一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，包括安装座以及位于所述安装座上的摆臂组件；所述安装座上设置有上层块与下层块，所述摆臂组件包括驱动马达与由所述驱动马达驱动的摆臂转轴，所述驱动马达通过马达固定板与所述安装座连接，所述摆臂转轴通过同步带结构与所述驱动马达连接，所述摆臂转轴为空心结构体，所述摆臂转轴一端通过上层轴承与所述上层块连接，所述摆臂转轴另一端通过下层轴承与所述下层块连接。本实用新型专利技术的摆臂转轴采用上层轴承与下层轴承进行导向，保证了摆臂转轴的跳动精度，摆臂转轴的中空实现了传输管道的同轴转动，马达固定板上的限位开关，精确控制了摆臂转轴的来回摆动角度。

【技术实现步骤摘要】
一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构
本技术属于精密加工制造
，尤其涉及一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构。
技术介绍
目前，半导体硅晶圆在进行切割加工(金刚石刀轮加工或激光加工)时，半导体硅晶圆产品先是粘贴专用的铁环(目前一般8寸到12寸)在产品表面不允许有杂质或细微颗粒存在，这些杂质或细微颗粒的存在直接会影响产品的品质，所以，在进行加工之前，会在产品表面均匀涂覆一层水溶胶，然后进行加工，加工完成后，需要将水溶胶清洗掉。在进行涂胶的时候，喷胶头需要在晶圆片的中心位置将水溶胶滴在晶圆片上，水溶胶在主轴高速旋转下均匀涂布在晶圆表面，为了防止喷胶头的滴漏，在进行旋转涂胶的时候，喷胶头需要在喷胶完毕后，旋转移开晶圆片区域。在激光加工完毕后，还需要将水溶胶清洗掉，此时，晶圆片在主轴的高速旋转带动下，清洗喷头需要来回摆动，将水溶胶清洗掉。不管是喷胶头还是清洗喷头，其水或者胶的管道都需要旋转摆动，传统的管路使用非同轴旋转摆动，在摆动过程中，传输水或者水溶胶的管道会受到频繁的扭曲，管道容易损坏。为了克服清洗涂胶系统以上提及的问题，满足涂胶清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，包括安装座以及位于所述安装座上的摆臂组件；所述安装座上设置有上层块与下层块，所述摆臂组件包括驱动马达与由所述驱动马达驱动的摆臂转轴，所述驱动马达通过马达固定板与所述安装座连接，所述摆臂转轴通过同步带结构与所述驱动马达连接，所述摆臂转轴为空心结构体，所述摆臂转轴一端通过上层轴承与所述上层块连接，所述摆臂转轴另一端通过下层轴承与所述下层块连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，包括安装座以及位于所述安装座上的摆臂组件；所述安装座上设置有上层块与下层块，所述摆臂组件包括驱动马达与由所述驱动马达驱动的摆臂转轴，所述驱动马达通过马达固定板与所述安装座连接，所述摆臂转轴通过同步带结构与所述驱动马达连接，所述摆臂转轴为空心结构体，所述摆臂转轴一端通过上层轴承与所述上层块连接，所述摆臂转轴另一端通过下层轴承与所述下层块连接。


2.根据权利要求1所述的一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，所述同步带结构包括主动带轮、从动带轮以及用于传动的同步皮带，所述主动带轮位于所述驱动马达上，所述从动带轮与所述摆臂转轴相连，所述同步皮带将所述主动带轮与所述从动...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡剑，
申请(专利权)人：苏州汉立光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32