【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产用晶圆清洗装置
本技术属于晶圆加工
,具体涉及一种半导体生产用晶圆清洗装置。
技术介绍
晶圆于在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,是常用见的半导体结构,在半导体的生产过程中,需使用清洗装置对晶圆进行处理,清洗装置的应用广泛。传统的清洗装置在使用时,不能多个晶圆进行多方位的同时进行清洗,且晶圆固定不便,载重体承载晶圆时稳定性不佳,清洗效率低,效果差,影响了清洗装置的使用。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本技术的目的是提供一种半导体生产用晶圆清洗装置。本技术提供了如下的技术方案:一种半导体生产用晶圆清洗装置,包括水箱,所述水箱底部设有安装框,所述安装框底部两侧设有套筒,所述套筒内设有弹簧,所述弹簧一侧设有移动板,所述移动板与所述套筒滑动相连,所述移动板顶部设有移动框,所述移动框两侧壁设有锯齿,所述锯齿一侧设有齿轮,所述齿轮上设有部分锯齿,所述齿轮一侧设有第二螺纹块,所述第二螺纹块一侧设有第一螺纹块,所述第一螺纹块与所述安装框转动相连;所述移动板底部两侧转动设有电动杆,所 ...
【技术保护点】
1.一种半导体生产用晶圆清洗装置,其特征在于:包括水箱,所述水箱底部设有安装框,所述安装框底部两侧设有套筒,所述套筒内设有弹簧,所述弹簧一侧设有移动板,所述移动板与所述套筒滑动相连,所述移动板顶部设有移动框,所述移动框两侧壁设有锯齿,所述锯齿一侧设有齿轮,所述齿轮上设有部分锯齿,所述齿轮一侧设有第二螺纹块,所述第二螺纹块一侧设有第一螺纹块,所述第一螺纹块与所述安装框转动相连;所述移动板底部两侧转动设有电动杆,所述电动杆两侧设有至少一个横杆,所述横杆一侧设有圆筒框,所述圆筒框表面设有至少一个圆孔,所述圆筒框底部设有底孔,所述水箱底部设有水管,所述水管穿过所述移动板与所述圆筒框 ...
【技术特征摘要】
1.一种半导体生产用晶圆清洗装置,其特征在于:包括水箱,所述水箱底部设有安装框,所述安装框底部两侧设有套筒,所述套筒内设有弹簧,所述弹簧一侧设有移动板,所述移动板与所述套筒滑动相连,所述移动板顶部设有移动框,所述移动框两侧壁设有锯齿,所述锯齿一侧设有齿轮,所述齿轮上设有部分锯齿,所述齿轮一侧设有第二螺纹块,所述第二螺纹块一侧设有第一螺纹块,所述第一螺纹块与所述安装框转动相连;所述移动板底部两侧转动设有电动杆,所述电动杆两侧设有至少一个横杆,所述横杆一侧设有圆筒框,所述圆筒框表面设有至少一个圆孔,所述圆筒框底部设有底孔,所述水箱底部设有水管,所述水管穿过所述移动板与所述圆筒框相连,所述圆筒框下方设有底框,所述底框内设有置物台,所述置物台顶部设有至少一个夹块,所述底框底部设有第一齿轮盘,所述第一齿轮盘底部设有底转杆,所述底转杆底部设有储水框,所述第一齿轮盘之间设有...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈康,刘四化,王宜,张啟涛,
申请(专利权)人:无锡瑞达半导体专用设备有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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