一种晶片腐蚀机制造技术

本实用新型专利技术提供一种晶片腐蚀机，包括腐蚀机主体，腐蚀机主体为长方体状中空结构，腐蚀机主体的内部固定有腐蚀槽，腐蚀槽的底部竖直固定有升降组件，升降组件顶部连接有限位盘，腐蚀槽顶部开口位置位于限位盘的正上方，腐蚀槽内部两端还分别设置有搅拌辊；腐蚀槽两侧还分别设置有上料组件和清洗水槽，上料组件配置有多个腐蚀架，腐蚀架用于配置待腐蚀的晶片；腐蚀机主体的顶部固定有搬运组件，搬运组件包括轨道以及活动设置于轨道上的第一滑块和第二滑块，第一滑块和第二滑块上分别固定有第一夹爪和第二夹爪；具有安全性好、自动化程度高的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种晶片腐蚀机
本技术属于晶片加工设备
，具体涉及一种晶片腐蚀机。
技术介绍
石英晶体的化学成分为SiO2，晶体属三方晶系的氧化物矿物，即低温石英(a-石英)，是石英族矿物中分布最广的一个矿物种。广义的石英还包括高温石英(b-石英)；石英晶体的研究开发和生产活动中，对晶片的生产加工需要一个腐蚀过程；现有的石英晶片腐蚀机的驱动装置带动腐蚀架在腐蚀液内上下往复运动，然后取出，但是这样驱动装置长期接触腐蚀液影响使用寿命，同时在腐蚀架取出过程中，容易将腐蚀液溅出，污染工作环境，影响工作人员的健康。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种晶片腐蚀机，以解决现有的腐蚀机驱动装置设计不够合理，造成使用寿命降低且对工作环境有不良影响的问题。本技术提供了如下的技术方案：一种晶片腐蚀机，包括腐蚀机主体，所述腐蚀机主体为长方体状中空结构，所述腐蚀机主体的内部固定有腐蚀槽，所述腐蚀槽的底部竖直固定有升降组件，所述升降组件顶部连接有限位盘，所述腐蚀槽顶部开口位置位于限位盘的正上方，所述腐蚀槽内部两端还分别设置有搅拌辊；所述腐蚀槽两侧还分别设置有上料组件和清洗水槽，所述上料组件配置有多个腐蚀架，所述腐蚀架用于配置待腐蚀的晶片；所述腐蚀机主体的顶部固定有搬运组件，所述搬运组件包括轨道以及活动设置于轨道上的第一滑块和第二滑块，所述第一滑块和第二滑块上分别固定有第一夹爪和第二夹爪。优选的，所述腐蚀槽的内壁呈椭圆形结构，所述搅拌辊位于该椭圆形结构的圆心位置。优选的，所述升降组件为气缸或电动推杆，其活动端从腐蚀槽底部延伸至内侧并连接限位盘，所述活动端外侧包裹有可伸缩的防护套。优选的，所述上料组件包括中空结构的机壳，所述机壳一侧竖直设置有滚珠丝杠，所述滚珠丝杠包括螺杆以及螺母，所述螺杆底部连接有驱动电机，所述螺杆顶部通过轴承固定；所述螺母上连接有板件，所述板件贯穿至机壳内部，所述机壳内部的板件上竖直排列有多个腐蚀架。优选的，所述搬运组件靠近上料组件一端设置有光电传感器，所述光电传感器与上料组件电性连接，当光电传感器接收到信号时，触发上料组件动作。本技术的有益效果是：本技术的一种晶片腐蚀机，腐蚀槽内设置有搅拌辊，从而保证腐蚀液搅拌均匀，腐蚀液流动可以提升腐蚀效率；第一夹爪和清洗水槽搭配负责下料，第二夹爪和上料组件搭配负责上料，分工明确，自动化作业；腐蚀液仅出现在下料区域，不会影响到上料区域，对工作人员威胁小，安全性高。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1是本技术结构示意图；图中标记为：1.腐蚀机主体，11.腐蚀槽，12.升降组件，13.限位盘，14.搅拌辊，2.上料组件，21.机壳，22.滚珠丝杠，23.驱动电机，3.清洗水槽，4.腐蚀架，5.搬运组件，51.第一夹爪，52.第二夹爪，6.防护套，7.光电传感器。具体实施方式如图1所示，该晶片腐蚀机，包括腐蚀机主体1，腐蚀机主体1为长方体状中空结构，腐蚀机主体1的内部固定有腐蚀槽11，腐蚀槽11的底部竖直固定有升降组件12，升降组件12顶部连接有限位盘13，升降组件12为气缸或电动推杆，其活动端从腐蚀槽11底部延伸至内侧并连接限位盘13，活动端外侧包裹有可伸缩的防护套6；腐蚀槽11顶部开口位置位于限位盘13的正上方，腐蚀槽11内部两端还分别设置有搅拌辊14；腐蚀槽11的内壁呈椭圆形结构，搅拌辊14位于该椭圆形结构的圆心位置；腐蚀槽11两侧还分别设置有上料组件2和清洗水槽3。上料组件2配置有多个腐蚀架4，腐蚀架4用于配置待腐蚀的晶片；上料组件2包括中空结构的机壳21，机壳21一侧竖直设置有滚珠丝杠22，滚珠丝杠22包括螺杆以及螺母，螺杆底部连接有驱动电机23，螺杆顶部通过轴承固定；螺母上连接有板件，板件贯穿至机壳11内部，机壳11内部的板件上竖直排列有多个腐蚀架4；腐蚀机主体1的顶部固定有搬运组件5，搬运组件5包括轨道以及活动设置于轨道上的第一滑块和第二滑块，第一滑块和第二滑块上分别固定有第一夹爪51和第二夹爪52；搬运组件5靠近上料组件2一端设置有光电传感器7，光电传感器7与上料组件2电性连接，当光电传感器7接收到信号时，触发上料组件2动作。本具体实施方式，在工作时，第二夹爪52从上料组件2获取腐蚀架4，然后运送至中部由限位盘13接收，限位盘13将腐蚀架4带入腐蚀槽11进行腐蚀作业，随后由第一夹爪51从限位盘13中获取处理后的腐蚀架4并运送至清洗水槽3。以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶片腐蚀机，其特征在于，包括腐蚀机主体，所述腐蚀机主体为长方体状中空结构，所述腐蚀机主体的内部固定有腐蚀槽，所述腐蚀槽的底部竖直固定有升降组件，所述升降组件顶部连接有限位盘，所述腐蚀槽顶部开口位置位于限位盘的正上方，所述腐蚀槽内部两端还分别设置有搅拌辊；所述腐蚀槽两侧还分别设置有上料组件和清洗水槽，所述上料组件配置有多个腐蚀架，所述腐蚀架用于配置待腐蚀的晶片；所述腐蚀机主体的顶部固定有搬运组件，所述搬运组件包括轨道以及活动设置于轨道上的第一滑块和第二滑块，所述第一滑块和第二滑块上分别固定有第一夹爪和第二夹爪。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶片腐蚀机，其特征在于，包括腐蚀机主体，所述腐蚀机主体为长方体状中空结构，所述腐蚀机主体的内部固定有腐蚀槽，所述腐蚀槽的底部竖直固定有升降组件，所述升降组件顶部连接有限位盘，所述腐蚀槽顶部开口位置位于限位盘的正上方，所述腐蚀槽内部两端还分别设置有搅拌辊；所述腐蚀槽两侧还分别设置有上料组件和清洗水槽，所述上料组件配置有多个腐蚀架，所述腐蚀架用于配置待腐蚀的晶片；所述腐蚀机主体的顶部固定有搬运组件，所述搬运组件包括轨道以及活动设置于轨道上的第一滑块和第二滑块，所述第一滑块和第二滑块上分别固定有第一夹爪和第二夹爪。


2.根据权利要求1所述的一种晶片腐蚀机，其特征在于，所述腐蚀槽的内壁呈椭圆形结构，所述搅拌辊位于该椭圆形结构的圆心位置。

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【专利技术属性】
技术研发人员：陈康，刘四化，王宜，
申请(专利权)人：无锡瑞达半导体专用设备有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32