镀膜晶振信号近距离处理装置，其特征在于，所述管道包括一波纹管和一转轴管，所述波纹管一端与所述容置腔体的顶部密封连接，另一端与所述转轴管一端密封连接，所述转轴管一端固定于所述工件架上，另一端穿过所述真空室与外部大气相连通，所述第二密封件与所述转轴管相配合。4.根据权利要求3所述的真空镀膜晶振信号近距离处理装置，其特征在于，所述膜厚控制仪的电源线和信号传输线穿过所述管道连接于真空室外的滑环接线端。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：战永刚，冯红涛，战捷，周林，尹强，
申请(专利权)人：深圳市三束镀膜技术有限公司，
类型：发明
国别省市：